Top > Search of International Patents > FILM, OR FIBER, OF MODIFIED CYCLODEXTRIN, AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME

FILM, OR FIBER, OF MODIFIED CYCLODEXTRIN, AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME

Foreign code F070001583
File No. F070001583
Posted date May 18, 2007
Country WIPO
International application number 2005JP015898
International publication number WO 2006/085404
Date of international filing Aug 31, 2005
Date of international publication Aug 17, 2006
Priority data
  • P2005-073334 (Mar 15, 2005) JP
  • P2005-036233 (Feb 14, 2005) JP
Title FILM, OR FIBER, OF MODIFIED CYCLODEXTRIN, AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME
Abstract A dye-modified cyclodextrin film, such as a medicinal wafer or other packagingfilm (for example, films for packing food and medicine, and package that uponleakage of food, exhibits a color change), whose wide application to pharmaceuticals,foods, agricultural chemicals, etc. is promising. There is provided a dye-modifiedcyclodextrin film comprised of a dye-modified cyclodextrin resulting frommodification of -cyclodextrin with p-methyl red, wherein the p-methylred has a structure enclosed by the -cyclodextrin of a cyclodextrin modifiedwith a dye other than the p-methyl red, so that dye-modified cyclodextrin moleculesaccomplish high-order linkage to each other to thereby form a molecular assembly.
Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】修飾物質で修飾された修飾シクロデキストリンが、分子間で高次に会合して成る修飾シクロデキストリンフィルム又はファイバー。

【請求項2】前記修飾物質とシクロデキストリンの結合部の主鎖の原子数が3以下である請求項1に記載の修飾シクロデキストリンフィルム又はファイバー。

【請求項3】前記結合部がアミド結合、イミン結合、エーテル結合、エステル結合又はアミノ結合からなる請求項2に記載の修飾シクロデキストリンフィルム又はファイバー。

【請求項4】前記修飾物質とシクロデキストリンとの会合定数が103モル-1以上である請求項1から3のいずれかに記載の修飾シクロデキストリンフィルム又はファイバー。

【請求項5】前記修飾物質は色素であることを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載の修飾シクロデキストリンフィルム又はファイバー。

【請求項6】前記修飾シクロデキストリンは、p-メチルレッドで修飾されたα-シクロデキストリンであることを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載の修飾シクロデキストリンフィルム又はファイバー。

【請求項7】請求項1から6のいずれかに記載の修飾シクロデキストリンフィルム又はファイバー中に水溶性高分子を含み、該高分子がシクロデキストリンの空洞内に包接される構造を有することによって、修飾シクロデキストリン同士が分子間で高次に連結した分子集合体を形成してなることを特徴とする修飾シクロデキストリンフィルム又はファイバー。

【請求項8】請求項1から6のいずれかに記載の修飾シクロデキストリンフィルム又はファイバー中に水溶性高分子を含み、該高分子がシクロデキストリンの空洞内に包接されず、高次会合した修飾シクロデキストリンの支持体として機能することを特徴とする修飾シクロデキストリンフィルム又はファイバー。

【請求項9】請求項1から8のいずれかに記載の修飾シクロデキストリンフィルム又はファイバーを用いた分子ふるい。

【請求項10】シクロデキストリンと高次会合体を形成可能な修飾物質で修飾された修飾シクロデキストリンを溶媒に溶解し、前記修飾シクロデキストリンが溶解した溶液を濃縮し、高次会合せしめることを特徴とする修飾シクロデキストリンフィルム又はファイバーの作成方法。

【請求項11】前記修飾物質とシクロデキストリンの結合部の主鎖の原子数が3以下である請求項10に記載の修飾シクロデキストリンフィルム又はファイバーの作成方法。

【請求項12】前記修飾物質とシクロデキストリンとの会合定数が103モル-1以上であることを特徴とする請求項10又は11に記載の修飾シクロデキストリンフィルム又はファイバーの作成方法。

【請求項13】前記修飾シクロデキストリンは、p-メチルレッドで修飾されたα-シクロデキストリンであることを特徴とする請求項10から12のいずれかに記載の修飾シクロデキストリンフィルム又はファイバーの作成方法。

【請求項14】前記溶媒は水である請求項10に記載の修飾シクロデキストリンフィルム又はファイバーの作成方法。
  • Applicant
  • ※All designated countries except for US in the data before July 2012
  • Yamanashi University
  • Inventor
  • Kuwabara, Tetsuo
IPC(International Patent Classification)
Specified countries AE AG AL AM AT AU AZ BA BB BE BF BG BJ BR BW BY BZ CA CF CG CH CI CM CN CO CR CU CY CZ DE DK DM DZ EC EE EG ES FI FR GA GB GD GE GH GM GN GQ GR GW HR HU ID IE IL IN IS IT JP KE KG KM KP KR KZ LC LK LR LS LT LU LV MA MC MD MG MK ML MN MR MW MX MZ NA NE NG NI NL NO NZ OM PG PH PL PT RO RU SC SD SE SG SI SK SL SM SN SY SZ TD TG TJ TM TN TR TT TZ UA UG US UZ VC VN YU ZA ZM ZW
Please feel free to contact us by email or facsimile if you have any interests in this patent.

PAGE TOP

close
close
close
close
close
close