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SOLUBLE TABLET CONTAINING NANOSILICON PARTICLES AND PROCESS FOR PRODUCTION THEREOF

Foreign code F070001695
File No. F070001695
Posted date Sep 21, 2007
Country WIPO
International application number 2006JP315980
International publication number WO 2007/026533
Date of international filing Aug 7, 2006
Date of international publication Mar 8, 2007
Priority data
  • P2005-250051 (Aug 30, 2005) JP
Title SOLUBLE TABLET CONTAINING NANOSILICON PARTICLES AND PROCESS FOR PRODUCTION THEREOF
Abstract Disclosed is a tablet comprising a sodium chloride powder and an abundance of nanosilicon particles having a particle size in the range of 1.5 to 2.0 nm, 2.0 to 2.5 nm or 2.5 to 3.5 nm blended into the powder, which can emit a fluorescent light with blue, green or red color in the blood upon being irradiated with ultraviolet ray or visible light. The tablet can be produced by immersing nanosilicon particles in a mixed solution containing a therapeutic agent and a polymeric compound such as a polysaccharide or protein, subjecting the resulting mixture to a thermal treatment and then mixing the resulting product with a sodium chloride powder.
Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】粒子サイズ1.5~2.0nm、2.0~2.5nm、2.5~3.5nmの何れかのナノシリコン粒子を多数含むナノシリコン粒子を塩化ナトリウム粉末に混入した錠剤であって、紫外光線又は可視光線の照射により、血液内において、青色、緑色、赤色の何れかを蛍光発光することを特徴とするナノシリコン含有溶解錠剤。

【請求項2】前記ナノシリコン粒子が凝集していることを特徴とする請求の範囲1に記載のナノシリコン含有溶解錠剤。

【請求項3】前記ナノシリコン粒子の表面に、薬剤や多糖・蛋白質などの高分子化合物が付着していることを特徴とする請求の範囲1又は2に記載のナノシリコン含有溶解錠剤。

【請求項4】水溶液中で、粒子サイズ1.5~2.0nm、2.0~2.5nm、2.5~3.5nmの何れかのナノシリコン粒子を多数含むナノシリコン粒子に温熱処理を施し、ナノシリコン粒子の表面に未結合手を多数形成し、次いで、上記未結合手を多数有するナノシリコン粒子を塩化ナトリウム粉末に混入することを特徴とするナノシリコン含有溶解錠剤の製造方法。

【請求項5】水溶液中で、粒子サイズ1.5~2.0nm、2.0~2.5nm、2.5~3.5nmの何れかのナノシリコン粒子を多数含むナノシリコン粒子に温熱処理を施し、ナノシリコン粒子の表面に未結合手を多数形成し、次いで、上記未結合手を多数有するナノシリコン粒子を、薬剤や多糖・蛋白質などの高分子化合物を混合した溶液に浸漬して、再度、温熱処理を施し、その後、上記温熱処理後のナノシリコン粒子を塩化ナトリウム粉末に混入することを特徴とするナノシリコン含有溶解錠剤の製造方法。

【請求項6】前記ナノシリコン粒子が、シリコンを微粉砕して溶液中で処理することにより形成されたものであることを特徴とする請求の範囲4又は5に記載のナノシリコン含有溶解錠剤の製造方法。

【請求項7】前記微粉砕後のシリコン粒子の粒子サイズが100μm以下であることを特徴とする請求の範囲6に記載のナノシリコン含有溶解錠剤の製造方法。

【請求項8】前記溶液が、フッ酸、硝酸、酢酸、及び、純水の混合溶液であることを特徴とする請求の範囲6又は7に記載のナノシリコン含有溶解錠剤の製造方法。

【請求項9】前記ナノシリコン粒子が、高周波スパッタリング法で作製したアモルファス酸化ケイ素膜に熱処理を施し、次いで、フッ酸水溶液処理、溶液処理、攪拌処理を施して形成されたものであることを特徴とする請求の範囲4又は5に記載のナノシリコン含有溶解錠剤の製造方法。

【請求項10】前記熱処理の温度が900~1200℃で、かつ、同時間が120分以下であることを特徴とする請求の範囲9に記載のナノシリコン含有溶解錠剤の製造方法。

【請求項11】前記フッ酸水溶液処理において、フッ酸水溶液の濃度が1~50%であり、処理温度が10~70℃であり、かつ、処理時間が10~600秒であることを特徴とする請求の範囲9又は10に記載のナノシリコン含有溶解錠剤の製造方法。

【請求項12】前記攪拌処理の時間が10~600秒であることを特徴とする請求の範囲9~11のいずれかに記載のナノシリコン含有溶解錠剤の製造方法。

【請求項13】前記温熱処理の温度が30~100℃で、同時間が10~60分であることを特徴とする請求の範囲4~12のいずれかに記載のナノシリコン含有溶解錠剤の製造方法。
  • Applicant
  • ※All designated countries except for US in the data before July 2012
  • Tokyo Denki University
  • Inventor
  • Sato, Keisuke
  • Hirakuri, Kenji
IPC(International Patent Classification)
Specified countries AE AG AL AM AT AU AZ BA BB BE BF BG BJ BR BW BY BZ CA CF CG CH CI CM CN CO CR CU CY CZ DE DK DM DZ EC EE EG ES FI FR GA GB GD GE GH GM GN GQ GR GW HN HR HU ID IE IL IN IS IT JP KE KG KM KN KP KR KZ LA LC LK LR LS LT LU LV LY MA MC MD MG MK ML MN MR MW MX MZ NA NE NG NI NL NO NZ OM PG PH PL PT RO RS RU SC SD SE SG SI SK SL SM SN SY SZ TD TG TJ TM TN TR TT TZ UA UG US UZ VC VN ZA ZM ZW
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