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NOVEL SULFONIUM SALT, METHOD FOR PRODUCING SAME AND USE OF SAME meetings

Foreign code F100002195
File No. F100002195
Posted date May 28, 2010
Country WIPO
International application number 2009JP069286
International publication number WO 2010/055887
Date of international filing Nov 12, 2009
Date of international publication May 20, 2010
Priority data
  • P2008-289942 (Nov 12, 2008) JP
Title NOVEL SULFONIUM SALT, METHOD FOR PRODUCING SAME AND USE OF SAME meetings
Abstract A novel -(trifluoromethyl)vinyldiaryl sulfonium salt represented by general formula (I), which can be used for simple syntheses of various useful compounds each containing a trifluoromethyl group, or the like.(In formula (I), R1 and R2 each independently represents an aryl group, and an aromatic hydrocarbon constituting the aryl group may be substituted by a lower alkyl group, a lower haloalkyl group, a lower alkoxy group, a hydroxyl group or a halogen atom.)
Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】 次の一般式(I)で表されることを特徴とするβ-(トリフルオロメチル)ビニルジアリールスルホニウム塩。
【化学式1】(式中、R1およびR2は、互いに独立して、低級アルキル基、低級ハロアルキル基、低級アルコキシ基、水酸基またはハロゲン原子により置換されていてもよいアリール基を表し、X-は対イオンを構成する陰イオン基を表す。また、波線はシス体もしくはトランス体またはそれらの混合物であることを表す。)

【請求項2】 次の一般式(II)で表されることを特徴とし、ビルディングブロック剤として好適なβ-(トリフルオロメチル)ビニルジアリールスルホニウム塩。
【化学式2】(X-は対イオンを構成する陰イオン基を表す。)

【請求項3】 次の一般式(III)で表されることを特徴とし、ビルディングブロック剤として好適なβ-(トリフルオロメチル)ビニルジアリールスルホニウム塩。
【化学式3】(X-は対イオンを構成する陰イオン基を表す。)

【請求項4】 次の一般式(IV)で表されることを特徴とし、ビルディングブロック剤として好適なβ-(トリフルオロメチル)ビニルジアリールスルホニウム塩。
【化学式4】(X-は対イオンを構成する陰イオン基を表す。)

【請求項5】 次の一般式(V)で表されることを特徴とし、ビルディングブロック剤として好適なβ-(トリフルオロメチル)ビニルジアリールスルホニウム塩。
【化学式5】(X-は対イオンを構成する陰イオン基を表す。)

【請求項6】 次の反応式(VI)で表されるように、式(VIa)で表される2-ブロモ-3,3,3-トリフルオロプロペンと、一般式(VIb)で表される芳香族チオールとを反応させて、一般式(VIc)で表されるトリフルオロメチルを含有するビニルスルフィドを生成し、さらに反応式(VII)で表されるように、該生成されたビニルスルフィドと、一般式(VIIa)で表されるハロゲン化ジアリールとをハロゲン系非極性溶媒下に反応させることを特徴とする、請求項1記載の一般式(I)で表されるβ-(トリフルオロメチル)ビニルジアリールスルホニウム塩の製造方法。
【化学式6】(反応式中、R1、R2およびR3は、互いに独立して、低級アルキル基、低級ハロアルキル基、アルコキシ基、水酸基により置換されていてもよいアリール基を表し、X-は対イオンを構成する陰イオン基を表し、Yはハロゲン基を表す。また、波線はシス体もしくはトランス体またはそれらの混合物であることを表す。)

【請求項7】 請求項1に記載の一般式(I)で表されるβ-(トリフルオロメチル)ビニルジアリールスルホニウム塩と、第1級アミン化合物とを反応させて、トリフルオロメチル基を含有し、且つ一般式(I)のR1およびR2が残存しないアジリジン化合物を生成することを特徴とする、アジリジン化合物の製造方法。

【請求項8】 請求項1に記載の一般式(I)で表されるβ-(トリフルオロメチル)ビニルジアリールスルホニウム塩と、アミド化合物とを反応させて、トリフルオロメチル基を含有し、且つ一般式(I)のR1およびR2が残存しないアミド化合物を生成することを特徴とする、アミド化合物の製造方法。

【請求項9】 請求項1に記載の一般式(I)で表されるβ-(トリフルオロメチル)ビニルジアリールスルホニウム塩と、イミド化合物とを反応させて、トリフルオロメチル基を含有し、且つ一般式(I)のR1およびR2が残存しないイミド化合物を生成することを特徴とする、イミド化合物の製造方法。

【請求項10】 請求項1に記載の一般式(I)で表されるβ-(トリフルオロメチル)ビニルジアリールスルホニウム塩と、アルコールとを反応させて、トリフルオロメチル基を含有し、且つ一般式(I)のR1およびR2が残存しないアルコキシ化合物を生成することを特徴とする、アルコキシ化合物の製造方法。

【請求項11】 請求項1に記載の一般式(I)で表されるβ-(トリフルオロメチル)ビニルジアリールスルホニウム塩と、リン化合物とを反応させて、トリフルオロメチル基を含有し、且つ一般式(I)のR1およびR2が残存しないリン化合物を生成することを特徴とする、リン化合物の製造方法。
  • Applicant
  • ※All designated countries except for US in the data before July 2012
  • Saga University
  • Inventor
  • Hanamoto Takeshi
IPC(International Patent Classification)
Specified countries AE AG AL AM AO AT AU AZ BA BB BE BF BG BH BJ BR BW BY BZ CA CF CG CH CI CL CM CN CO CR CU CY CZ DE DK DM DO DZ EC EE EG ES FI FR GA GB GD GE GH GM GN GQ GR GT GW HN HR HU ID IE IL IN IS IT JP KE KG KM KN KP KR KZ LA LC LK LR LS LT LU LV LY MA MC MD ME MG MK ML MN MR MT MW MX MY MZ NA NE NG NI NL NO NZ OM PE PG PH PL PT RO RS RU SC SD SE SG SI SK SL SM SN ST SV SY SZ TD TG TJ TM TN TR TT TZ UA UG US UZ VC VN ZA ZM ZW
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