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COMPOSITION FOR INDUCING TH2 CELL, THERAPEUTIC COMPOSITION FOR TH2-TYPE DISEASE, AND USE OF SAME meetings

Foreign code F100002318
Posted date Dec 8, 2010
Country WIPO
International application number 2009JP005625
International publication number WO 2010/050167
Date of international filing Oct 26, 2009
Date of international publication May 6, 2010
Priority data
  • P2008-281930 (Oct 31, 2008) JP
Title COMPOSITION FOR INDUCING TH2 CELL, THERAPEUTIC COMPOSITION FOR TH2-TYPE DISEASE, AND USE OF SAME meetings
Abstract Disclosed is a complex composed of an antigen and an IgE capable of binding to the antigen. Also disclosed is a composition comprising an antigen and an IgE capable of binding to the antigen. Further disclosed is a method for utilizing the complex or the composition. It becomes possible to induce a Th2 cell from a naive T cell. Further, since the mechanism of action of a Th2-type immune response, particularly the mechanism of production of primary IL-4, is revealed, it comes possible to provide a technique for treating/preventing a Th2-type disease.
Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】 抗原と該抗原に結合するIgEとからなる、複合体。

【請求項2】 抗原、および該抗原に結合するIgEを含有している、ナイーブT細胞をTh2細胞に誘導するための組成物。

【請求項3】 抗原、該抗原に結合するIgE、および好塩基球を備えている、ナイーブT細胞をTh2細胞に誘導するためのキット。

【請求項4】 ナイーブT細胞をTh2細胞に誘導する方法であって、
 抗原と該抗原に結合するIgEとからなる複合体を形成させる第1工程、
 該複合体の存在下で、好塩基球を培養する第2工程、および
 ナイーブT細胞を、第2工程にて培養した後の好塩基球とともに培養する第3工程
を包含する、方法。

【請求項5】 抗原、および該抗原に結合するIgEを含有している、IL-4を生成するための組成物。

【請求項6】 抗原、該抗原に結合するIgE、および好塩基球を備えている、IL-4を生成するためのキット。

【請求項7】 IL-4を生成する方法であって、
 抗原と該抗原に結合するIgEとからなる複合体を形成させる第1工程、および
 該複合体の存在下で、好塩基球を培養する第2工程
を包含する、生成方法。

【請求項8】 ナイーブT細胞を、上記第2工程にて培養した後の好塩基球とともに培養する第3工程
をさらに包含する、請求項7に記載の生成方法。

【請求項9】 抗原、および該抗原に結合するIgEを含有している、IgEを生成するための組成物。

【請求項10】 抗原、該抗原に結合するIgE、および好塩基球を備えている、IgEを生成するためのキット。

【請求項11】 IgEを生成する方法であって、
 抗原と該抗原に結合するIgEとからなる複合体を形成させる第1工程、
 該複合体の存在下で、好塩基球を培養する第2工程、
 ナイーブT細胞を、第2工程にて培養した後の好塩基球とともに培養する第3工程、ならびに
 B細胞を、該抗原および抗原提示細胞の存在下で、第3工程において誘導されたTh2細胞とともに培養する第4工程
を包含する、生成方法。

【請求項12】 上記第4工程にて生成されたIgEの存在下で、上記抗原、上記Th2細胞およびB細胞を培養する第5工程
をさらに包含する、請求項11に記載の生成方法。

【請求項13】 抗原、および該抗原に結合するIgEを含有している、Th2型疾患に対する治療剤をスクリーニングするための組成物。

【請求項14】 前記疾患が、花粉症、気管支喘息、アトピー性皮膚炎、アレルギー性腸炎、アレルギー性結膜炎およびアレルギー性鼻炎からなる群より選択される、請求項13に記載の組成物。

【請求項15】 抗原、該抗原に結合するIgE、および好塩基球を備えている、Th2型疾患に対する治療剤をスクリーニングするためのキット。

【請求項16】 前記疾患が、花粉症、気管支喘息、アトピー性皮膚炎、アレルギー性腸炎、アレルギー性結膜炎およびアレルギー性鼻炎からなる群より選択される、請求項15に記載のキット。

【請求項17】 Th2型疾患に対する治療剤のスクリーニング方法であって、
 抗原と該抗原に結合するIgEとからなる複合体を形成させる第1工程、および
 該複合体の存在下で、好塩基球を培養する第2工程
を包含する、方法。

【請求項18】 上記第2工程を候補物質の存在下または非存在下で行い、第2工程後の好塩基球の細胞表面上に提示されているMHCクラスII分子またはCD80分子の量を測定する、請求項17に記載の方法。

【請求項19】 ナイーブT細胞を、上記第2工程にて培養した後の好塩基球とともに培養する第3工程をさらに包含し、
 第2工程または第3工程を候補物質の存在下または非存在下で行い、第3工程において誘導されたTh2細胞の量を測定する、請求項17に記載の方法。

【請求項20】 B細胞を、上記抗原および抗原提示細胞の存在下で、上記第3工程において誘導されたTh2細胞とともに培養してIgEを生成する第4工程をさらに包含し、
 上記第2工程~第4工程の少なくとも1工程を候補物質の存在下または非存在下で行い、第4工程において生成されたIgEの量を測定する、請求項17に記載の方法。

【請求項21】 上記第4工程にて生成されたIgEの存在下で、上記抗原、Th2細胞およびB細胞を培養する第5工程をさらに包含し、
 上記第2工程~第5工程の少なくとも1工程を候補物質の存在下または非存在下で行い、第5工程において生成されたIgEの量を測定するする、請求項17に記載の方法。

【請求項22】 Th2型疾患に対する治療剤のスクリーニング方法であって、
 上記第2工程にて培養した後の好塩基球を動物に投与してモデル動物を作製する工程、
 該モデル動物に候補物質を投与する工程、および
 該候補物質を投与した後のモデル動物における、Th2型疾患に対する改善効果の有無を測定する工程
をさらに包含する、請求項17に記載の方法。

【請求項23】 前記疾患が、花粉症、気管支喘息、アトピー性皮膚炎、アレルギー性腸炎、アレルギー性結膜炎およびアレルギー性鼻炎からなる群より選択される、請求項17~22のいずれか1項に記載のスクリーニング方法。

【請求項24】 Th2型疾患のモデル動物を作製する方法であって、
 抗原と該抗原に結合するIgEとからなる複合体を形成させる第1工程、
 該複合体の存在下で、好塩基球を培養する第2工程、および
 該複合体の存在下で培養した後の好塩基球を、動物に投与する工程
を包含する、作製方法。

【請求項25】 前記疾患が気管支喘息であり、前記遊離複合体の存在下での培養後の好塩基球を経鼻投与することを包含する、請求項24に記載の作製方法。

【請求項26】 好塩基球を枯渇させる物質またはFcεR1の機能を阻害する物質を含有している、Th2型疾患を処置するための組成物。

【請求項27】 FcεR1に対する抗体を含有している、請求項26に記載の組成物。

【請求項28】 Th2型疾患を処置する方法であって、
 被験体から好塩基球を枯渇させる工程、または
 被験体にFcεR1の機能を阻害する物質を投与する工程
を包含する、方法。

【請求項29】 被験体に、FcεR1に対する抗体を投与する工程を包含する、請求項28に記載の方法。
  • Applicant
  • ※All designated countries except for US in the data before July 2012
  • HYOGO COLLEGE OF MEDICINE
  • Inventor
  • NAKANISHI, Kenji
  • YOSHIMOTO, Tomohiro
IPC(International Patent Classification)
Specified countries AE(UTILITY MODEL),AG,AL(UTILITY MODEL),AM(PROVISIONAL PATENT)(UTILITY MODEL),AO(UTILITY MODEL),AT(UTILITY MODEL),AU,AZ(UTILITY MODEL),BA,BB,BG(UTILITY MODEL),BH(UTILITY MODEL),BR(UTILITY MODEL),BW(UTILITY MODEL),BY(UTILITY MODEL),BZ(UTILITY MODEL),CA,CH,CL(UTILITY MODEL),CN(UTILITY MODEL),CO(UTILITY MODEL),CR(UTILITY MODEL),CU(INVENTOR'S CERTIFICATE),CZ(UTILITY MODEL),DE(UTILITY MODEL),DK(UTILITY MODEL),DM,DO(UTILITY MODEL),DZ,EC(UTILITY MODEL),EE(UTILITY MODEL),EG(UTILITY MODEL),ES(UTILITY MODEL),FI(UTILITY MODEL),GB,GD,GE(UTILITY MODEL),GH(UTILITY CERTIFICATE),GM,GT(UTILITY MODEL),HN,HR(CONSENSUAL PATENT),HU(UTILITY MODEL),ID,IL,IN,IS,JP(UTILITY MODEL),KE(UTILITY MODEL),KG(UTILITY MODEL),KM,KN,KP(INVENTOR'S CERTIFICATE)(UTILITY MODEL),KR(UTILITY MODEL),KZ(PROVISIONAL PATENT)(UTILITY MODEL),LA,LC,LK,LR,LS(UTILITY MODEL),LT,LU,LY,MA,MD(UTILITY MODEL),ME,MG,MK,MN,MW,MX(UTILITY MODEL),MY(UTILITY-INNOVATION),MZ(UTILITY MODEL),NA,NG,NI(UTILITY MODEL),NO,NZ,OM(UTILITY MODEL),PE(UTILITY MODEL),PG,PH(UTILITY MODEL),PL(UTILITY MODEL),PT(UTILITY MODEL),RO,RS(PETTY PATENT),RU(UTILITY MODEL),SC,SD,SE,SG,SK(UTILITY MODEL),SL(UTILITY MODEL),SM,ST,SV(UTILITY MODEL),SY,TJ(UTILITY MODEL),TM(PROVISIONAL PATENT),TN,TR(UTILITY MODEL),TT(UTILITY CERTIFICATE),TZ,UA(UTILITY MODEL),UG(UTILITY CERTIFICATE),US,UZ(UTILITY MODEL),VC(UTILITY CERTIFICATE),VN(PATENT FOR UTILITY SOLUTION),ZA,ZM,ZW,EP(AT,BE,BG,CH,CY,CZ,DE,DK,EE,ES,FI,FR,GB,GR,HR,HU,IE,IS,IT,LT,LU,LV,MC,MK,MT,NL,NO,PL,PT,RO,SE,SI,SK,SM,TR),OA(BF(UTILITY MODEL),BJ(UTILITY MODEL),CF(UTILITY MODEL),CG(UTILITY MODEL),CI(UTILITY MODEL),CM(UTILITY MODEL),GA(UTILITY MODEL),GN(UTILITY MODEL),GQ(UTILITY MODEL),GW(UTILITY MODEL),ML(UTILITY MODEL),MR(UTILITY MODEL),NE(UTILITY MODEL),SN(UTILITY MODEL),TD(UTILITY MODEL),TG(UTILITY MODEL)),AP(BW(UTILITY MODEL),GH(UTILITY MODEL),GM(UTILITY MODEL),KE(UTILITY MODEL),LS(UTILITY MODEL),MW(UTILITY MODEL),MZ(UTILITY MODEL),NA(UTILITY MODEL),SD(UTILITY MODEL),SL(UTILITY MODEL),SZ(UTILITY MODEL),TZ(UTILITY MODEL),UG(UTILITY MODEL),ZM(UTILITY MODEL),ZW(UTILITY MODEL)),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ,MD,RU,TJ,TM)

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