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MICRO-DROPLET DISPENSING DEVICE

Foreign code F100002333
Posted date Dec 14, 2010
Country WIPO
International application number 2009JP055816
International publication number WO 2009/119578
Date of international filing Mar 24, 2009
Date of international publication Oct 1, 2009
Priority data
  • P2008-079375 (Mar 25, 2008) JP
Title MICRO-DROPLET DISPENSING DEVICE
Abstract Provided is a microreactor of a simple structure wherein monodisperse droplets can be dispensed stably over a long term by making a simple improvement to a conventional microreactor. A microreactor (1) for dispensing liquid droplets by forming a fluid-flowing channel (2) by laminating a plurality of substrates so that fluid becoming a continuous phase shears fluid becoming a dispersed phase, wherein integrally laminated are: a channel substrate (5) in which channels (2) for passing the fluid of continuous phase and the fluid of dispersed phase, respectively, and a merging section (3b) of the channels (2) are opened; spacer substrates (4, 6) bonded to one or both sides of the channel substrate (5) and forming space portions (3a, 3c) each having a predetermined space in one vertical direction with respect to the merging section (3b) of the channel substrate (5); and lid substrates (7, 8) for bonding the spacer substrates (4, 6), respectively, to the opposite sides of the channel substrate (5) or bonding the spacer substrates to one side of the channel substrate (5) and then bonding the spacer substrates from the opposite outsides thereof thus closing the spacer substrates.
Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】 連続相となる流体が分散相となる流体を剪断することによって液滴を調製する微小液滴調製装置であって、
 前記連続相となる流体と前記分散相となる流体とが合流する流路における天井部及び底部の両方が、或いは天井部もしくは底部の少なくとも一方が、前記各流体合流時における流体の流れに対して所定の間隔を有するように形成されたことを特徴とする微小液滴調製装置。

【請求項2】 前記流路は、
 前記連続相と前記分散相の各流体が流れる流路と前記各流路が合流する合流部とが開口形成された流路基板と、
 前記流路基板の両方または一方の面に接合され、前記流路基板の合流部に対して鉛直方向の一方に所定の空間を有するスペース部を形成するスペーサー基板と、
 前記流路基板の両方の面に前記スペーサー基板を各々接合し、または、前記流路基板の一方の面に前記スペーサー基板を接合して、その両外側から接合して閉塞する蓋基板と、
を一体的に積層して形成したことを特徴とする請求項1に記載の微小液滴調製装置。

【請求項3】 前記流路基板に開口形成された前記連続相と前記分散相の各流体が流れる前記各流路の上流側に、前記各流路のそれぞれに連通する所定の開口部を備え、
 前記流路基板の両方の面に接合される前記スペーサー基板のどちらか一方と、その外側から接合して閉塞する蓋基板のそれぞれにおいて、前記所定の開口部に対応する位置に開口部を備え、
前記流路基板と、前記開口部を備えたスペーサー基板と、前記開口部を備えた蓋基板とを積層することで、前記各流路のそれぞれに連通する連続相を供給する連続相供給部と分散相を供給する分散相供給部とを形成したことを特徴とする請求項1または請求項2に記載の微小液滴調製装置。

【請求項4】 前記流路基板の両方の面に接合される前記スペーサー基板の前記スペース部を前記流路基板に開口形成された合流部の両外側の対応する位置に配置したことを特徴とする請求項1乃至請求項3の何れか一項に記載の微小液滴調製装置。

【請求項5】 前記流路基板の前記合流部内の上流側において、連続相が分散相を剪断することを特徴とする請求項1乃至請求項4の何れか一項に記載の微小液滴調製装置。

【請求項6】 前記流路基板の両方の面に接合される前記スペーサー基板のそれぞれに形成された前記スペース部が、前記流路基板に開口形成された前記合流部に対応する位置に穿設された凹入部もしくは開口形成された開口部であることを特徴とする請求項1乃至請求項5の何れか一項に記載の微小液滴調製装置。

【請求項7】 前記流路基板の両方の面に接合される前記スペーサー基板のそれぞれに形成された前記スペース部が、同形状であることを特徴とする請求項1乃至請求項6の何れか一項に記載の微小液滴調製装置。

【請求項8】 前記流路基板の両方の面に接合される前記スペーサー基板は、板厚が同じであることを特徴とする請求項1乃至請求項7の何れか一項に記載の微小液滴調製装置。

【請求項9】 前記流路基板の両方の面に接合され、前記流路基板の前記合流部に対して鉛直方向の一方に所定の空間を有する前記スペース部を形成する前記スペーサー基板と、該スペーサー基板を外側から接合して閉塞する前記蓋基板とを一体化して形成し、
 前記流路基板の前記合流部の両外側に対応する位置に前記各スペース部を備えるとともに、前記各スペース部が前記流路基板の前記合流部の位置と一致するよう両外側から挟んで一体的に積層したことを特徴とする請求項1乃至請求項5に記載の微小液滴調製装置。
  • Applicant
  • ※All designated countries except for US in the data before July 2012
  • National University Corporation Okayama University
  • Inventor
  • ONO, Tsutomu
IPC(International Patent Classification)
Specified countries AE(UTILITY MODEL),AG,AL(UTILITY MODEL),AM(PROVISIONAL PATENT)(UTILITY MODEL),AO(UTILITY MODEL),AT(UTILITY MODEL),AU,AZ(UTILITY MODEL),BA,BB,BG(UTILITY MODEL),BH(UTILITY MODEL),BR(UTILITY MODEL),BW(UTILITY MODEL),BY(UTILITY MODEL),BZ(UTILITY MODEL),CA,CH,CN(UTILITY MODEL),CO(UTILITY MODEL),CR(UTILITY MODEL),CU(INVENTOR'S CERTIFICATE),CZ(UTILITY MODEL),DE(UTILITY MODEL),DK(UTILITY MODEL),DM(UTILITY MODEL),DO(UTILITY MODEL),DZ,EC(UTILITY MODEL),EE(UTILITY MODEL),EG(UTILITY MODEL),ES(UTILITY MODEL),FI(UTILITY MODEL),GB,GD,GE(UTILITY MODEL),GH(UTILITY CERTIFICATE),GM,GT(UTILITY MODEL),HN,HR(CONSENSUAL PATENT),HU(UTILITY MODEL),ID,IL,IN,IS,JP(UTILITY MODEL),KE(UTILITY MODEL),KG(UTILITY MODEL),KM,KN,KP(INVENTOR'S CERTIFICATE)(UTILITY MODEL),KR(UTILITY MODEL),KZ(PROVISIONAL PATENT)(UTILITY MODEL),LA,LC,LK,LR,LS(UTILITY MODEL),LT,LU,LY,MA,MD(UTILITY MODEL),ME,MG,MK,MN,MW,MX(UTILITY MODEL),MY(UTILITY-INNOVATION),MZ(UTILITY MODEL),NA,NG,NI(UTILITY MODEL),NO,NZ,OM(UTILITY MODEL),PG,PH(UTILITY MODEL),PL(UTILITY MODEL),PT(UTILITY MODEL),RO,RS(PETTY PATENT),RU(UTILITY MODEL),SC,SD,SE,SG,SK(UTILITY MODEL),SL(UTILITY MODEL),SM,ST,SV(UTILITY MODEL),SY,TJ(UTILITY MODEL),TM(PROVISIONAL PATENT),TN,TR(UTILITY MODEL),TT(UTILITY CERTIFICATE),TZ,UA(UTILITY MODEL),UG(UTILITY CERTIFICATE),US,UZ(UTILITY MODEL),VC(UTILITY CERTIFICATE),VN(PATENT FOR UTILITY SOLUTION),ZA,ZM,ZW,EP(AT,BE,BG,CH,CY,CZ,DE,DK,EE,ES,FI,FR,GB,GR,HR,HU,IE,IS,IT,LT,LU,LV,MC,MK,MT,NL,NO,PL,PT,RO,SE,SI,SK,TR),OA(BF(UTILITY MODEL),BJ(UTILITY MODEL),CF(UTILITY MODEL),CG(UTILITY MODEL),CI(UTILITY MODEL),CM(UTILITY MODEL),GA(UTILITY MODEL),GN(UTILITY MODEL),GQ(UTILITY MODEL),GW(UTILITY MODEL),ML(UTILITY MODEL),MR(UTILITY MODEL),NE(UTILITY MODEL),SN(UTILITY MODEL),TD(UTILITY MODEL),TG(UTILITY MODEL)),AP(BW(UTILITY MODEL),GH(UTILITY MODEL),GM(UTILITY MODEL),KE(UTILITY MODEL),LS(UTILITY MODEL),MW(UTILITY MODEL),MZ(UTILITY MODEL),NA(UTILITY MODEL),SD(UTILITY MODEL),SL(UTILITY MODEL),SZ(UTILITY MODEL),TZ(UTILITY MODEL),UG(UTILITY MODEL),ZM(UTILITY MODEL),ZW(UTILITY MODEL)),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ,MD,RU,TJ,TM)

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