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PLASMA GENERATING DEVICE AND METHOD commons meetings

Foreign code F110002535
Posted date Mar 17, 2011
Country WIPO
International application number 2009JP056758
International publication number WO 2009/123243
Date of international filing Mar 31, 2009
Date of international publication Oct 8, 2009
Priority data
  • P2008-094330 (Mar 31, 2008) JP
Title PLASMA GENERATING DEVICE AND METHOD commons meetings
Abstract Provided are a plasma generating device and a method for generating plasma in a long, narrow tube by electrodeless discharge and plasma treating of the interior of the long, narrow tube. The plasma generating device has a container (1) that can house a long, narrow tube (9), as well as adjust the internal pressure, a magnetic field application means (8) for applying a magnetic field to at least a portion of said long, narrow tube, and a microwave-supplying means (2) that injects microwaves into said container. Plasma is generated in said long, narrow tube by injection of microwaves into said container with the pressure inside said long, narrow tube adjusted to a prescribed pressure above the pressure in said container and with a magnetic field applied to at least a portion of said long, narrow tube.
Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】 長尺状細管を収容可能であると共に、内部圧力を調整可能な容器と、
 該長尺状細管の少なくとも一部に磁界を印加する磁界印加手段と、
 該容器内にマイクロ波を入射するマイクロ波供給手段とを有し、
 該長尺状細管の内部の圧力を、該容器内の圧力より高い所定の圧力に調整し、かつ該長尺状細管の少なくとも一部に磁界を印加した状態で、該容器内にマイクロ波を入射することにより、該長尺状細管内にプラズマを生成することを特徴とするプラズマ生成装置。

【請求項2】 請求項1に記載のプラズマ生成装置において、該磁界印加手段は、永久磁石又は電磁石の少なくとも一方を用いて構成されることを特徴とするプラズマ生成装置。

【請求項3】 請求項2に記載のプラズマ生成装置において、該磁界印加手段は複数の永久磁石又は電磁石で構成し、各磁石を同一磁極が対面するよう配置することを特徴とするプラズマ生成装置。

【請求項4】 請求項1乃至3のいずれかに記載のプラズマ生成装置において、該容器の内部圧力を調整する圧力調整手段は、容器内の圧力を1Pa以下に減圧することが可能なように構成されていることを特徴とするプラズマ生成装置。

【請求項5】 請求項1乃至4のいずれかに記載のプラズマ生成装置において、該長尺状細管は、滅菌対象物であることを特徴とするプラズマ生成装置。

【請求項6】 請求項5に記載のプラズマ生成装置において、該容器内には、酸素、アルゴン、又は空気の少なくとも一つを含むガスが導入されることを特徴とするプラズマ生成装置。

【請求項7】 請求項1乃至4のいずれかに記載のプラズマ生成装置において、該長尺状細管は、内壁面を被膜コーティング又はプラズマエッチングを行う対象物であることを特徴とするプラズマ生成装置。

【請求項8】 請求項1乃至5又は7のいずれかに記載のプラズマ生成装置において、該長尺状細管に、ガスを直接導入することを特徴とするプラズマ生成装置。

【請求項9】 長尺状細管を容器内に収容し、
 該長尺状細管の内部を、該容器内の圧力より高い所定の圧力に調整し、かつ、該長尺状細管の少なくとも一部に磁界を印加した状態で、該容器内にマイクロ波を入射することにより、該長尺状細管内にプラズマを生成することを特徴とするプラズマ生成方法。

【請求項10】 請求項9に記載のプラズマ生成方法において、該長尺状細管の内部と外部とで所定の圧力差を有するように、該長尺状細管の内部又は外部の圧力を調整することを特徴とするプラズマ生成方法。

【請求項11】 請求項10に記載のプラズマ生成方法において、該圧力差を発生させる方法は、該長尺状細管の少なくとも一部を曲げた状態に保持する方法、該長尺状細管の端部の開口を狭くする方法のいずれかであることを特徴とするプラズマ生成方法。

【請求項12】 請求項9乃至11のいずれかに記載のプラズマ生成方法において、該容器内に該磁界を印加する磁界印加手段の少なくとも一部を配置し、該長尺状細管を該磁界印加手段の一部に巻付けるように配置することを特徴とするプラズマ生成方法。

【請求項13】 請求項9乃至11のいずれかに記載のプラズマ生成装方法において、該磁界がソレノイド磁場又はミラー磁場であり、該長尺状細管は、該磁場の中心付近に配置されることを特徴とするプラズマ生成方法。

【請求項14】 請求項9乃至13のいずれかに記載のプラズマ生成方法において、該長尺状細管内でのプラズマ生成時の内部圧力は、0.01~1Paであることを特徴とするプラズマ生成方法。

【請求項15】 請求項9乃至14のいずれかに記載のプラズマ生成方法において、該長尺状細管は、滅菌対象物であることを特徴とするプラズマ生成方法。

【請求項16】 請求項15に記載のプラズマ生成方法において、該容器内には、酸素、アルゴン、又は空気の少なくとも一つを含むガスが導入されることを特徴するプラズマ生成方法。

【請求項17】 請求項15又は16に記載のプラズマ生成方法において、該マイクロ波の入力パワーを調整し、該長尺状細管の内部温度を60℃以下に保持することを特徴とするプラズマ生成方法。

【請求項18】 請求項15乃至17のいずれかに記載のプラズマ生成方法において、該長尺状細管は細菌やウイルスの侵入を防止する樹脂製袋に収容されていることを特徴とするプラズマ生成方法。

【請求項19】 請求項9乃至14のいずれかに記載のプラズマ生成方法において、該長尺状細管は、内壁面を被膜コーティング又はプラズマエッチングを行う対象物であることを特徴とするプラズマ生成方法。

【請求項20】 請求項9乃至15又は19のいずれかに記載のプラズマ生成方法において、該長尺状細管に、ガスを直接導入することを特徴とするプラズマ生成方法。
  • Applicant
  • ※All designated countries except for US in the data before July 2012
  • UNIVERSITY OF THE RYUKYUS
  • SAGA UNIVERSITY
  • Inventor
  • YONESU, Akira
  • HAYASHI, Nobuya
IPC(International Patent Classification)
Specified countries AE(UTILITY MODEL),AG,AL(UTILITY MODEL),AM(PROVISIONAL PATENT)(UTILITY MODEL),AO(UTILITY MODEL),AT(UTILITY MODEL),AU,AZ(UTILITY MODEL),BA,BB,BG(UTILITY MODEL),BH(UTILITY MODEL),BR(UTILITY MODEL),BW(UTILITY MODEL),BY(UTILITY MODEL),BZ(UTILITY MODEL),CA,CH,CN(UTILITY MODEL),CO(UTILITY MODEL),CR(UTILITY MODEL),CU(INVENTOR'S CERTIFICATE),CZ(UTILITY MODEL),DE(UTILITY MODEL),DK(UTILITY MODEL),DM(UTILITY MODEL),DO(UTILITY MODEL),DZ,EC(UTILITY MODEL),EE(UTILITY MODEL),EG(UTILITY MODEL),ES(UTILITY MODEL),FI(UTILITY MODEL),GB,GD,GE(UTILITY MODEL),GH(UTILITY CERTIFICATE),GM,GT(UTILITY MODEL),HN,HR(CONSENSUAL PATENT),HU(UTILITY MODEL),ID,IL,IN,IS,JP(UTILITY MODEL),KE(UTILITY MODEL),KG(UTILITY MODEL),KM,KN,KP(INVENTOR'S CERTIFICATE)(UTILITY MODEL),KR(UTILITY MODEL),KZ(PROVISIONAL PATENT)(UTILITY MODEL),LA,LC,LK,LR,LS(UTILITY MODEL),LT,LU,LY,MA,MD(UTILITY MODEL),ME,MG,MK,MN,MW,MX(UTILITY MODEL),MY(UTILITY-INNOVATION),MZ(UTILITY MODEL),NA,NG,NI(UTILITY MODEL),NO,NZ,OM(UTILITY MODEL),PG,PH(UTILITY MODEL),PL(UTILITY MODEL),PT(UTILITY MODEL),RO,RS(PETTY PATENT),RU(UTILITY MODEL),SC,SD,SE,SG,SK(UTILITY MODEL),SL(UTILITY MODEL),SM,ST,SV(UTILITY MODEL),SY,TJ(UTILITY MODEL),TM(PROVISIONAL PATENT),TN,TR(UTILITY MODEL),TT(UTILITY CERTIFICATE),TZ,UA(UTILITY MODEL),UG(UTILITY CERTIFICATE),US,UZ(UTILITY MODEL),VC(UTILITY CERTIFICATE),VN(PATENT FOR UTILITY SOLUTION),ZA,ZM,ZW,EP(AT,BE,BG,CH,CY,CZ,DE,DK,EE,ES,FI,FR,GB,GR,HR,HU,IE,IS,IT,LT,LU,LV,MC,MK,MT,NL,NO,PL,PT,RO,SE,SI,SK,TR),OA(BF(UTILITY MODEL),BJ(UTILITY MODEL),CF(UTILITY MODEL),CG(UTILITY MODEL),CI(UTILITY MODEL),CM(UTILITY MODEL),GA(UTILITY MODEL),GN(UTILITY MODEL),GQ(UTILITY MODEL),GW(UTILITY MODEL),ML(UTILITY MODEL),MR(UTILITY MODEL),NE(UTILITY MODEL),SN(UTILITY MODEL),TD(UTILITY MODEL),TG(UTILITY MODEL)),AP(BW(UTILITY MODEL),GH(UTILITY MODEL),GM(UTILITY MODEL),KE(UTILITY MODEL),LS(UTILITY MODEL),MW(UTILITY MODEL),MZ(UTILITY MODEL),NA(UTILITY MODEL),SD(UTILITY MODEL),SL(UTILITY MODEL),SZ(UTILITY MODEL),TZ(UTILITY MODEL),UG(UTILITY MODEL),ZM(UTILITY MODEL),ZW(UTILITY MODEL)),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ,MD,RU,TJ,TM)
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