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METHOD OF PREPARING DECELLULARIZED SOFT TISSUE, GRAFT AND CULTURE MATERIAL

Foreign code F110002597
File No. S2007-0488-C0
Posted date Mar 28, 2011
Country WIPO
International application number 2008JP054207
International publication number WO 2008/111530
Date of international filing Mar 7, 2008
Date of international publication Sep 18, 2008
Priority data
  • P2007-061025 (Mar 9, 2007) JP
Title METHOD OF PREPARING DECELLULARIZED SOFT TISSUE, GRAFT AND CULTURE MATERIAL
Abstract It is intended to provide a method of preparing a decellularized soft tissue whereby swelling after an ultrahigh pressure treatment can be inhibited, etc. The above-described method of preparing a decellularized soft tissue comprises the application step wherein an ultrahigh hydrostatic pressure is applied to an isolated soft tissue in a medium to thereby disrupt cells in the soft tissue, and the removal step wherein the disrupted cells are removed.As the medium, use is made of an aqueous solution containing a water-soluble polysaccharide such as dextran.
Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】動物由来の軟組織が脱細胞化された脱細胞化軟組織の調製方法であって、単離された軟組織に媒体中で超高静水圧を印加することで、前記軟組織内の細胞を破壊する印加手順と、破壊された細胞を除去する除去手順と、を含み、前記媒体は、水溶性多糖を含有する水溶液である調製方法。

【請求項2】前記水溶性多糖は、デキストラン、アルギン酸、ヒアルロン酸、トレハロース、2-メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリン、ポリビニルピロリドンからなる群より選ばれる少なくとも1種である請求項1記載の調製方法。

【請求項3】前記超高静水圧は、1000気圧以上である請求項1又は2記載の調製方法。

【請求項4】前記印加手順は、前記媒体の温度を、前記超高静水圧における前記媒体の融点以上に保持する温度保持手順を有する請求項1から3いずれか記載の調製方法。

【請求項5】前記印加手順は、前記媒体に印加される印加圧が、前記媒体の融解圧以上になることを制限する圧力制限手順を有する請求項1から4いずれか記載の調製方法。

【請求項6】前記軟組織は、角膜である請求項1から5いずれか記載の調製方法。

【請求項7】動物に移植される移植片であって、請求項1から6いずれか記載の調製方法で調製された脱細胞化軟組織を備える移植片。

【請求項8】前記脱細胞化軟組織上に位置し、前記動物において前記軟組織に隣接する隣接組織を更に備える請求項7記載の移植片。

【請求項9】請求項1から6いずれか記載の調製方法で調製された脱細胞化軟組織を備え、前記動物において前記軟組織に隣接する隣接組織の細胞を培養するために用いられる培養部材。
  • Applicant
  • ※All designated countries except for US in the data before July 2012
  • National University Corporation, Tokyo Medical and Dental University
  • The Japan Health Sciences Foundation
  • Inventor
  • KISHIDA, Akio
  • KIMURA, Tsuyoshi
  • KOBAYASHI, Hisatoshi
  • FUJISATO, Toshiya
IPC(International Patent Classification)
Specified countries AE(UTILITY MODEL),AG,AL(UTILITY MODEL),AM(PROVISIONAL PATENT)(UTILITY MODEL),AO,AT(UTILITY MODEL),AU,AZ(UTILITY MODEL),BA,BB,BG(UTILITY MODEL),BH,BR(UTILITY MODEL),BW(UTILITY MODEL),BY(UTILITY MODEL),BZ(UTILITY MODEL),CA,CH,CN(UTILITY MODEL),CO(UTILITY MODEL),CR(UTILITY MODEL),CU(INVENTOR'S CERTIFICATE),CZ(UTILITY MODEL),DE(UTILITY MODEL),DK(UTILITY MODEL),DM(UTILITY MODEL),DO(UTILITY MODEL),DZ,EC(UTILITY MODEL),EE(UTILITY MODEL),EG(UTILITY MODEL),ES(UTILITY MODEL),FI(UTILITY MODEL),GB,GD,GE(UTILITY MODEL),GH,GM,GT,HN,HR(CONSENSUAL PATENT),HU(UTILITY MODEL),ID,IL,IN,IS,JP(UTILITY MODEL),KE(UTILITY MODEL),KG(UTILITY MODEL),KM,KN,KP(INVENTOR'S CERTIFICATE)(UTILITY MODEL),KR(UTILITY MODEL),KZ(PROVISIONAL PATENT)(UTILITY MODEL),LA,LC,LK,LR,LS(UTILITY MODEL),LT,LU,LY,MA,MD(UTILITY MODEL),ME(PETTY PATENT),MG,MK,MN,MW,MX(UTILITY MODEL),MY(UTILITY-INNOVATION),MZ(UTILITY MODEL),NA,NG,NI(UTILITY MODEL),NO,NZ,OM,PG,PH(UTILITY MODEL),PL(UTILITY MODEL),PT(UTILITY MODEL),RO,RS(PETTY PATENT),RU(UTILITY MODEL),SC,SD,SE,SG,SK(UTILITY MODEL),SL(UTILITY MODEL),SM,SV(UTILITY MODEL),SY,TJ(UTILITY MODEL),TM(PROVISIONAL PATENT),TN,TR(UTILITY MODEL),TT(UTILITY CERTIFICATE),TZ,UA(UTILITY MODEL),UG(UTILITY CERTIFICATE),US,UZ(UTILITY MODEL),VC(UTILITY CERTIFICATE),VN,ZA,ZM,ZW,EP(AT,BE,BG,CH,CY,CZ,DE,DK,EE,ES,FI,FR,GB,GR,HR,HU,IE,IS,IT,LT,LU,LV,MC,MT,NL,NO,PL,PT,RO,SE,SI,SK,TR),OA(BF(UTILITY MODEL),BJ(UTILITY MODEL),CF(UTILITY MODEL),CG(UTILITY MODEL),CI(UTILITY MODEL),CM(UTILITY MODEL),GA(UTILITY MODEL),GN(UTILITY MODEL),GQ(UTILITY MODEL),GW(UTILITY MODEL),ML(UTILITY MODEL),MR(UTILITY MODEL),NE(UTILITY MODEL),SN(UTILITY MODEL),TD(UTILITY MODEL),TG(UTILITY MODEL)),AP(BW,GH,GM,KE,LS,MW,MZ,NA,SD,SL,SZ,TZ,UG,ZM,ZW),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ,MD,RU,TJ,TM)
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