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SPINNING SOLUTION COMPOSITION, PROCESS FOR PRODUCING REGENERATED SILK FIBER USING THE COMPOSITION, AND REGENERATED SILK FIBER PRODUCED BY THE PROCESS

Foreign code F110002601
File No. S2006-0957-C0
Posted date Mar 29, 2011
Country WIPO
International application number 2007JP053929
International publication number WO 2008/004356
Date of international filing Mar 1, 2007
Date of international publication Jan 10, 2008
Priority data
  • P2006-184483 (Jul 4, 2006) JP
Title SPINNING SOLUTION COMPOSITION, PROCESS FOR PRODUCING REGENERATED SILK FIBER USING THE COMPOSITION, AND REGENERATED SILK FIBER PRODUCED BY THE PROCESS
Abstract A spinning solution composition from which there can be obtained a regenerated silk fiber that exhibits a strength and elongation being close to those of natural silk fiber, being rapidly degradable in vivo, and that can be caused to have the capabilities of sustained drug release and inflammation prevention; a process for producing a regenerated silk fiber with the use of the composition; and a regenerated silk fiber produced by the process.
Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】ヘキサフロロイソプロパノール溶媒中に、絹フィブロインおよびヘマチンを含有することを特徴とする紡糸液組成物。

【請求項2】前記絹フィブロインが、精錬した家蚕絹繊維を一旦塩水溶液に溶解して塩を除去した後に、脱水・乾燥して得られる絹フィブロインである、請求項1に記載された紡糸液組成物。

【請求項3】前記紡糸液組成物中の絹フィブロインの含有量が、10~17w/v%の範囲である、請求項1に記載された紡糸液組成物。

【請求項4】前記ヘマチンの含有量が、絹フィブロインの重量1に対し、0.03~0.15重量部の範囲である、請求項1に記載された紡糸液組成物。

【請求項5】更に、炎症を防ぐ薬剤を含有する、請求項1に記載された紡糸液組成物。

【請求項6】請求項1~5の何れかに記載された紡糸液組成物を凝固浴中で紡糸することを特徴とする再生絹繊維の製造方法。

【請求項7】前記凝固浴の溶媒がメタノールである、請求項6に記載された再生絹繊維の製造方法。

【請求項8】前記再生絹繊維を乾燥した後更に2~4倍に延伸する、請求項6に記載された再生絹繊維の製造方法。

【請求項9】請求項1~5に記載された何れかに記載された紡糸液組成物を、凝固浴中で紡糸及び延伸することを特徴とする再生絹繊維の製造方法。

【請求項10】請求項6~9の何れかに記載された製造方法により得られる再生絹繊維。

【請求項11】前記再生絹繊維が手術用縫合糸である、請求項10に記載された再生絹繊維。

【請求項12】請求項9に記載された再生絹繊維の製造方法によって得られる再生弾性絹繊維。
  • Applicant
  • ※All designated countries except for US in the data before July 2012
  • National University Corporation Tokyo University of Agriculture and Technology
  • Inventor
  • ASAKURA, Tetsuo
IPC(International Patent Classification)
Specified countries AE(UTILITY MODEL),AG,AL(UTILITY MODEL),AM(PROVISIONAL PATENT)(UTILITY MODEL),AT(UTILITY MODEL),AU,AZ(UTILITY MODEL),BA,BB,BG(UTILITY MODEL),BR(UTILITY MODEL),BW,BY(UTILITY MODEL),BZ(UTILITY MODEL),CA,CH,CN(UTILITY MODEL),CO(UTILITY MODEL),CR(UTILITY MODEL),CU(INVENTOR'S CERTIFICATE),CZ(UTILITY MODEL),DE(UTILITY MODEL),DK(UTILITY MODEL),DM,DZ,EC(UTILITY MODEL),EE(UTILITY MODEL),EG(UTILITY MODEL),ES(UTILITY MODEL),FI(UTILITY MODEL),GB,GD,GE(UTILITY MODEL),GH,GM,GT,HN,HR(CONSENSUAL PATENT),HU(UTILITY MODEL),ID,IL,IN,IS,JP(UTILITY MODEL),KE(UTILITY MODEL),KG(UTILITY MODEL),KM,KN,KP(INVENTOR'S CERTIFICATE)(UTILITY MODEL),KR(UTILITY MODEL),KZ(PROVISIONAL PATENT)(UTILITY MODEL),LA,LC,LK,LR,LS(UTILITY MODEL),LT,LU,LY,MA,MD(UTILITY MODEL),MG,MK,MN,MW,MX(UTILITY MODEL),MY(UTILITY-INNOVATION),MZ(UTILITY MODEL),NA,NG,NI(UTILITY MODEL),NO,NZ,OM,PG,PH(UTILITY MODEL),PL(UTILITY MODEL),PT(UTILITY MODEL),RO,RS(PETTY PATENT),RU(UTILITY MODEL),SC,SD,SE,SG,SK(UTILITY MODEL),SL(UTILITY MODEL),SM,SV,SY,TJ(UTILITY MODEL),TM(PROVISIONAL PATENT),TN,TR(UTILITY MODEL),TT(UTILITY CERTIFICATE),TZ,UA(UTILITY MODEL),UG(UTILITY CERTIFICATE),US,UZ(UTILITY MODEL),VC(UTILITY CERTIFICATE),VN,ZA,ZM,ZW,EP(AT,BE,BG,CH,CY,CZ,DE,DK,EE,ES,FI,FR,GB,GR,HU,IE,IS,IT,LT,LU,LV,MC,MT,NL,PL,PT,RO,SE,SI,SK,TR),OA(BF(UTILITY MODEL),BJ(UTILITY MODEL),CF(UTILITY MODEL),CG(UTILITY MODEL),CI(UTILITY MODEL),CM(UTILITY MODEL),GA(UTILITY MODEL),GN(UTILITY MODEL),GQ(UTILITY MODEL),GW(UTILITY MODEL),ML(UTILITY MODEL),MR(UTILITY MODEL),NE(UTILITY MODEL),SN(UTILITY MODEL),TD(UTILITY MODEL),TG(UTILITY MODEL)),AP(BW,GH,GM,KE,LS,MW,MZ,NA,SD,SL,SZ,TZ,UG,ZM,ZW),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ,MD,RU,TJ,TM)
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