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METHOD FOR PRODUCING NEURAL STEM CELLS

Foreign code F110002633
File No. S2009-0145-N0
Posted date Apr 5, 2011
Country WIPO
International application number 2009JP005856
International publication number WO 2010/052904
Date of international filing Nov 4, 2009
Date of international publication May 14, 2010
Priority data
  • 61/198,365 (Nov 5, 2008) US
Title METHOD FOR PRODUCING NEURAL STEM CELLS
Abstract In order to provide a method for producing neural stem cells easily and quickly by inducing differentiation of somatic cells directly into neurospheres, dedifferentiation factors are introduced into somatic cells, which are then cultured in suspension in the presence of growth factors to produce the neurospheres, thereby allowing the neural stem cells to be produced quickly without establishing iPS cells.
Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】神経幹細胞の製造方法であって、(i)体細胞に脱分化因子を導入する工程と、(ii)前記脱分化因子が導入された体細胞を増殖因子の存在下で浮遊培養して、ニューロスフェアを製造する工程とを含むことを特徴とする方法。

【請求項2】請求項1に記載の神経幹細胞の製造方法であって、前記工程(i)において、体細胞に脱分化因子を導入したあと、2~14日培養することを特徴とする方法。

【請求項3】前記工程(i)において、脱分化因子として、Sox2、Oct3/4、およびKlf4が体細胞に導入されることを特徴とする請求項1または2に記載の方法。

【請求項4】前記工程(i)において、さらにc-Mycが体細胞に導入されることを特徴とする請求項3に記載の方法。

【請求項5】前記工程(ii)において、前記脱分化因子が導入された体細胞が、LIFおよびFGFの存在下で培養されることを特徴とする請求項1~4のいずれか1項に記載の方法。

【請求項6】請求項1~5のいずれか1項に記載の神経幹細胞の製造方法であって、前記工程(ii)において、前記脱分化因子が導入された体細胞が、cAMPの存在下で培養されることを特徴とする方法。

【請求項7】請求項6に記載の神経幹細胞の製造方法であって、前記工程(ii)において、前記脱分化因子が導入された体細胞が、NACの非存在下で、培養されることを特徴とする方法。

【請求項8】請求項1から7のいずれかに記載の神経幹細胞の製造方法であって、前記体細胞がマウスまたはヒト由来であることを特徴とする方法。

【請求項9】請求項8に記載の神経幹細胞の製造方法であって、前記体細胞が、皮膚または肝臓由来であることを特徴とする方法。

【請求項10】請求項8に記載の神経幹細胞の製造方法であって、前記体細胞が線維芽細胞または肝細胞であることを特徴とする方法。
  • Applicant
  • ※All designated countries except for US in the data before July 2012
  • KEIO UNIVERSITY
  • Inventor
  • AKAMATSU, Wado
  • OKANO, Hideyuki
IPC(International Patent Classification)
Specified countries AE(UTILITY MODEL),AG,AL(UTILITY MODEL),AM(PROVISIONAL PATENT)(UTILITY MODEL),AO(UTILITY MODEL),AT(UTILITY MODEL),AU,AZ(UTILITY MODEL),BA,BB,BG(UTILITY MODEL),BH(UTILITY MODEL),BR(UTILITY MODEL),BW(UTILITY MODEL),BY(UTILITY MODEL),BZ(UTILITY MODEL),CA,CH,CL(UTILITY MODEL),CN(UTILITY MODEL),CO(UTILITY MODEL),CR(UTILITY MODEL),CU(INVENTOR'S CERTIFICATE),CZ(UTILITY MODEL),DE(UTILITY MODEL),DK(UTILITY MODEL),DM,DO(UTILITY MODEL),DZ,EC(UTILITY MODEL),EE(UTILITY MODEL),EG(UTILITY MODEL),ES(UTILITY MODEL),FI(UTILITY MODEL),GB,GD,GE(UTILITY MODEL),GH(UTILITY CERTIFICATE),GM,GT(UTILITY MODEL),HN,HR(CONSENSUAL PATENT),HU(UTILITY MODEL),ID,IL,IN,IS,JP(UTILITY MODEL),KE(UTILITY MODEL),KG(UTILITY MODEL),KM,KN,KP(INVENTOR'S CERTIFICATE)(UTILITY MODEL),KR(UTILITY MODEL),KZ(PROVISIONAL PATENT)(UTILITY MODEL),LA,LC,LK,LR,LS(UTILITY MODEL),LT,LU,LY,MA,MD(UTILITY MODEL),ME,MG,MK,MN,MW,MX(UTILITY MODEL),MY(UTILITY-INNOVATION),MZ(UTILITY MODEL),NA,NG,NI(UTILITY MODEL),NO,NZ,OM(UTILITY MODEL),PE(UTILITY MODEL),PG,PH(UTILITY MODEL),PL(UTILITY MODEL),PT(UTILITY MODEL),RO,RS(PETTY PATENT),RU(UTILITY MODEL),SC,SD,SE,SG,SK(UTILITY MODEL),SL(UTILITY MODEL),SM,ST,SV(UTILITY MODEL),SY,TJ(UTILITY MODEL),TM(PROVISIONAL PATENT),TN,TR(UTILITY MODEL),TT(UTILITY CERTIFICATE),TZ,UA(UTILITY MODEL),UG(UTILITY CERTIFICATE),US,UZ(UTILITY MODEL),VC(UTILITY CERTIFICATE),VN(PATENT FOR UTILITY SOLUTION),ZA,ZM,ZW,EP(AT,BE,BG,CH,CY,CZ,DE,DK,EE,ES,FI,FR,GB,GR,HR,HU,IE,IS,IT,LT,LU,LV,MC,MK,MT,NL,NO,PL,PT,RO,SE,SI,SK,SM,TR),OA(BF(UTILITY MODEL),BJ(UTILITY MODEL),CF(UTILITY MODEL),CG(UTILITY MODEL),CI(UTILITY MODEL),CM(UTILITY MODEL),GA(UTILITY MODEL),GN(UTILITY MODEL),GQ(UTILITY MODEL),GW(UTILITY MODEL),ML(UTILITY MODEL),MR(UTILITY MODEL),NE(UTILITY MODEL),SN(UTILITY MODEL),TD(UTILITY MODEL),TG(UTILITY MODEL)),AP(BW(UTILITY MODEL),GH(UTILITY MODEL),GM(UTILITY MODEL),KE(UTILITY MODEL),LS(UTILITY MODEL),MW(UTILITY MODEL),MZ(UTILITY MODEL),NA(UTILITY MODEL),SD(UTILITY MODEL),SL(UTILITY MODEL),SZ(UTILITY MODEL),TZ(UTILITY MODEL),UG(UTILITY MODEL),ZM(UTILITY MODEL),ZW(UTILITY MODEL)),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ,MD,RU,TJ,TM)
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