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PROCESS FOR PRODUCING CHITIN NANOFIBER, COMPOSITE MATERIAL AND COATING COMPOSITION BOTH CONTAINING CHITIN NANOFIBER, PROCESS FOR PRODUCING CHITOSAN NANOFIBER, AND COMPOSITE MATERIAL AND COATING COMPOSITION BOTH CONTAINING CHITOSAN NANOFIBER meetings

Foreign code F110002670
File No. H20-018-2
Posted date Apr 7, 2011
Country WIPO
International application number 2009JP061929
International publication number WO 2010/073758
Date of international filing Jun 30, 2009
Date of international publication Jul 1, 2010
Priority data
  • P2008-334187 (Dec 26, 2008) JP
Title PROCESS FOR PRODUCING CHITIN NANOFIBER, COMPOSITE MATERIAL AND COATING COMPOSITION BOTH CONTAINING CHITIN NANOFIBER, PROCESS FOR PRODUCING CHITOSAN NANOFIBER, AND COMPOSITE MATERIAL AND COATING COMPOSITION BOTH CONTAINING CHITOSAN NANOFIBER meetings
Abstract A process for producing chitin nanofibers is provided which includes the steps of: subjecting a material derived from a chitin-containing organism to an alkali treatment to deproteinize the material; subjecting the deproteinized integument to an acid treatment to deash the integument; optionally treating the deashed integument under acidic conditions; and then fibrillating the integument. Also provided are: chitin nanofibers obtained by the process; and a composite material and a coating composition both containing the chitin nanofibers. Furthermore provided are: a process for producing chitosan nanofibers which includes a deacetylation step besides those steps; chitosan nanofibers obtained by the process; and a composite material and a coating composition both containing the chitosan nanofibers.
Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】 キチン含有生物由来の材料を、
  少なくとも1回の脱蛋白工程および少なくとも1回の脱灰工程
に付し、次いで、
  解繊工程
に付すことを特徴とする、キチンナノファイバーの製造方法。

【請求項2】 解繊工程の前に酸性試薬にて処理する工程をさらに含む、請求項1記載の方法。

【請求項3】 酸性試薬が弱酸であり、処理工程におけるpHが3~4である請求項2記載の方法。

【請求項4】 各工程を常に乾燥させずに行う請求項1~3のいずれか1項記載の方法

【請求項5】 キチン含有生物が甲殻類である請求項1~4のいずれか1項記載の方法。

【請求項6】 請求項1~5のいずれか1項記載の方法により得られるキチンナノファイバー。

【請求項7】 ファイバーの幅が2nm~20nmである請求項6記載のキチンナノファイバー。

【請求項8】 繊維状態が伸びきり鎖結晶である請求項6または7記載のキチンナノファイバー。

【請求項9】 キチンナノファイバーおよび樹脂を含む複合材料。

【請求項10】 熱膨張率が2x10-5-1以下に低減されている請求項9記載の複合材料。

【請求項11】 同じ厚さのキチンナノファイバー不含のものと比べて、600nmにおける透過率の損失が10%以下である請求項9または10記載の複合材料。

【請求項12】 キチンナノファイバーが請求項6~8のいずれか1項記載のものである、請求項9~11のいずれか1項記載の複合材料。

【請求項13】 キチンナノファイバーの存在下で樹脂モノマーを重合させることを特徴とする、複合材料の製造方法。

【請求項14】 キチンナノファイバーが請求項6~8のいずれか1項記載のものである、請求項13記載の方法。

【請求項15】 キチンナノファイバーおよび水溶性樹脂またはエマルジョンを含む塗料組成物。

【請求項16】 金属用である請求項15記載の塗料組成物。

【請求項17】 キチンナノファイバーが請求項6~8のいずれか1項記載のものである、請求項15または16記載の塗料組成物。

【請求項18】 キチンナノファイバーの水懸濁液と水溶性樹脂またはエマルジョンをブレンドすることを特徴とする、塗料組成物の製造方法。

【請求項19】 キチンナノファイバーが請求項6~8のいずれか1項記載のものである、請求項18記載の方法。

【請求項20】 キチン含有生物由来の材料を、
  少なくとも1回の脱蛋白工程および少なくとも1回の脱灰工程
および少なくとも1回の脱アセチル化工程に付し、次いで、
  解繊工程
に付すことを特徴とする、キトサンナノファイバーの製造方法。

【請求項21】 各工程を常に乾燥させずに行う請求項20記載の方法。

【請求項22】 請求項20または21記載の方法により得られるキトサンナノファイバー。

【請求項23】 ファイバーの幅が2nm~40nmである請求項22記載のキトサンナノファイバー。

【請求項24】 キトサンナノファイバーおよび水溶性樹脂またはエマルジョンを含む塗料組成物。

【請求項25】 キトサンナノファイバーが請求項23記載のものである、請求項24記載の塗料組成物。

【請求項26】 キトサンナノファイバーの水懸濁液と水溶性樹脂またはエマルジョンをブレンドすることを特徴とする、塗料組成物の製造方法。

【請求項27】 キトサンナノファイバーが請求項23記載のものである、請求項26記載の方法。
  • Applicant
  • ※All designated countries except for US in the data before July 2012
  • TOTTORI UNIVERSITY
  • Kyoto University
  • Omura Toryo Co., Ltd.
  • Inventor
  • IFUKU, Shinsuke
  • SAIMOTO, Hiroyuki
  • YANO, Hiroyuki
  • NOGI, Masaya
  • OMURA, Yoshihiko
IPC(International Patent Classification)
Specified countries AE(UTILITY MODEL),AG,AL(UTILITY MODEL),AM(PROVISIONAL PATENT)(UTILITY MODEL),AO(UTILITY MODEL),AT(UTILITY MODEL),AU,AZ(UTILITY MODEL),BA,BB,BG(UTILITY MODEL),BH(UTILITY MODEL),BR(UTILITY MODEL),BW(UTILITY MODEL),BY(UTILITY MODEL),BZ(UTILITY MODEL),CA,CH,CL(UTILITY MODEL),CN(UTILITY MODEL),CO(UTILITY MODEL),CR(UTILITY MODEL),CU(INVENTOR'S CERTIFICATE),CZ(UTILITY MODEL),DE(UTILITY MODEL),DK(UTILITY MODEL),DM,DO(UTILITY MODEL),DZ,EC(UTILITY MODEL),EE(UTILITY MODEL),EG(UTILITY MODEL),ES(UTILITY MODEL),FI(UTILITY MODEL),GB,GD,GE(UTILITY MODEL),GH(UTILITY CERTIFICATE),GM,GT(UTILITY MODEL),HN,HR(CONSENSUAL PATENT),HU(UTILITY MODEL),ID,IL,IN,IS,JP(UTILITY MODEL),KE(UTILITY MODEL),KG(UTILITY MODEL),KM,KN,KP(INVENTOR'S CERTIFICATE)(UTILITY MODEL),KR(UTILITY MODEL),KZ(PROVISIONAL PATENT)(UTILITY MODEL),LA,LC,LK,LR,LS(UTILITY MODEL),LT,LU,LY,MA,MD(UTILITY MODEL),ME,MG,MK,MN,MW,MX(UTILITY MODEL),MY(UTILITY-INNOVATION),MZ(UTILITY MODEL),NA,NG,NI(UTILITY MODEL),NO,NZ,OM(UTILITY MODEL),PE(UTILITY MODEL),PG,PH(UTILITY MODEL),PL(UTILITY MODEL),PT(UTILITY MODEL),RO,RS(PETTY PATENT),RU(UTILITY MODEL),SC,SD,SE,SG,SK(UTILITY MODEL),SL(UTILITY MODEL),SM,ST,SV(UTILITY MODEL),SY,TJ(UTILITY MODEL),TM(PROVISIONAL PATENT),TN,TR(UTILITY MODEL),TT(UTILITY CERTIFICATE),TZ,UA(UTILITY MODEL),UG(UTILITY CERTIFICATE),US,UZ(UTILITY MODEL),VC(UTILITY CERTIFICATE),VN(PATENT FOR UTILITY SOLUTION),ZA,ZM,ZW,EP(AT,BE,BG,CH,CY,CZ,DE,DK,EE,ES,FI,FR,GB,GR,HR,HU,IE,IS,IT,LT,LU,LV,MC,MK,MT,NL,NO,PL,PT,RO,SE,SI,SK,TR),OA(BF(UTILITY MODEL),BJ(UTILITY MODEL),CF(UTILITY MODEL),CG(UTILITY MODEL),CI(UTILITY MODEL),CM(UTILITY MODEL),GA(UTILITY MODEL),GN(UTILITY MODEL),GQ(UTILITY MODEL),GW(UTILITY MODEL),ML(UTILITY MODEL),MR(UTILITY MODEL),NE(UTILITY MODEL),SN(UTILITY MODEL),TD(UTILITY MODEL),TG(UTILITY MODEL)),AP(BW(UTILITY MODEL),GH(UTILITY MODEL),GM(UTILITY MODEL),KE(UTILITY MODEL),LS(UTILITY MODEL),MW(UTILITY MODEL),MZ(UTILITY MODEL),NA(UTILITY MODEL),SD(UTILITY MODEL),SL(UTILITY MODEL),SZ(UTILITY MODEL),TZ(UTILITY MODEL),UG(UTILITY MODEL),ZM(UTILITY MODEL),ZW(UTILITY MODEL)),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ,MD,RU,TJ,TM)
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