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SOLIDIFIED DETERGENT COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME

Foreign code F110002697
File No. S2007-0968-C0
Posted date Apr 8, 2011
Country WIPO
International application number 2008JP062164
International publication number WO 2009013991
Date of international filing Jul 4, 2008
Date of international publication Jan 29, 2009
Priority data
  • P2007-193786 (Jul 25, 2007) JP
Title SOLIDIFIED DETERGENT COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME
Abstract Disclosed is a solidified detergent composition obtained by drying, under reduced pressure, a solution which is obtained by adding at least one surfactant selected from the group consisting of cationic surfactants (b1) (excluding the silicon compound described below) and nonionic surfactants (b2) into a silicon-containing compound (a) represented by the following general formula (1). (In the formula, R1 represents a hydrocarbon group having 6 or more carbon atoms; R2 and R3 may be the same or different and each represents a lower hydrocarbon group; R4 represents a divalent lowerhydrocarbon group; R5, R6 and R7 may be the same or different and each represents a lower alkyl group or a lower alkoxy group; and X represents a halogen ion or an organic carbonyloxy ion.) Also disclosed is a solidified detergent composition obtained by drying, under reduced pressure, a solution of the silicon-containing compound, and then the surfactant is added to the thus-obtained product dried under reduced pressure.
Outline of related art and contending technology BACKGROUND ART
The advent of aging society dental material, particularly denture user denture is increased and the increase in the amount of use of cleaning agents but, a variety of compositions used in the denture cleansing agent. In addition, the tendency toward improved hygiene to the living environment, dishes, glasses, flow, around the kitchen, toilet bowl, around the toilet, bathtub, bathroom circumference, wash bowl, washroom around, the fabric or garment to hygiene oriented, antimicrobial-oriented has been increasing.
Based on the above of the anti-microbial cleaning agent component system is divided into two types, peroxide, hypochlorous acid, enzyme, acid, crude drug, silver-based inorganic antibacterial agent or antiseptic agent and any one of the major component, or two or more species can be classified into the combined components. Then, the same components that belong to the anti-microbial cleaning agent even in the concrete composition can vary.
In this way various antibacterial cleansing agent is used, a detergent may include anti-microbial functions of both the sterilization performance of the cleaning performance since it is required, exert an action of each of the components are combined to form a cleaning agent is more likely to appear. In addition, higher cleaning performance and sterilization performance or short time cleaning can be used in the antimicrobial cleansing agent are required, particularly denture cleaning agents according to the request is significant.
To such a requirement, for example, the publication WO99/56714 A1, sodium lauryl sulfate is excellent cleaning performance and foaming effect and the present invention, the combination of the components of the conventional denture cleaning agent for diminishing the efficacy of sodium lauryl sulfate to solve the problem that, does not interfere with the function of sodium lauryl sulfate, to improve the performance further sterilization with sodium lauryl sulfate can be silver, copper, the anti-microbial metal ions such as zinc ion containing denture cleanser is disclosed.
The publication JP-2001-288062, the removal of the denture plaque preferably acidic denture cleaning agent, cleaning agent is acidic and the denture and the gum material deformation or discoloration, discolor black metal material may cause the cleaning agent in many adjusted so as to have a neutral, diminishing the denture detergent of cleaning performance to solve the problem that, acidic speed acid and persulfate salt and the soluble portion, perborate or percarbonate that is at least 1 species of alkaline carbonate in the form of a particulate slow-soluble portion having a denture cleaning tablet, the denture to the washing water of the water included in the low pH liquid can be changed from the high pH denture cleansing agent is disclosed.
2004-209241 discloses JP, octadecyltrimethoxysilane, γ - aminopropyltriethoxysilane, octadecyldimethyl (3 - trimethoxysilylpropyl) ammonium chloride immobilized on the surface of the antimicrobial substance such as an antimicrobial material is disclosed, denture, implant, crown, bridge, orthodontic bracket, wire and the like can also be used for dental applications is disclosed in, these antimicrobial agents containing a component of the cleansing composition itself is not disclosed.
Improvements in such cleaning agents and disinfectants enhances the performance of the cleaning performance is obtained with a cleansing agent. However, is a known washing agent, in particular denture, implant, crown, bridge, orthodontic bracket, dental wire and the like dental material may be washed clean with, these dental material, in particular denture worn within the oral cavity and on the surface of the denture during use to prevent the denture plaque formation cannot be a problem. Further, the cleaning performance of the dental material, particularly denture cleaning agent to improve the cleaning performance is demanded. In addition, dishes, glasses, flow, around the kitchen, toilet bowl, around the toilet, bathtub, bathroom circumference, wash bowl, washroom around, the fabric or garment to an antimicrobial such as an antimicrobial cleaning chemistry is the same for the performance, the performance of the cleaning performance will be sustained and is demanded.
Japanese Patent Application 2007-146134, the above-described problems in view, the higher the washing performance and sterilization performance, the antimicrobial performance of the article to be cleaned are cleaned, and cleaning performance and intended to improve the persistence, implant, crown, bridge, orthodontic bracket, dental wire and the like dental material, particularly in the denture, while the worn within the oral cavity the reformation of the denture on the surface of the denture plaque to prevent antimicrobial performance and cleaning performance but also to provide a detergent composition for the purpose. In addition, a special burden on the user particularly denture or discomfort to the antimicrobial performance of the denture without easily can be applied in a denture cleansing composition to provide an object of the invention.
Further, Patent Application JP-2007-146134, dishes, glasses, flow, around the kitchen, toilet bowl, around the toilet, bathtub, bathroom circumference, wash bowl, washroom around, the fabric or garment in the same manner the antimicrobial performance of the cleaning agent to, and its cleaning performance can be sustained to meet the requirements of the cleansing composition to provide an object of the invention.
Scope of claims (In Japanese)請求の範囲 [1]
 (a)一般式(1)
[化1]

(式中、R1は炭素原子数6以上の炭化水素基を示し、R2およびR3は同一または異なっていてもよい低級炭化水素基を示し、R4は二価の低級炭化水素基を示し、R5、R6およびR7は同一または異なっていてもよい低級アルキル基または低級アルコシ基を示し、Xはハロゲンイオンまたは有機カルボキニルオキシイオンを示す)で表されるケイ素含有化合物に、(b)陽イオン界面活性剤(ただし、上記ケイ素化合物を除く)(b1)および非イオン界面活性剤(b2)からなる群から選ばれた少なくとも1種の界面活性剤を添加した溶液を減圧乾燥したものであることを特徴とする、固形化した洗浄剤組成物。

[2]
 (a)一般式(1)
[化2]

(式中、R1は炭素原子数6以上の炭化水素基を示し、R2およびR3は同一または異なっていてもよい低級炭化水素基を示し、R4は二価の低級炭化水素基を示し、R5、R6およびR7は同一または異なっていてもよい低級アルキル基または低級アルコシ基を示し、Xはハロゲンイオンまたは有機カルボキニルオキシイオンを示す)で表されるケイ素含有化合物を含む溶液を減圧乾燥し、得られた減圧乾燥物に(b)陽イオン界面活性剤(ただし、上記ケイ素化合物を除く)(b1)および非イオン界面活性剤(b2)からなる群から選ばれた少なくとも1種の界面活性剤を添加したものであることを特徴とする、固形化した洗浄剤組成物。

[3]
 前記減圧乾燥を-30℃~-60℃で行うことを特徴とする、請求項1または2記載の固形化した洗浄剤組成物。

[4]
 上記一般式(1)で表されるケイ素含有化合物(a)のR1は炭素原子数10~25のアルキル基を示し、R2およびR3は同一または異なっていてもよい炭素原子数1ないし6の低級アルキル基を示し、R4は炭素原子数1ないし6の低級アルキレン基を示し、R5、R6およびR7は同一または異なっていてもよい炭素原子数1ないし6の低級アルキル基またはアルコシ基を示し、Xはハロゲンイオンまたは有機カルボキニルオキシイオンであることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載の固形化した洗浄剤組成物。

[5]
 上記一般式(1)で表されるケイ素含有化合物(a)が、オクタデシルジメチル(3-トリメトキシシリルプロピル)アンモニムクロライド、オクタデシルジエチル(3-トリメトキシシリルプロピル)アンモニウムクロライド、オクタデシルジメチル(2-トリメチルシリルエチル)アンモニウムクロライド、オクタデシルジプロピル(4-トリメトキシシリルブチル)アンモニムアセテート、オクタデシルジメチル(3-トリエトキシシリルプロビル)アンモニウムクロライド、オクタデシルジメチル(3-トリイソプロポキシシリルプロビル)アンモニウムクロライド、オクタデシルジメチル(3-トリエチルシシリルプロビル)アンモニウムクロライド、オクタデシルジメチル(3-トリイソプロピルシシリルプロビル)アンモニウムクロライド、ヘプタデシルジメチル(3-トリメトキシシリルプロピル)アンモニウムクロライド、ヘプタデシルジイソプロピル(2-トリエトキシシリルエチル)アンモニウムクロライド、ヘキサデシルジメチル(3-トリメトキシシリルプロピル)アンモニムクロライド、ヘキサデシルジメチル(3-トリメトキシシリルプロピル)アンモニムアセテートおよびペンタサデシルジメチル(3-トリエトキシシリルプロピル)アンモニムクロライドからなる群から選ばれた少なくとも1種のケイ素含有化合物であることを特徴とする請求項1ないし4のいずれか1項に記載の固形化した洗浄剤組成物。

[6]
 上記一般式(1)で表されるケイ素含有化合物(a)が、オクタデシルジメチル(3-トリメトキシシリルプロピル)アンモニウムクロライドである請求項1ないし5のいずれか1項に記載の固形化した洗浄剤組成物。

[7]
 上記陽イオン界面活性剤(b1)が、下記一般式(2)
[化3]

(式中、R11は炭素原子数6以上の炭化水素基を示し、R12、R13およびR14は同一でも異なってもよい低級炭化水素基を示す)で表される陽イオン界面活性剤(b11)および/またはN-ココイル-アルギニンエチルエステルピリドンカルボン酸塩(b12)であることを特徴とする請求項1ないし6のいずれか1項に記載の固形化した洗浄剤組成物。

[8]
 上記一般式(2)で表される上記陽イオン界面活性剤(b11)のR11は炭素原子数10~25のアルキル基を示し、R12、R13およびR14は同一または異なっていてもよい炭素原子数1ないし6の低級アルキル基を示し、Yがハロゲンイオンまたは有機カルボニルオキシイオンであることを特徴とする請求項7に記載の固形化した洗浄剤組成物。

[9]
 上記陽イオン界面活性剤(b11)がデシルトリメチルアンモニウムクロライド、デシルトリエチルアンモニウムアセテート、ドデシルトリメチルアンモニウムアセテート、ドデシルトリイソプロピルアンモニウムブロマイド、トリデシルトリエチルアンモニウムプロマイド、テトラデシルトリメチルアンモニウムクロライド、テトラデシルトリエチルアンモニウムクロライド、テトラデシルトリ-n-プロピルアンモニウムクロライド、ペンタデシルトリメチルアンモニウムクロライド、ペンタデシルトリエチルアンモニウムクロライド、ペンタデシルトリ-n-プロピルアンモニウムクロライド、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムクロライド、ヘキサデシルトリエチルアンモニウムクロライド、ヘキサデシルトリ-n-プロピルアンモニウムクロライド、オクタデシルトリメチルアンモニウムクロライドおよびオクタデシルトリエチルアンモニウムクロライドおよびオクタデシルトリ-n-プロピルアンモニウムクロライドからなる群から選ばれた少なくとも1種であることを特徴とする請求項7または8に記載の固形化した洗浄剤組成物。

[10]
 上記陽イオン界面活性剤(b1)が、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムクロライドであることを特徴とする請求項1ないし9のいずれか1項に記載の固形化した洗浄剤組成物。

[11]
 上記非イオン界面活性剤(b2)が、ポリオキシエチレン単位および/またはポリオキシプロピレン単位を含有するポリオキシアルキレングリコールのアルキルエーテルまたは脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステルおよび脂肪酸モノグリセライドからなる群から選ばれた少なくとも1種の非イオン系界面活性剤であることを特徴とする請求項1ないし6のいずれか1項に記載の固形化した洗浄剤組成物。

[12]
 上記非イオン界面活性剤(b2)は、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレートであることを特徴とする請求項1ないし6、11のいずれか1項に記載の固形化した洗浄剤組成物。

[13]
 上記ケイ素含有化合物(a)としてオクタデシルジメチル(3-トリメトキシシリルプロピル)アンモニウムクロライド、および上記陽イオン界面活性剤(b1)としてヘキサデシルトリメチルアンモニウムクロライドを含有することを特徴とする請求項1ないし10のいずれか1項に記載の固形化した洗浄剤組成物。

[14]
 上記ケイ素含有化合物(a)としてオクタデシルジメチル(3-トリメトキシシリルプロピル)アンモニウムクロライド、および上記非イオン界面活性剤(b2)としてポリオキシエチレンソルビタンモノラウレートを含有することを特徴とする請求項1ないし6、11ないし12のいずれか1項に記載の固形化した洗浄剤組成物。

[15]
 必要に応じて更に炭素数10以下の低級アルコールを含有することを特徴とする請求項1ないし14のいずれか1項に記載の固形化した洗浄剤組成物。

[16]
 前記低級アルコールが炭素数5以下のアルコールであることを特徴とする請求項15に記載の固形化した洗浄剤組成物。

[17]
 前記低級アルコールがエタノール、t-ブチルアルコール、プロピルアルコール、n-ブチルアルコール、イソブチルアルコール、sec-ブチルアルコール、tert-ブチルアルコールおよびペンチルアルコールからなる群から選ばれたものであることを特徴とする請求項15または16に記載の固形化した洗浄剤組成物。

[18]
 水道水に再溶解可能であることを特徴とする請求項1ないし17のいずれか1項に記載の固形化した洗浄剤組成物。

[19]
 (a)一般式(1)
[化4]

(式中、R1は炭素原子数6以上の炭化水素基を示し、R2およびR3は同一または異なっていてもよい低級炭化水素基を示し、R4は二価の低級炭化水素基を示し、R5、R6およびR7は同一または異なっていてもよい低級アルキル基または低級アルコシ基を示し、Xはハロゲンイオンまたは有機カルボキニルオキシイオンを示す)で表されるケイ素含有化合物に、(b)陽イオン界面活性剤(ただし、上記ケイ素化合物を除く)(b1)および非イオン界面活性剤(b2)からなる群から選ばれた少なくとも1種の界面活性剤を添加した溶液を調製する工程、および
 該溶液を減圧乾燥する工程を有することを特徴とする、固形化した洗浄剤組成物の製造方法。

[20]
 (a)一般式(1)
[化5]

(式中、R1は炭素原子数6以上の炭化水素基を示し、R2およびR3は同一または異なっていてもよい低級炭化水素基を示し、R4は二価の低級炭化水素基を示し、R5、R6およびR7は同一または異なっていてもよい低級アルキル基または低級アルコシ基を示し、Xはハロゲンイオンまたは有機カルボキニルオキシイオンを示す)で表されるケイ素含有化合物の溶液を減圧乾燥する工程、および
 上記工程で得られた減圧乾燥物に(b)陽イオン界面活性剤(ただし、上記ケイ素化合物を除く)(b1)および非イオン界面活性剤(b2)からなる群から選ばれた少なくとも1種の界面活性剤を添加する工程を有することを特徴とする、固形化した洗浄剤組成物の製造方法。

[21]
 前記減圧乾燥を、-30℃~-60℃で行うことを特徴とする、請求項19または20に記載の方法。

[22]
 必要に応じて前記溶液に更に炭素数10以下の低級アルコールを添加する工程を有することを特徴とする、請求項19~21のいずれか1項に記載の方法。

[23]
 (a)一般式(1)
[化6]

(式中、R1は炭素原子数6以上の炭化水素基を示し、R2およびR3は同一または異なっていてもよい低級炭化水素基を示し、R4は二価の低級炭化水素基を示し、R5、R6およびR7は同一または異なっていてもよい低級アルキル基または低級アルコシ基を示し、Xはハロゲンイオンまたは有機カルボキニルオキシイオンを示す)で表されるケイ素含有化合物のゲル化を防止する方法であって、
 前記ケイ素含有化合物に、(b)陽イオン界面活性剤(ただし、上記ケイ素化合物を除く)(b1)および非イオン界面活性剤(b2)からなる群から選ばれた少なくとも1種の界面活性剤を添加した溶液を調製する工程、および
該溶液を減圧乾燥する工程を有することを特徴とする、前記ケイ素含有化合物のゲル化を防止する方法。

[24]
 (a)一般式(1)
[化7]

(式中、R1は炭素原子数6以上の炭化水素基を示し、R2およびR3は同一または異なっていてもよい低級炭化水素基を示し、R4は二価の低級炭化水素基を示し、R5、R6およびR7は同一または異なっていてもよい低級アルキル基または低級アルコシ基を示し、Xはハロゲンイオンまたは有機カルボキニルオキシイオンを示す)で表されるケイ素含有化合物のゲル化を防止する方法であって、
 前記ケイ素化合物の溶液を減圧乾燥する工程、および
 上記工程で得られた減圧乾燥物に(b)陽イオン界面活性剤(ただし、上記ケイ素化合物を除く)(b1)および非イオン界面活性剤(b2)からなる群から選ばれた少なくとも1種の界面活性剤を添加する工程を有することを特徴とする、前記ケイ素含有化合物のゲル化を防止する方法。

[25]
 前記減圧乾燥を、-30℃~-60℃で行うことを特徴とする、請求項23または24に記載の方法。

[26]
 必要に応じて前記溶液に更に炭素数10以下の低級アルコールを添加する工程を有することを特徴とする、請求項23~25のいずれか1項に記載の方法。

  • Applicant
  • ※All designated countries except for US in the data before July 2012
  • HIROSHIMA UNIVERSITY
  • Inventor
  • NIKAWA, Hiroki
IPC(International Patent Classification)
Specified countries National States: AE AG AL AM AO AT AU AZ BA BB BG BH BR BW BY BZ CA CH CN CO CR CU CZ DE DK DM DO DZ EC EE EG ES FI GB GD GE GH GM GT HN HR HU ID IL IN IS JP KE KG KM KN KP KR KZ LA LC LK LR LS LT LU LY MA MD ME MG MK MN MW MX MY MZ NA NG NI NO NZ OM PG PH PL PT RO RS RU SC SD SE SG SK SL SM ST SV SY TJ TM TN TR TT TZ UA UG US UZ VC VN ZA ZM ZW
ARIPO: BW GH GM KE LS MW MZ NA SD SL SZ TZ UG ZM ZW
EAPO: AM AZ BY KG KZ MD RU TJ TM
EPO: AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HR HU IE IS IT LT LU LV MC MT NL NO PL PT RO SE SI SK TR
OAPI: BF BJ CF CG CI CM GA GN GQ GW ML MR NE SN TD TG

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