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RARE METAL EXTRACTING AGENT meetings

Foreign code F110002715
File No. S2008-0233-C0
Posted date Apr 8, 2011
Country WIPO
International application number 2009JP052198
International publication number WO 2009/101926
Date of international filing Feb 10, 2009
Date of international publication Aug 20, 2009
Priority data
  • P2008-031127 (Feb 12, 2008) JP
Title RARE METAL EXTRACTING AGENT meetings
Abstract Disclosed is a novel rare metal extracting agent. Also disclosed is a method for extracting/separating a rare metal with high efficiency. The rare metal extracting agent comprises a cyclic phenol sulfide derivative represented by general formula (1).
Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】下記一般式(1)で表される環状フェノール硫化物誘導体を含有するレアメタル抽出剤。
【化学式1】(式(1)中、R1、R3、R4はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数1~10の炭化水素基であり、R2は炭素数0~10の炭化水素基であり、Zはスルフィド基、スルフィニル基、及びスルホニル基のうちのいずれかである。)

【請求項2】前記一般式(1)におけるR1、R3、R4が、それぞれ独立に水素原子、又は、炭素数1~10の分岐又は直鎖のアルキル基であり、R2が炭素数0~10の分岐又は直鎖のアルキレン基である請求項1に記載のレアメタル抽出剤。

【請求項3】下記一般式(1)で表される環状フェノール硫化物誘導体を含有するレアメタル抽出剤を用いて、複数の種類のレアメタルを含有する水溶液からレアメタルを抽出分離する方法であって、目的とするレアメタルに応じて前記水溶液のpHを複数回変化させることにより、複数回に亘って抽出を行い、それぞれ特定のレアメタルを選択的に優位に抽出する工程を備えてなる、複数種類のレアメタルの連続的抽出分離方法。
【化学式2】(式(1)中、R1、R3、R4はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数1~10の炭化水素基であり、R2は炭素数0~10の炭化水素基であり、Zはスルフィド基、スルフィニル基、及びスルホニル基のうちのいずれかである。)

【請求項4】前記複数回に亘って変化させるpHが、0.8超1.2未満および/または1.2超1.8未満の範囲を含む、請求項3に記載の複数種類のレアメタルの連続的抽出方法。

【請求項5】下記一般式(1)で表される環状フェノール硫化物誘導体を含有するレアメタル抽出剤を用いて複数の種類のレアメタルを含有する水溶液から抽出を行う工程、および、下記一般式(1)で表される以外のチアカリックスアレンを含有するレアメタル抽出剤を含むレアメタル抽出剤を用いて、複数の種類のレアメタルを含有する水溶液から抽出を行う工程を含み、それぞれの工程にて特定のレアメタルを選択的に優位に抽出する、複数種類のレアメタルの連続的抽出分離方法。
【化学式3】(式(1)中、R1、R3、R4はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数1~10の炭化水素基であり、R2は炭素数0~10の炭化水素基であり、Zはスルフィド基、スルフィニル基、及びスルホニル基のうちのいずれかである。)

【請求項6】前記一般式(1)で表される以外のチアカリックスアレンを含有するレアメタル抽出剤が、下記一般式(2)で表されるチアカリックスアレンを含有するレアメタル抽出剤である、請求項5に記載の複数種類のレアメタルの連続的抽出分離方法。
【化学式4】(式(2)中、R1、R5は水素原子又は炭素数1~10の炭化水素基であり、R2は炭素数0~10の炭化水素基であり、Zはスルフィド基、スルフィニル基、及びスルホニル基のうちのいずれかである。)

【請求項7】前記抽出工程の一つが、白金を選択的に優位に抽出する工程である、請求項3~6のいずれかに記載の複数種類のレアメタルの連続的抽出分離方法。
  • Applicant
  • ※All designated countries except for US in the data before July 2012
  • AKITA UNIVERSITY
  • Inventor
  • KONDO, Yoshihiko
  • LI, Chun-bin
  • YAMADA, Manabu
  • HAMADA, Fumio
IPC(International Patent Classification)
Specified countries AE(UTILITY MODEL),AG,AL(UTILITY MODEL),AM(PROVISIONAL PATENT)(UTILITY MODEL),AO(UTILITY MODEL),AT(UTILITY MODEL),AU,AZ(UTILITY MODEL),BA,BB,BG(UTILITY MODEL),BH(UTILITY MODEL),BR(UTILITY MODEL),BW(UTILITY MODEL),BY(UTILITY MODEL),BZ(UTILITY MODEL),CA,CH,CN(UTILITY MODEL),CO(UTILITY MODEL),CR(UTILITY MODEL),CU(INVENTOR'S CERTIFICATE),CZ(UTILITY MODEL),DE(UTILITY MODEL),DK(UTILITY MODEL),DM(UTILITY MODEL),DO(UTILITY MODEL),DZ,EC(UTILITY MODEL),EE(UTILITY MODEL),EG(UTILITY MODEL),ES(UTILITY MODEL),FI(UTILITY MODEL),GB,GD,GE(UTILITY MODEL),GH(UTILITY CERTIFICATE),GM,GT(UTILITY MODEL),HN,HR(CONSENSUAL PATENT),HU(UTILITY MODEL),ID,IL,IN,IS,JP(UTILITY MODEL),KE(UTILITY MODEL),KG(UTILITY MODEL),KM,KN,KP(INVENTOR'S CERTIFICATE)(UTILITY MODEL),KR(UTILITY MODEL),KZ(PROVISIONAL PATENT)(UTILITY MODEL),LA,LC,LK,LR,LS(UTILITY MODEL),LT,LU,LY,MA,MD(UTILITY MODEL),ME,MG,MK,MN,MW,MX(UTILITY MODEL),MY(UTILITY-INNOVATION),MZ(UTILITY MODEL),NA,NG,NI(UTILITY MODEL),NO,NZ,OM(UTILITY MODEL),PG,PH(UTILITY MODEL),PL(UTILITY MODEL),PT(UTILITY MODEL),RO,RS(PETTY PATENT),RU(UTILITY MODEL),SC,SD,SE,SG,SK(UTILITY MODEL),SL(UTILITY MODEL),SM,ST,SV(UTILITY MODEL),SY,TJ(UTILITY MODEL),TM(PROVISIONAL PATENT),TN,TR(UTILITY MODEL),TT(UTILITY CERTIFICATE),TZ,UA(UTILITY MODEL),UG(UTILITY CERTIFICATE),US,UZ(UTILITY MODEL),VC(UTILITY CERTIFICATE),VN(PATENT FOR UTILITY SOLUTION),ZA,ZM,ZW,EP(AT,BE,BG,CH,CY,CZ,DE,DK,EE,ES,FI,FR,GB,GR,HR,HU,IE,IS,IT,LT,LU,LV,MC,MK,MT,NL,NO,PL,PT,RO,SE,SI,SK,TR),OA(BF(UTILITY MODEL),BJ(UTILITY MODEL),CF(UTILITY MODEL),CG(UTILITY MODEL),CI(UTILITY MODEL),CM(UTILITY MODEL),GA(UTILITY MODEL),GN(UTILITY MODEL),GQ(UTILITY MODEL),GW(UTILITY MODEL),ML(UTILITY MODEL),MR(UTILITY MODEL),NE(UTILITY MODEL),SN(UTILITY MODEL),TD(UTILITY MODEL),TG(UTILITY MODEL)),AP(BW(UTILITY MODEL),GH(UTILITY MODEL),GM(UTILITY MODEL),KE(UTILITY MODEL),LS(UTILITY MODEL),MW(UTILITY MODEL),MZ(UTILITY MODEL),NA(UTILITY MODEL),SD(UTILITY MODEL),SL(UTILITY MODEL),SZ(UTILITY MODEL),TZ(UTILITY MODEL),UG(UTILITY MODEL),ZM(UTILITY MODEL),ZW(UTILITY MODEL)),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ,MD,RU,TJ,TM)
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