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THERMOFLUORESCENT STACK, THERMOFLUORESCENT PLATE, PROCESS FOR PRODUCING THERMOFLORESCENT STACK, PROCESS FOR PRODUCING THERMOFLUORESCENT PLATE, AND METHOD OF ACQUIRING THREE-DIMENSIONAL RADIATION DOSE DISTRIBUTION meetings achieved

Foreign code F110002743
Posted date Apr 13, 2011
Country WIPO
International application number 2009JP070094
International publication number WO 2010/064594
Date of international filing Nov 30, 2009
Date of international publication Jun 10, 2010
Priority data
  • P2008-306373 (Dec 1, 2008) JP
  • P2009-244317 (Oct 23, 2009) JP
  • P2009-204711 (Sep 4, 2009) JP
Title THERMOFLUORESCENT STACK, THERMOFLUORESCENT PLATE, PROCESS FOR PRODUCING THERMOFLORESCENT STACK, PROCESS FOR PRODUCING THERMOFLUORESCENT PLATE, AND METHOD OF ACQUIRING THREE-DIMENSIONAL RADIATION DOSE DISTRIBUTION meetings achieved
Abstract Provided are a dosimeter which is based on thermofluorescent plates and with which a three-dimensional radiation dose distribution can be acquired, a process for producing the dosimeter, and a method of using the dosimeter. A thermofluorescent stack (11) is composed of a plurality of stacked thermofluorescent plates (13), the thermofluorescent plates (13) being constituted of a thermofluorescent substance containing no aluminum(III) and a heat-resistant resin. The thermofluorescent substance comprises lithium tetraborate as a base and manganese contained as a fluorescent center in the base.
Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】 四ホウ酸リチウム、酸化マンガン(IV)、及び酸化アルミニウムを混合して第1混合体を形成する工程と、
 該第1混合体を熱処理することによって第1焼結体を形成する工程と、
 該第1焼結体を粉砕して粉砕体にする工程と、
 該粉砕体を活性炭と混合して第2混合体を形成する工程と、
 該第2混合体を平板状に圧迫成型することによって板状体を形成する工程と、
 該板状体を熱処理することによって、第2焼結体としての熱蛍光板状体を形成する工程と、
を含むことを特徴とする熱蛍光板状体の製造方法。

【請求項2】 請求項1に記載の熱蛍光板状体の製造方法であって、
 前記第1混合体を形成するにあたり、四ホウ酸リチウムに対して、0.03~0.16wt%の範囲内の割合で酸化マンガン(IV)、及び0.6~3.6wt%の範囲内の割合で酸化アルミニウムを、それぞれ添加する
ことを特徴とする熱蛍光板状体の製造方法。

【請求項3】 請求項2に記載の熱蛍光板状体の製造方法であって、
 前記第1混合体を形成するにあたり、四ホウ酸リチウムに対して、0.037wt%の酸化マンガン(IV)、及び0.72wt%の酸化アルミニウムを、それぞれ添加する
ことを特徴とする熱蛍光板状体の製造方法。

【請求項4】 請求項1~3のいずれか一項に記載の熱蛍光板状体の製造方法であって、
 前記第2混合体を形成するにあたり、前記粉砕体に対して多くとも0.19倍の重量比で活性炭を混合する
ことを特徴とする熱蛍光板状体の製造方法。

【請求項5】 請求項4に記載の熱蛍光板状体の製造方法であって、
 前記第2混合体を形成するにあたり、前記粉砕体及び前記活性炭を、1:0.16の重量比で混合する
ことを特徴とする熱蛍光板状体の製造方法。

【請求項6】 請求項1~5のいずれか一項に記載の熱蛍光板状体の製造方法であって、
 前記第2混合体を形成するにあたり、前記粉砕体に、四ホウ酸リチウム、酸化マンガン(IV)、及び酸化アルミニウムの混合体を新たに混入することのない
ことを特徴とする熱蛍光板状体の製造方法。

【請求項7】 請求項1に記載の熱蛍光板状体の製造方法であって、
 前記第2混合体を形成するにあたり、前記粉砕体及び前記活性炭に、四ホウ酸リチウム、酸化マンガン(IV)、及び酸化アルミニウムを混合して形成した第3混合体を混入する
ことを特徴とする熱蛍光板状体の製造方法。

【請求項8】 請求項7に記載の熱蛍光板状体の製造方法であって、
 前記第1混合体を形成するにあたり、四ホウ酸リチウムに対して、0.01~0.20wt%の範囲内の割合で酸化マンガン(IV)、及び0.02~2.00wt%の範囲内の割合で酸化アルミニウムを、それぞれ添加し、及び
 前記第3混合体を形成するにあたり、四ホウ酸リチウムに対して、0.01~0.20wt%の範囲内の割合で酸化マンガン(IV)、及び0.02~2.00wt%の範囲内の割合で酸化アルミニウムを、それぞれ添加する
ことを特徴とする熱蛍光板状体の製造方法。

【請求項9】 請求項7または8に記載の熱蛍光板状体の製造方法であって、
 前記第2混合体を形成するにあたり、前記粉砕体、前記第3混合体、及び前記活性炭を、1.00:0.10:0.18の重量比で混合する
ことを特徴とする熱蛍光板状体の製造方法。

【請求項10】 請求項7~9のいずれか一項に記載の熱蛍光板状体の製造方法であって、
 前記第3混合体を形成するにあたり、さらに、酸化ホウ素を追加して混合する
ことを特徴とする熱蛍光板状体の製造方法。

【請求項11】 請求項10に記載の熱蛍光板状体の製造方法であって、
 前記第3混合体を形成するにあたり、四ホウ酸リチウムに対して、0.01~0.20wt%の範囲内の割合で酸化マンガン(IV)、0.02~2.00wt%の範囲内の割合で酸化アルミニウム、及び最大でも8.00wt%の割合で酸化ホウ素を、それぞれ添加する
ことを特徴とする熱蛍光板状体の製造方法。

【請求項12】 四ホウ酸リチウム及び酸化マンガン(IV)を混合して第1混合体を形成する工程と、
 該第1混合体を熱処理することによって第1焼結体を形成する工程と、
 該第1焼結体を粉砕して粉砕体にする工程と、
 四ホウ酸リチウム、酸化マンガン(IV)、及び酸化アルミニウムを混合して第3混合体を形成する工程と、
 前記粉砕体及び前記第3混合体と活性炭とを混合して第2混合体を形成する工程と、
 該第2混合体を平板状に圧迫成型することによって板状体を形成する工程と、
 該板状体を熱処理することによって、第2焼結体としての熱蛍光板状体を形成する工程と、
を含むことを特徴とする熱蛍光板状体の製造方法。

【請求項13】 請求項12に記載の熱蛍光板状体の製造方法であって、
 前記第3混合体を形成するにあたり、さらに、酸化ホウ素を追加して混合する
ことを特徴とする熱蛍光板状体の製造方法。

【請求項14】 請求項1~6のいずれか一項に記載の熱蛍光板状体の製造方法を用いて製造された熱蛍光板状体を複数枚用意する第1工程と、
 該複数枚の熱蛍光板状体を積層することによって、熱蛍光積層体を形成する第2工程と
を含むことを特徴とする熱蛍光積層体の製造方法。

【請求項15】 請求項1~6のいずれか一項に記載の熱蛍光板状体の製造方法を用いて製造された熱蛍光板状体。

【請求項16】 請求項15に記載の熱蛍光板状体が、複数枚積層されて形成されていることを特徴とする熱蛍光積層体。

【請求項17】 請求項16に記載の熱蛍光積層体であって、
 3次元線量分布を取得するために用いられることを特徴とする熱蛍光積層体。

【請求項18】 請求項16または17に記載の熱蛍光積層体に対して放射線を照射する過程と、
 前記熱蛍光積層体を構成する複数の熱蛍光板状体の各々から加熱により発生する熱蛍光を、該複数の熱蛍光板状体の積層面に直交する方向からそれぞれ撮影して、前記放射線の線量分布に対応した、前記積層面に沿った前記放射線の平面的な光強度分布をそれぞれ取得する過程と、
 取得したそれぞれの前記光強度分布を、前記積層方向に、積層順に順次重ね合わせることによって、前記熱蛍光積層体における、立体的な光強度分布に対応した、前記放射線の立体的な線量分布を取得する過程と
を含むことを特徴とする放射線の3次元線量分布の取得方法。
  • Applicant
  • ※All designated countries except for US in the data before July 2012
  • RIKKYO GAKUIN
  • Inventor
  • URUSHIYAMA, Akio
  • SHINSHO, Kiyomitsu
  • TOMIZAWA, Yuji
IPC(International Patent Classification)
Specified countries AE(UTILITY MODEL),AG,AL(UTILITY MODEL),AM(PROVISIONAL PATENT)(UTILITY MODEL),AO(UTILITY MODEL),AT(UTILITY MODEL),AU,AZ(UTILITY MODEL),BA,BB,BG(UTILITY MODEL),BH(UTILITY MODEL),BR(UTILITY MODEL),BW(UTILITY MODEL),BY(UTILITY MODEL),BZ(UTILITY MODEL),CA,CH,CL(UTILITY MODEL),CN(UTILITY MODEL),CO(UTILITY MODEL),CR(UTILITY MODEL),CU(INVENTOR'S CERTIFICATE),CZ(UTILITY MODEL),DE(UTILITY MODEL),DK(UTILITY MODEL),DM,DO(UTILITY MODEL),DZ,EC(UTILITY MODEL),EE(UTILITY MODEL),EG(UTILITY MODEL),ES(UTILITY MODEL),FI(UTILITY MODEL),GB,GD,GE(UTILITY MODEL),GH(UTILITY CERTIFICATE),GM,GT(UTILITY MODEL),HN,HR(CONSENSUAL PATENT),HU(UTILITY MODEL),ID,IL,IN,IS,KE(UTILITY MODEL),KG(UTILITY MODEL),KM,KN,KP(INVENTOR'S CERTIFICATE)(UTILITY MODEL),KR(UTILITY MODEL),KZ(PROVISIONAL PATENT)(UTILITY MODEL),LA,LC,LK,LR,LS(UTILITY MODEL),LT,LU,LY,MA,MD(UTILITY MODEL),ME,MG,MK,MN,MW,MX(UTILITY MODEL),MY(UTILITY-INNOVATION),MZ(UTILITY MODEL),NA,NG,NI(UTILITY MODEL),NO,NZ,OM(UTILITY MODEL),PE(UTILITY MODEL),PG,PH(UTILITY MODEL),PL(UTILITY MODEL),PT(UTILITY MODEL),RO,RS(PETTY PATENT),RU(UTILITY MODEL),SC,SD,SE,SG,SK(UTILITY MODEL),SL(UTILITY MODEL),SM,ST,SV(UTILITY MODEL),SY,TJ(UTILITY MODEL),TM(PROVISIONAL PATENT),TN,TR(UTILITY MODEL),TT(UTILITY CERTIFICATE),TZ,UA(UTILITY MODEL),UG(UTILITY CERTIFICATE),US,UZ(UTILITY MODEL),VC(UTILITY CERTIFICATE),VN(PATENT FOR UTILITY SOLUTION),ZA,ZM,ZW,EP(AT,BE,BG,CH,CY,CZ,DE,DK,EE,ES,FI,FR,GB,GR,HR,HU,IE,IS,IT,LT,LU,LV,MC,MK,MT,NL,NO,PL,PT,RO,SE,SI,SK,SM,TR),OA(BF(UTILITY MODEL),BJ(UTILITY MODEL),CF(UTILITY MODEL),CG(UTILITY MODEL),CI(UTILITY MODEL),CM(UTILITY MODEL),GA(UTILITY MODEL),GN(UTILITY MODEL),GQ(UTILITY MODEL),GW(UTILITY MODEL),ML(UTILITY MODEL),MR(UTILITY MODEL),NE(UTILITY MODEL),SN(UTILITY MODEL),TD(UTILITY MODEL),TG(UTILITY MODEL)),AP(BW(UTILITY MODEL),GH(UTILITY MODEL),GM(UTILITY MODEL),KE(UTILITY MODEL),LS(UTILITY MODEL),MW(UTILITY MODEL),MZ(UTILITY MODEL),NA(UTILITY MODEL),SD(UTILITY MODEL),SL(UTILITY MODEL),SZ(UTILITY MODEL),TZ(UTILITY MODEL),UG(UTILITY MODEL),ZM(UTILITY MODEL),ZW(UTILITY MODEL)),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ,MD,RU,TJ,TM)
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