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PHOTODYNAMIC THERAPEUTIC AGENT SHOWING ACCUMULATION OF CELL-SPECIFIC FUNCTIONS

Foreign code F110002824
File No. S2009-0244-C0
Posted date May 2, 2011
Country WIPO
International application number 2009JP071517
International publication number WO 2010/071230
Date of international filing Dec 17, 2009
Date of international publication Jun 24, 2010
Priority data
  • P2008-321500 (Dec 17, 2008) JP
Title PHOTODYNAMIC THERAPEUTIC AGENT SHOWING ACCUMULATION OF CELL-SPECIFIC FUNCTIONS
Abstract Provided is a cancer cell-specific high-molecular-weight polymer compound, which contains a photosensitizer for photodynamic therapy and wherein antibodies to cancer cell-specific antigens are bound to the surface. This compound is intended for a photodynamic therapeutic agent, low concentrations of which are capable of reaching cancer tissues through the use of active targeting in which the complications that accompany photodynamic therapy, such as sunlight hypersensitivity, are unlikely to occur.
Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】 光線力学療法用光感受性物質を含み、表面に癌細胞特異的抗原に対する抗体が結合した癌細胞特異的高分子ポリマー化合物。

【請求項2】 高分子ポリマーが2?メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリン(以下MPCと略記)に基づく構成単位及び疎水性単量体に基づく構成単位を有する共重合体である請求項1記載の癌細胞特異的高分子ポリマー化合物。

【請求項3】 高分子ポリマーがMPCとn?ブチルメタクリレートの共重合体である請求項2記載の癌細胞特異的高分子ポリマー化合物。

【請求項4】 高分子ポリマーがリポソーム又はリポソーム様の高分子会合体である請求項1記載の癌細胞特異的高分子ポリマー化合物。

【請求項5】 さらに、活性エステル基を含有するモノマー化合物を含む請求項1~4のいずれか1項に記載の癌細胞特異的高分子ポリマー化合物。

【請求項6】 活性エステル基を含有するモノマー化合物がp?ニトロフェニルオキシカルボニルエチレングリコールメタクリレートである請求項5記載の癌細胞特異的高分子ポリマー化合物。

【請求項7】 癌細胞特異的抗原に対する抗体が抗EGFR抗体、抗EpCAM抗体及び抗c?erbB?2抗体からなる群から選択される、請求項1~6のいずれか1項に記載の癌細胞特異的高分子ポリマー化合物。

【請求項8】 癌細胞特異的抗原に対する抗体が活性エステル基を含有するモノマー化合物の活性エステル基を介して結合している、請求項1~7のいずれか1項に記載の癌細胞特異的高分子ポリマー化合物。

【請求項9】 光線力学療法用光感受性物質がベルテポルフィンである請求項1~8のいずれか1項に記載の癌細胞特異的高分子ポリマー化合物。

【請求項10】 請求項1~9のいずれか1項に記載の癌細胞特異的高分子ポリマー化合物を含む、光線力学療法剤。

【請求項11】 静脈注射製剤である、請求項10記載の光線力学療法剤。

【請求項12】 MPC、n?ブチルメタクリレート及び活性エステル基を含有するモノマー化合物を混合し、MPCポリマーを製造し、次いで、癌細胞特異的抗原に対する抗体と混合し、p?ニトロフェニルオキシカルボニルエチレングリコールメタクリレートの活性エステル基に前記抗体を結合させ、さらに、光線力学療法用光感受性物質を混合し、MPCポリマーに該光線力学療法用光感受性物質を内包させることを含む、光線力学療法剤の製造方法。

【請求項13】 活性エステル基を含有するモノマー化合物がp?ニトロフェニルオキシカルボニルエチレングリコールメタクリレートである請求項12記載の光線力学療法剤の製造方法。

【請求項14】 癌細胞特異的抗原に対する抗体が抗EGFR抗体、抗EpCAM抗体及び抗c?erbB?2抗体からなる群から選択される、請求項12又は13に記載の光線力学療法剤の製造方法。

【請求項15】 光線力学療法用光感受性物質がベルテポルフィンである請求項12~14のいずれか1項に記載の光線力学療法剤の製造方法。
  • Applicant
  • ※All designated countries except for US in the data before July 2012
  • KEIO UNIVERSITY
  • THE UNIVERSITY OF TOKYO
  • Inventor
  • UEDA, Masakazu
  • ARAI, Tsunenori
  • MATSUDA, Sachiko
  • ISHIHARA, Kazuhiko
IPC(International Patent Classification)
Specified countries AE(UTILITY MODEL),AG,AL(UTILITY MODEL),AM(PROVISIONAL PATENT)(UTILITY MODEL),AO(UTILITY MODEL),AT(UTILITY MODEL),AU,AZ(UTILITY MODEL),BA,BB,BG(UTILITY MODEL),BH(UTILITY MODEL),BR(UTILITY MODEL),BW(UTILITY MODEL),BY(UTILITY MODEL),BZ(UTILITY MODEL),CA,CH,CL(UTILITY MODEL),CN(UTILITY MODEL),CO(UTILITY MODEL),CR(UTILITY MODEL),CU(INVENTOR'S CERTIFICATE),CZ(UTILITY MODEL),DE(UTILITY MODEL),DK(UTILITY MODEL),DM,DO(UTILITY MODEL),DZ,EC(UTILITY MODEL),EE(UTILITY MODEL),EG(UTILITY MODEL),ES(UTILITY MODEL),FI(UTILITY MODEL),GB,GD,GE(UTILITY MODEL),GH(UTILITY CERTIFICATE),GM,GT(UTILITY MODEL),HN,HR(CONSENSUAL PATENT),HU(UTILITY MODEL),ID,IL,IN,IS,JP(UTILITY MODEL),KE(UTILITY MODEL),KG(UTILITY MODEL),KM,KN,KP(INVENTOR'S CERTIFICATE)(UTILITY MODEL),KR(UTILITY MODEL),KZ(PROVISIONAL PATENT)(UTILITY MODEL),LA,LC,LK,LR,LS(UTILITY MODEL),LT,LU,LY,MA,MD(UTILITY MODEL),ME,MG,MK,MN,MW,MX(UTILITY MODEL),MY(UTILITY-INNOVATION),MZ(UTILITY MODEL),NA,NG,NI(UTILITY MODEL),NO,NZ,OM(UTILITY MODEL),PE(UTILITY MODEL),PG,PH(UTILITY MODEL),PL(UTILITY MODEL),PT(UTILITY MODEL),RO,RS(PETTY PATENT),RU(UTILITY MODEL),SC,SD,SE,SG,SK(UTILITY MODEL),SL(UTILITY MODEL),SM,ST,SV(UTILITY MODEL),SY,TJ(UTILITY MODEL),TM(PROVISIONAL PATENT),TN,TR(UTILITY MODEL),TT(UTILITY CERTIFICATE),TZ,UA(UTILITY MODEL),UG(UTILITY CERTIFICATE),US,UZ(UTILITY MODEL),VC(UTILITY CERTIFICATE),VN(PATENT FOR UTILITY SOLUTION),ZA,ZM,ZW,EP(AT,BE,BG,CH,CY,CZ,DE,DK,EE,ES,FI,FR,GB,GR,HR,HU,IE,IS,IT,LT,LU,LV,MC,MK,MT,NL,NO,PL,PT,RO,SE,SI,SK,SM,TR),OA(BF(UTILITY MODEL),BJ(UTILITY MODEL),CF(UTILITY MODEL),CG(UTILITY MODEL),CI(UTILITY MODEL),CM(UTILITY MODEL),GA(UTILITY MODEL),GN(UTILITY MODEL),GQ(UTILITY MODEL),GW(UTILITY MODEL),ML(UTILITY MODEL),MR(UTILITY MODEL),NE(UTILITY MODEL),SN(UTILITY MODEL),TD(UTILITY MODEL),TG(UTILITY MODEL)),AP(BW(UTILITY MODEL),GH(UTILITY MODEL),GM(UTILITY MODEL),KE(UTILITY MODEL),LS(UTILITY MODEL),MW(UTILITY MODEL),MZ(UTILITY MODEL),NA(UTILITY MODEL),SD(UTILITY MODEL),SL(UTILITY MODEL),SZ(UTILITY MODEL),TZ(UTILITY MODEL),UG(UTILITY MODEL),ZM(UTILITY MODEL),ZW(UTILITY MODEL)),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ,MD,RU,TJ,TM)
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