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CELL ADHESION PROMOTING AGENT AND METHOD OF PROMOTING CELL ADHESION meetings

Foreign code F110002855
File No. S2008-0654-C0
Posted date May 6, 2011
Country WIPO
International application number 2009JP060950
International publication number WO 2009/154201
Date of international filing Jun 16, 2009
Date of international publication Dec 23, 2009
Priority data
  • P2008-159369 (Jun 18, 2008) JP
Title CELL ADHESION PROMOTING AGENT AND METHOD OF PROMOTING CELL ADHESION meetings
Abstract Disclosed is an agent for promoting cell adhesion to a support containing the dispirotripiperazine derivative represented by formula (I) below or a salt thereof, a method of promoting cell adhesion to a support that is characterized by adding the dispirotripiperazine derivative represented by formula (I) below or a salt thereof to a culture medium or applying the same to a support, and a heparin sulfate agonist that contains the dispirotripiperazine derivative represented by formula (I) below or a salt thereof, and promotes cell adhesion and/or cell propagation.
Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】 下記式(I)で表されるジスピロトリピペラジン誘導体又はその塩を含む、支持体への細胞接着促進剤。
【化学式1】〔式中、R1及びR2は、同一又は異なって、水素、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルキルアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アリール置換アルキル基、ヘテロアリール置換アルキル基 (R1及びR2が両方水素の場合は除かれ、R1及びR2はダンシルヒドラジン誘導体化若しくはインテグリン結合活性を持つ物質が結合していてもよく、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基及びアルキル部分は、ハロゲン、ヒドロキシ(当該ヒドロキシはアシル化、カルバメート化又はエーテル化されていてもよい)、シアノ、ニトロ、アミノ、モノ若しくはジ置換アミノ、カルバモイル及びスルファモイルから選択される原子又は基で置換されていてもよく、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、アルキル部分及びシクロアルキル部分は、-O-、-S-、-SO-、-SO2-、-OSO2-、-NH-、-CO-、-CH=CH-、-C≡C-、-CONH-、-NHCO-、-NHCOO-、-OCH2CONH-又は-OCH2CO-で割り込まれていてもよく、アリール基、アリール部分、ヘテロアリール基、ヘテロアリール部分、シクロアルキル基及びシクロアルキル部分は、ハロゲン、ヒドロキシ、ホルミル、アルキル、ヒドロキシアルキル、アルコキシ、アルキルチオ、シアノ、ニトロ、アミノ、モノ若しくはジ置換アミノ、カルバモイル、スルファモイル、アルキルスルホニル、アルキルスルホニルアミノ、アルキルカルボニルアミノ、メチレンジオキシ及びアリールから選択される原子又は基で置換されていてもよい)、又は下記式(II)で表される基(R1及びR2が両方下記式(II)で表される基の場合を除く)を意味する。
【化学式2】〔式中、R1aはアルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、シクロアルキレン基、シクロアルキルアルキレン基、アリーレン基、ヘテロアリーレン基、アリール置換アルキレン基、又はヘテロアリール置換アルキレン基(アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基及びアルキレン部分は、ハロゲン、ヒドロキシ(当該ヒドロキシはアシル化、カルバメート化又はエーテル化されていてもよい)、シアノ、ニトロ、アミノ、モノ若しくはジ置換アミノ、カルバモイル及びスルファモイルから選択される原子又は基で置換されていてもよく、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、シクロアルキレン基、アルキレン部分及びシクロアルキル部分は、-O-、-S-、-SO-、-SO2-、-OSO2-、-NH-、-CO-、-CH=CH-、-C≡C-、-CONH-、-NHCO-、-NHCOO-、-OCH2CONH-又は-OCH2CO-で割り込まれていてもよく、アリーレン基、アリール部分、ヘテロアリーレン基、ヘテロアリール部分、シクロアルキレン基、及びシクロアルキル部分は、ハロゲン、ヒドロキシ、ホルミル、アルキル、ヒドロキシアルキル、アルコキシ、アルキルチオ、シアノ、ニトロ、アミノ、モノ若しくはジ置換アミノ、カルバモイル、スルファモイル、アルキルスルホニル、アルキルスルホニルアミノ、アルキルカルボニルアミノ、メチレンジオキシ及びアリールから選択される原子又は基で置換されていてもよい)を意味し、
R2aは、R1及びR2の定義に同じである。〕〕

【請求項2】 ジスピロトリピペラジン誘導体が以下の群から選択される、請求項1に記載の細胞接着促進剤。
【化学式3】【化学式4】【化学式5】【化学式6】【化学式7】【化学式8】【化学式9】及び
【化学式10】

【請求項3】 前記支持体が細胞培養容器である、請求項1に記載の細胞接着促進剤。

【請求項4】 前記細胞が浮遊性細胞である、請求項1に記載の細胞接着促進剤。

【請求項5】 請求項1に記載のジスピロトリピペラジン誘導体又はその塩を培地に添加もしくは支持体に塗布することを特徴とする、支持体へ細胞の接着を促進させる方法。

【請求項6】 請求項2に記載のジスピロトリピペラジン誘導体又はその塩を培地に添加もしくは支持体に塗布することを特徴とする、支持体へ細胞の接着を促進させる方法。

【請求項7】 前記支持体が細胞培養容器である、請求項5に記載の方法。

【請求項8】 前記細胞が浮遊性細胞である、請求項5に記載の方法。

【請求項9】 請求項1に記載のジスピロトリピペラジン誘導体又はその塩を含む、細胞接着及び/又は細胞増殖を促進するヘパラン硫酸のアゴニスト。

【請求項10】 下記式(Ia)で表されるジスピロトリピペラジン誘導体又はその塩。
【化学式11】〔式中、R3及びR4は、同一又は異なって、単環のアリール基、ヘテロアリール基(R3及びR4はダンシルヒドラジン誘導体化若しくはインテグリン結合活性を持つ物質が結合していてもよく、アリール基及びヘテロアリール基は、ハロゲン、ヒドロキシ、ホルミル、アルキル、ヒドロキシアルキル、アルコキシ、アルキルチオ、シアノ、ニトロ、アミノ、モノ若しくはジ置換アミノ、カルバモイル、スルファモイル、アルキルスルホニル、アルキルスルホニルアミノ、アルキルカルボニルアミノ、メチレンジオキシ及びアリールから選択される原子又は基で置換されていてもよい)、又は下記式(IIa)で表される基(R3及びR4が同一であって、5位がニトロ基、アミノ基、ホルミル基若しくはエトキシカルボニル基で置換された4-ピリミジル基、3位がニトロ基で置換された2-ピリジル基、又は2位がニトロ基で置換されたフェニル基である場合、並びR3及びR4の両方が下記式(IIa)で表される基の場合を除く)を意味する。
【化学式12】〔式中、R3aは単環のアリーレン基又はヘテロアリーレン基(アリーレン基及びヘテロアリーレン基は、ハロゲン、ヒドロキシ、ホルミル、アルキル、ヒドロキシアルキル、アルコキシ、アルキルチオ、シアノ、ニトロ、アミノ、モノ若しくはジ置換アミノ、カルバモイル、スルファモイル、アルキルスルホニル、アルキルスルホニルアミノ、アルキルカルボニルアミノ、メチレンジオキシ及びアリールから選択される原子又は基で置換されていてもよい)を意味し、
R4aは、R3及びR4の定義に同じである。〕〕

【請求項11】 下記の群から選択されるジスピロトリピペラジン誘導体又はその塩。
【化学式13】【化学式14】【化学式15】【化学式16】及び
【化学式17】
  • Applicant
  • ※All designated countries except for US in the data before July 2012
  • KYOTO UNIVERSITY
  • Inventor
  • UESUGI, Motonari
  • YAMAZOE, Sayumi
IPC(International Patent Classification)
Specified countries AE(UTILITY MODEL),AG,AL(UTILITY MODEL),AM(PROVISIONAL PATENT)(UTILITY MODEL),AO(UTILITY MODEL),AT(UTILITY MODEL),AU,AZ(UTILITY MODEL),BA,BB,BG(UTILITY MODEL),BH(UTILITY MODEL),BR(UTILITY MODEL),BW(UTILITY MODEL),BY(UTILITY MODEL),BZ(UTILITY MODEL),CA,CH,CL(UTILITY MODEL),CN(UTILITY MODEL),CO(UTILITY MODEL),CR(UTILITY MODEL),CU(INVENTOR'S CERTIFICATE),CZ(UTILITY MODEL),DE(UTILITY MODEL),DK(UTILITY MODEL),DM,DO(UTILITY MODEL),DZ,EC(UTILITY MODEL),EE(UTILITY MODEL),EG(UTILITY MODEL),ES(UTILITY MODEL),FI(UTILITY MODEL),GB,GD,GE(UTILITY MODEL),GH(UTILITY CERTIFICATE),GM,GT(UTILITY MODEL),HN,HR(CONSENSUAL PATENT),HU(UTILITY MODEL),ID,IL,IN,IS,JP(UTILITY MODEL),KE(UTILITY MODEL),KG(UTILITY MODEL),KM,KN,KP(INVENTOR'S CERTIFICATE)(UTILITY MODEL),KR(UTILITY MODEL),KZ(PROVISIONAL PATENT)(UTILITY MODEL),LA,LC,LK,LR,LS(UTILITY MODEL),LT,LU,LY,MA,MD(UTILITY MODEL),ME,MG,MK,MN,MW,MX(UTILITY MODEL),MY(UTILITY-INNOVATION),MZ(UTILITY MODEL),NA,NG,NI(UTILITY MODEL),NO,NZ,OM(UTILITY MODEL),PE(UTILITY MODEL),PG,PH(UTILITY MODEL),PL(UTILITY MODEL),PT(UTILITY MODEL),RO,RS(PETTY PATENT),RU(UTILITY MODEL),SC,SD,SE,SG,SK(UTILITY MODEL),SL(UTILITY MODEL),SM,ST,SV(UTILITY MODEL),SY,TJ(UTILITY MODEL),TM(PROVISIONAL PATENT),TN,TR(UTILITY MODEL),TT(UTILITY CERTIFICATE),TZ,UA(UTILITY MODEL),UG(UTILITY CERTIFICATE),US,UZ(UTILITY MODEL),VC(UTILITY CERTIFICATE),VN(PATENT FOR UTILITY SOLUTION),ZA,ZM,ZW,EP(AT,BE,BG,CH,CY,CZ,DE,DK,EE,ES,FI,FR,GB,GR,HR,HU,IE,IS,IT,LT,LU,LV,MC,MK,MT,NL,NO,PL,PT,RO,SE,SI,SK,TR),OA(BF(UTILITY MODEL),BJ(UTILITY MODEL),CF(UTILITY MODEL),CG(UTILITY MODEL),CI(UTILITY MODEL),CM(UTILITY MODEL),GA(UTILITY MODEL),GN(UTILITY MODEL),GQ(UTILITY MODEL),GW(UTILITY MODEL),ML(UTILITY MODEL),MR(UTILITY MODEL),NE(UTILITY MODEL),SN(UTILITY MODEL),TD(UTILITY MODEL),TG(UTILITY MODEL)),AP(BW(UTILITY MODEL),GH(UTILITY MODEL),GM(UTILITY MODEL),KE(UTILITY MODEL),LS(UTILITY MODEL),MW(UTILITY MODEL),MZ(UTILITY MODEL),NA(UTILITY MODEL),SD(UTILITY MODEL),SL(UTILITY MODEL),SZ(UTILITY MODEL),TZ(UTILITY MODEL),UG(UTILITY MODEL),ZM(UTILITY MODEL),ZW(UTILITY MODEL)),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ,MD,RU,TJ,TM)
Please contact us by e-mail or facsimile if you have any interests on this patent. Thanks.

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