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ZEOLITE-PALLADIUM COMPLEX, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, CATALYST COMPRISING THE COMPLEX, AND METHOD FOR PRODUCING A COUPLING COMPOUND USING THE CATALYST

Foreign code F110002953
File No. S2009-0696-C0
Posted date May 9, 2011
Country WIPO
International application number 2010JP052739
International publication number WO 2010/098310
Date of international filing Feb 23, 2010
Date of international publication Sep 2, 2010
Priority data
  • P2009-041547 (Feb 24, 2009) JP
  • P2009-205487 (Sep 7, 2009) JP
Title ZEOLITE-PALLADIUM COMPLEX, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, CATALYST COMPRISING THE COMPLEX, AND METHOD FOR PRODUCING A COUPLING COMPOUND USING THE CATALYST
Abstract Disclosed is a substance with far greater catalytic activity in a Suzuki-Miyaura reaction in comparison to conventional heterogeneous catalysts. A zeolite-palladium complex is provided with a USY zeolite and Pd supported on the aforementioned USY zeolite, wherein the aforementioned Pd has a Pd-Pd coordination number of 4 or less and an oxidation number of 0.5 or less.
Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】USY型ゼオライトと、前記USY型ゼオライトに担持されたPdとを備え、前記Pdは、Pd-Pd配位数が4以下であり且つ酸化数が0.5以下であるゼオライト-パラジウム複合体。

【請求項2】請求項1に記載の複合体を含む触媒。

【請求項3】δHが130~145kJ/molの強酸点量が0.12mol/kg以上であるH-USY型ゼオライト。

【請求項4】NH4 +量が0.15~1.3mol/kgであるNH4 +含有USY型ゼオライト。

【請求項5】請求項4に記載のNH4 +含有USY型ゼオライトと、パラジウムアンモニウム塩とを混合して得られるゼオライト-パラジウム複合体前駆体。

【請求項6】NH4 +含有USY型ゼオライトと、パラジウムアンモニウム塩とを混合して得られるゼオライト-パラジウム複合体前駆体に対してキシレンとトルエンと少なくとも一方を含む溶媒中において20℃以上170℃以下の温度で水素分圧1~30%で水素バブリングを行う工程を備えるゼオライト-パラジウム複合体の製造方法。

【請求項7】前記NH4 +含有USY型ゼオライトは、NH4 +量が0.15~1.3mol/kgである請求項6に記載の方法。

【請求項8】前記NH4 +含有USY型ゼオライトは、H-USY型ゼオライトをアンモニウム塩でイオン交換した後に焼成することによって製造される請求項6に記載の方法。

【請求項9】前記H-USY型ゼオライトは、δHが130~145kJ/molの強酸点量が0.12mol/kg以上である請求項8に記載の方法。

【請求項10】前記焼成は、150~350℃で行われる請求項8に記載の方法。

【請求項11】請求項1に記載の、又は請求項6に記載の方法によって製造されたゼオライト-パラジウム複合体の存在下で、キシレンとトルエンと少なくとも一方を含む溶媒中において、鈴木・宮浦カップリング反応の反応物をカップリング反応させる工程を備える鈴木・宮浦カップリング化合物の製造方法

【請求項12】前記カップリング反応の間に20℃以上170℃以下の温度で水素分圧1~30%で水素バブリングを行う請求項11に記載の方法。

【請求項13】NH4 +含有USY型ゼオライトと、パラジウムアンモニウム塩とを混合して得られるゼオライト-パラジウム複合体前駆体に対して、鈴木・宮浦カップリング反応の反応物の存在下で、キシレンとトルエンと少なくとも一方を含む溶媒中において20℃以上170℃以下の温度で水素分圧1~30%で水素バブリングを行うことによってゼオライト-パラジウム複合体を製造すると共に前記反応物をカップリング反応させる工程を備える鈴木・宮浦カップリング化合物の製造方法。
  • Applicant
  • ※All designated countries except for US in the data before July 2012
  • NATIONAL UNIVERSITY CORPORATION TOTTORI UNIVERSITY
  • Inventor
  • OKUMURA Kazu
  • NIWA Miki
  • MATSUI Hirosuke
  • ENMI Yoshinori
  • TOMIYAMA Takuya
  • OKUDA Shizuyo
IPC(International Patent Classification)
Specified countries AE(UTILITY MODEL),AG,AL(UTILITY MODEL),AM(PROVISIONAL PATENT)(UTILITY MODEL),AO(UTILITY MODEL),AT(UTILITY MODEL),AU,AZ(UTILITY MODEL),BA,BB,BG(UTILITY MODEL),BH(UTILITY MODEL),BR(UTILITY MODEL),BW(UTILITY MODEL),BY(UTILITY MODEL),BZ(UTILITY MODEL),CA,CH,CL(UTILITY MODEL),CN(UTILITY MODEL),CO(UTILITY MODEL),CR(UTILITY MODEL),CU(INVENTOR'S CERTIFICATE),CZ(UTILITY MODEL),DE(UTILITY MODEL),DK(UTILITY MODEL),DM,DO(UTILITY MODEL),DZ,EC(UTILITY MODEL),EE(UTILITY MODEL),EG(UTILITY MODEL),ES(UTILITY MODEL),FI(UTILITY MODEL),GB,GD,GE(UTILITY MODEL),GH(UTILITY CERTIFICATE),GM,GT(UTILITY MODEL),HN(UTILITY MODEL),HR(CONSENSUAL PATENT),HU(UTILITY MODEL),ID,IL,IN,IS,JP(UTILITY MODEL),KE(UTILITY MODEL),KG(UTILITY MODEL),KM,KN,KP(INVENTOR'S CERTIFICATE)(UTILITY MODEL),KR(UTILITY MODEL),KZ(PROVISIONAL PATENT)(UTILITY MODEL),LA,LC,LK,LR,LS(UTILITY MODEL),LT,LU,LY,MA,MD(UTILITY MODEL),ME,MG,MK,MN,MW,MX(UTILITY MODEL),MY(UTILITY-INNOVATION),MZ(UTILITY MODEL),NA,NG,NI(UTILITY MODEL),NO,NZ,OM(UTILITY MODEL),PE(UTILITY MODEL),PG,PH(UTILITY MODEL),PL(UTILITY MODEL),PT(UTILITY MODEL),RO,RS(PETTY PATENT),RU(UTILITY MODEL),SC,SD,SE,SG,SK(UTILITY MODEL),SL(UTILITY MODEL),SM,ST,SV(UTILITY MODEL),SY,TH(PETTY PATENT),TJ(UTILITY MODEL),TM(PROVISIONAL PATENT),TN,TR(UTILITY MODEL),TT(UTILITY CERTIFICATE),TZ,UA(UTILITY MODEL),UG(UTILITY CERTIFICATE),US,UZ(UTILITY MODEL),VC(UTILITY CERTIFICATE),VN(PATENT FOR UTILITY SOLUTION),ZA,ZM,ZW,EP(AT,BE,BG,CH,CY,CZ,DE,DK,EE,ES,FI,FR,GB,GR,HR,HU,IE,IS,IT,LT,LU,LV,MC,MK,MT,NL,NO,PL,PT,RO,SE,SI,SK,SM,TR),OA(BF(UTILITY MODEL),BJ(UTILITY MODEL),CF(UTILITY MODEL),CG(UTILITY MODEL),CI(UTILITY MODEL),CM(UTILITY MODEL),GA(UTILITY MODEL),GN(UTILITY MODEL),GQ(UTILITY MODEL),GW(UTILITY MODEL),ML(UTILITY MODEL),MR(UTILITY MODEL),NE(UTILITY MODEL),SN(UTILITY MODEL),TD(UTILITY MODEL),TG(UTILITY MODEL)),AP(BW(UTILITY MODEL),GH(UTILITY MODEL),GM(UTILITY MODEL),KE(UTILITY MODEL),LS(UTILITY MODEL),MW(UTILITY MODEL),MZ(UTILITY MODEL),NA(UTILITY MODEL),SD(UTILITY MODEL),SL(UTILITY MODEL),SZ(UTILITY MODEL),TZ(UTILITY MODEL),UG(UTILITY MODEL),ZM(UTILITY MODEL),ZW(UTILITY MODEL)),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ,MD,RU,TJ,TM)
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