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POLYMER PARTICLES CONTAINING FLUORESCENT MOLECULE AND PROCESS FOR PRODUCING SAME meetings

Foreign code F110002965
File No. S2008-0803-C0
Posted date May 9, 2011
Country WIPO
International application number 2009JP004476
International publication number WO 2010/029739
Date of international filing Sep 10, 2009
Date of international publication Mar 18, 2010
Priority data
  • P2008-232832 (Sep 11, 2008) JP
Title POLYMER PARTICLES CONTAINING FLUORESCENT MOLECULE AND PROCESS FOR PRODUCING SAME meetings
Abstract Disclosed are polymer particles comprising a polymer layer having a high fluorescent molecule content. Also disclosed is a process for producing the polymer particles. Swelling of polymer particles in a nonaqueous solvent from which water is removed accelerates swelling of a polymer layer and, at the same time, can realize the introduction of a larger amount of fluorescent molecules into the polymer layer because the migration of the fluorescent molecules into the polymer layer is not inhibited by water molecules. Further, since water is added to the reaction system before the nonaqueous solvent is removed by evaporation, water which stays in the reaction system prevents the polymer particles from drying and, consequently, a high level of dispersion of the polymer particles containing fluorescent molecules can be maintained well.
Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】 ポリマー磁性粒子を蛍光分子が溶解した非水系溶媒に分散させて被覆ポリマー層を膨潤し、該膨潤した被覆ポリマー層に蛍光分子を吸収させる工程と、
 前記蛍光分子を吸収した前記ポリマー磁性粒子が分散した前記非水系溶媒に水を添加する工程と、
 前記非水系溶媒を蒸発除去する工程とを含む、
 蛍光分子含有ポリマー磁性粒子の製造方法。

【請求項2】 前記非水系溶媒が、水との親和性を有し、水よりも沸点が低く蒸気圧の高い有機溶媒である、請求項1に記載の製造方法。

【請求項3】 被覆ポリマー層の内部に蛍光分子が導入された蛍光分子含有ポリマー磁性粒子であって、
 前記蛍光分子含有ポリマー磁性粒子1mgあたりに少なくとも100nmolの蛍光分子を含有することを特徴とする、蛍光分子含有ポリマー磁性粒子。

【請求項4】 前記被覆ポリマー層がスチレンを含むモノマー成分からなる重合体によって形成される、請求項3に記載の蛍光分子含有ポリマー磁性粒子。

【請求項5】 前記蛍光分子が希土類金属キレート錯体である、請求項3または4に記載の蛍光分子含有ポリマー磁性粒子。

【請求項6】 前記希土類金属キレート錯体を構成する希土類金属が、ユーロピウム、サマリウム、テルビウム、およびジスプロシウムからなる群より選択される、請求項5に記載の蛍光分子含有ポリマー磁性粒子。

【請求項7】 ポリマー磁性粒子の水懸濁液を非水系溶媒で溶媒置換することによって水を除去した後、該ポリマー磁性粒子を蛍光分子が溶解した非水系溶媒に分散させて被覆ポリマー層を膨潤し、該膨潤した被覆ポリマー層の内部に蛍光分子を吸収させる工程と、
 前記蛍光分子を吸収した前記ポリマー磁性粒子が分散した前記非水系溶媒に水を添加する工程と、
 前記非水系溶媒を蒸発除去して、前記蛍光分子を吸収した前記ポリマー磁性粒子の水懸濁液を得る工程とを含む、
 蛍光分子含有ポリマー磁性粒子の製造方法。

【請求項8】 ポリマー粒子を蛍光分子が溶解した非水系溶媒に分散させてポリマー層を膨潤し、該膨潤したポリマー層に蛍光分子を吸収させる工程と、
 前記蛍光分子を吸収した前記ポリマー粒子が分散した前記非水系溶媒に水を添加する工程と、
 前記非水系溶媒を蒸発除去する工程とを含む、
 蛍光分子含有ポリマー粒子の製造方法。

【請求項9】 ポリマー層に蛍光分子が導入された蛍光分子含有ポリマー粒子であって、
 前記蛍光分子含有ポリマー粒子1mgあたりに少なくとも100nmolの蛍光分子を含有することを特徴とする、蛍光分子含有ポリマー粒子。

【請求項10】 蛍光抗体法によって免疫染色する方法であって、
 基板に貼付した組織切片に対して、抗体を固定化した請求項3~6のいずれか1項に記載の前記蛍光分子含有ポリマー磁性粒子を付与し、該蛍光分子含有ポリマー磁性微粒子を前記組織切片に向けて強制的に磁気誘導することを特徴とする、蛍光免疫染色方法。

【請求項11】 前記磁気誘導は、前記基板の裏側に磁石を配置することによって行なう、請求項10に記載の蛍光免疫染色方法。
  • Applicant
  • ※All designated countries except for US in the data before July 2012
  • Tokyo Institute of Technology
  • Inventor
  • HANDA, Hiroshi
  • HATAKEYAMA, Mamoru
  • SAKAMOTO, Satoshi
  • MOCHIZUKI, Yusuke
  • KAWADA, Shintaro
IPC(International Patent Classification)
Specified countries AE(UTILITY MODEL),AG,AL(UTILITY MODEL),AM(PROVISIONAL PATENT)(UTILITY MODEL),AO(UTILITY MODEL),AT(UTILITY MODEL),AU,AZ(UTILITY MODEL),BA,BB,BG(UTILITY MODEL),BH(UTILITY MODEL),BR(UTILITY MODEL),BW(UTILITY MODEL),BY(UTILITY MODEL),BZ(UTILITY MODEL),CA,CH,CL(UTILITY MODEL),CN(UTILITY MODEL),CO(UTILITY MODEL),CR(UTILITY MODEL),CU(INVENTOR'S CERTIFICATE),CZ(UTILITY MODEL),DE(UTILITY MODEL),DK(UTILITY MODEL),DM,DO(UTILITY MODEL),DZ,EC(UTILITY MODEL),EE(UTILITY MODEL),EG(UTILITY MODEL),ES(UTILITY MODEL),FI(UTILITY MODEL),GB,GD,GE(UTILITY MODEL),GH(UTILITY CERTIFICATE),GM,GT(UTILITY MODEL),HN,HR(CONSENSUAL PATENT),HU(UTILITY MODEL),ID,IL,IN,IS,JP(UTILITY MODEL),KE(UTILITY MODEL),KG(UTILITY MODEL),KM,KN,KP(INVENTOR'S CERTIFICATE)(UTILITY MODEL),KR(UTILITY MODEL),KZ(PROVISIONAL PATENT)(UTILITY MODEL),LA,LC,LK,LR,LS(UTILITY MODEL),LT,LU,LY,MA,MD(UTILITY MODEL),ME,MG,MK,MN,MW,MX(UTILITY MODEL),MY(UTILITY-INNOVATION),MZ(UTILITY MODEL),NA,NG,NI(UTILITY MODEL),NO,NZ,OM(UTILITY MODEL),PE(UTILITY MODEL),PG,PH(UTILITY MODEL),PL(UTILITY MODEL),PT(UTILITY MODEL),RO,RS(PETTY PATENT),RU(UTILITY MODEL),SC,SD,SE,SG,SK(UTILITY MODEL),SL(UTILITY MODEL),SM,ST,SV(UTILITY MODEL),SY,TJ(UTILITY MODEL),TM(PROVISIONAL PATENT),TN,TR(UTILITY MODEL),TT(UTILITY CERTIFICATE),TZ,UA(UTILITY MODEL),UG(UTILITY CERTIFICATE),US,UZ(UTILITY MODEL),VC(UTILITY CERTIFICATE),VN(PATENT FOR UTILITY SOLUTION),ZA,ZM,ZW,EP(AT,BE,BG,CH,CY,CZ,DE,DK,EE,ES,FI,FR,GB,GR,HR,HU,IE,IS,IT,LT,LU,LV,MC,MK,MT,NL,NO,PL,PT,RO,SE,SI,SK,SM,TR),OA(BF(UTILITY MODEL),BJ(UTILITY MODEL),CF(UTILITY MODEL),CG(UTILITY MODEL),CI(UTILITY MODEL),CM(UTILITY MODEL),GA(UTILITY MODEL),GN(UTILITY MODEL),GQ(UTILITY MODEL),GW(UTILITY MODEL),ML(UTILITY MODEL),MR(UTILITY MODEL),NE(UTILITY MODEL),SN(UTILITY MODEL),TD(UTILITY MODEL),TG(UTILITY MODEL)),AP(BW(UTILITY MODEL),GH(UTILITY MODEL),GM(UTILITY MODEL),KE(UTILITY MODEL),LS(UTILITY MODEL),MW(UTILITY MODEL),MZ(UTILITY MODEL),NA(UTILITY MODEL),SD(UTILITY MODEL),SL(UTILITY MODEL),SZ(UTILITY MODEL),TZ(UTILITY MODEL),UG(UTILITY MODEL),ZM(UTILITY MODEL),ZW(UTILITY MODEL)),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ,MD,RU,TJ,TM)
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