SEQUENCE-SPECIFIC NUCLEIC ACID PURIFICATION METHOD MANNER
| Foreign code | F110003018 |
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| File No. | S2008-0538-C0 |
| Posted date | May 11, 2011 |
| Country | WIPO |
| International application number | 2009JP001747 |
| International publication number | WO 2009/128266 |
| Date of international filing | Apr 16, 2009 |
| Date of international publication | Oct 22, 2009 |
| Priority data |
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| Title | SEQUENCE-SPECIFIC NUCLEIC ACID PURIFICATION METHOD MANNER |
| Abstract | Disclosed is a method for the purification and collection of a nucleic acid comprising a specific nucleotide sequence, which can be carried out within an extremely short period and can achieve both high sequence-specificity and a high collection rate. Specifically disclosed is a method for the purification of a target nucleic acid comprising a specific nucleotide sequence and contained in a nucleic acid mixture. The method comprises the steps of: hybridizing a photo-ligating nucleic acid having a group represented by formula (I) as a base moiety with the target nucleic acid to form a hybrid; irradiating the hybrid of the photo-ligating nucleic acid and the target nucleic acid with light to cause the photo-ligation of the hybrid; removing any un-photo-ligated nucleic acid by washing; and irradiating the hybrid of the photo-ligating nucleic acid and the target nucleic acid with light to cause the photo-cleavage of the hybrid. |
| Scope of claims |
(In Japanese) 【請求項1】 塩基部分として、次の式I: 【化学式20】(ただし、式I中、Raは、シアノ基、アミド基、カルボキシル基、C2~C7のアルコキシカルボニル基、又は水素であり、 R1及びR2は、それぞれ独立に、シアノ基、アミド基、カルボキシル基、C2~C7のアルコキシカルボニル基、又は水素である。) で表される基を有する、光連結性核酸類(ただし、核酸類には、核酸、ペプチド核酸が含まれる)と、 核酸類混合物中に含まれる特定の塩基配列を有する標的核酸類とを、ハイブリッド形成させる工程、 ハイブリッド形成した光連結性核酸類と標的核酸類に、光照射を行って、光連結させる工程、 光連結されていない核酸類を洗浄によって除去する工程、 ハイブリッド形成した光連結性核酸類と標的核酸類に、光照射を行って、光開裂させる工程、 を含む、核酸類混合物中に含まれる特定の塩基配列を有する標的核酸類を、精製する方法。 【請求項2】 光連結されていない核酸類を洗浄によって除去する工程が、相補的二重鎖が解離する洗浄条件で洗浄することによって行われる、請求項1に記載の方法。 【請求項3】 光連結性核酸類が、標識部位を備えている、請求項1~2の何れかに記載の方法。 【請求項4】 光連結性核酸類が、担体に固定化されている、請求項1~2の何れかに記載の方法。 【請求項5】 光連結させる工程の光照射が、350~380nmの範囲の波長の光照射によって行われる、請求項1~4の何れかに記載の方法。 【請求項6】 光開裂させる工程の光照射が、310~345nmの範囲の波長の光照射によって行われる、請求項1~5の何れかに記載の方法。 【請求項7】 光連結させる工程が、緩衝作用のある塩を含む反応溶液中で行われる、請求項1~6の何れかに記載の方法。 【請求項8】 塩基部分として、次の式I: 【化学式21】(ただし、式I中、Raは、シアノ基、アミド基、カルボキシル基、C2~C7のアルコキシカルボニル基、又は水素であり、 R1及びR2は、それぞれ独立に、シアノ基、アミド基、カルボキシル基、C2~C7のアルコキシカルボニル基、又は水素である。) で表される基を有し、標識部位を備えている、光連結性核酸類(ただし、核酸類には、核酸、ペプチド核酸が含まれる)。 【請求項9】 塩基部分として、次の式I: 【化学式22】(ただし、式I中、Raは、シアノ基、アミド基、カルボキシル基、C2~C7のアルコキシカルボニル基、又は水素であり、 R1及びR2は、それぞれ独立に、シアノ基、アミド基、カルボキシル基、C2~C7のアルコキシカルボニル基、又は水素である。) で表される基を有し、担体に固定された、光連結性核酸類(ただし、核酸類には、核酸、ペプチド核酸が含まれる)。 |
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| IPC(International Patent Classification) |
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| Specified countries | AE(UTILITY MODEL),AG,AL(UTILITY MODEL),AM(PROVISIONAL PATENT)(UTILITY MODEL),AO(UTILITY MODEL),AT(UTILITY MODEL),AU,AZ(UTILITY MODEL),BA,BB,BG(UTILITY MODEL),BH(UTILITY MODEL),BR(UTILITY MODEL),BW(UTILITY MODEL),BY(UTILITY MODEL),BZ(UTILITY MODEL),CA,CH,CN(UTILITY MODEL),CO(UTILITY MODEL),CR(UTILITY MODEL),CU(INVENTOR'S CERTIFICATE),CZ(UTILITY MODEL),DE(UTILITY MODEL),DK(UTILITY MODEL),DM(UTILITY MODEL),DO(UTILITY MODEL),DZ,EC(UTILITY MODEL),EE(UTILITY MODEL),EG(UTILITY MODEL),ES(UTILITY MODEL),FI(UTILITY MODEL),GB,GD,GE(UTILITY MODEL),GH(UTILITY CERTIFICATE),GM,GT(UTILITY MODEL),HN,HR(CONSENSUAL PATENT),HU(UTILITY MODEL),ID,IL,IN,IS,KE(UTILITY MODEL),KG(UTILITY MODEL),KM,KN,KP(INVENTOR'S CERTIFICATE)(UTILITY MODEL),KR(UTILITY MODEL),KZ(PROVISIONAL PATENT)(UTILITY MODEL),LA,LC,LK,LR,LS(UTILITY MODEL),LT,LU,LY,MA,MD(UTILITY MODEL),ME,MG,MK,MN,MW,MX(UTILITY MODEL),MY(UTILITY-INNOVATION),MZ(UTILITY MODEL),NA,NG,NI(UTILITY MODEL),NO,NZ,OM(UTILITY MODEL),PG,PH(UTILITY MODEL),PL(UTILITY MODEL),PT(UTILITY MODEL),RO,RS(PETTY PATENT),RU(UTILITY MODEL),SC,SD,SE,SG,SK(UTILITY MODEL),SL(UTILITY MODEL),SM,ST,SV(UTILITY MODEL),SY,TJ(UTILITY MODEL),TM(PROVISIONAL PATENT),TN,TR(UTILITY MODEL),TT(UTILITY CERTIFICATE),TZ,UA(UTILITY MODEL),UG(UTILITY CERTIFICATE),US,UZ(UTILITY MODEL),VC(UTILITY CERTIFICATE),VN(PATENT FOR UTILITY SOLUTION),ZA,ZM,ZW,EP(AT,BE,BG,CH,CY,CZ,DE,DK,EE,ES,FI,FR,GB,GR,HR,HU,IE,IS,IT,LT,LU,LV,MC,MK,MT,NL,NO,PL,PT,RO,SE,SI,SK,TR),OA(BF(UTILITY MODEL),BJ(UTILITY MODEL),CF(UTILITY MODEL),CG(UTILITY MODEL),CI(UTILITY MODEL),CM(UTILITY MODEL),GA(UTILITY MODEL),GN(UTILITY MODEL),GQ(UTILITY MODEL),GW(UTILITY MODEL),ML(UTILITY MODEL),MR(UTILITY MODEL),NE(UTILITY MODEL),SN(UTILITY MODEL),TD(UTILITY MODEL),TG(UTILITY MODEL)),AP(BW(UTILITY MODEL),GH(UTILITY MODEL),GM(UTILITY MODEL),KE(UTILITY MODEL),LS(UTILITY MODEL),MW(UTILITY MODEL),MZ(UTILITY MODEL),NA(UTILITY MODEL),SD(UTILITY MODEL),SL(UTILITY MODEL),SZ(UTILITY MODEL),TZ(UTILITY MODEL),UG(UTILITY MODEL),ZM(UTILITY MODEL),ZW(UTILITY MODEL)),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ,MD,RU,TJ,TM) |
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