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HIGHER-ORDER SILANE COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING SUBSTRATE WITH FILM

外国特許コード F110003196
整理番号 E08603WO
掲載日 2011年6月22日
出願国 世界知的所有権機関(WIPO)
国際出願番号 2010JP050362
国際公開番号 WO 2010/079842
国際出願日 平成22年1月7日(2010.1.7)
国際公開日 平成22年7月15日(2010.7.15)
優先権データ
  • 特願2009-003554 (2009.1.9) JP
発明の名称 (英語) HIGHER-ORDER SILANE COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING SUBSTRATE WITH FILM
発明の概要(英語) Disclosed is a higher-order silane composition containing a higher-order silane compound and a solvent, wherein the solvent contains a cyclic hydrocarbon which has one or two double bonds, does not have an alkyl group, contains only carbon and hydrogen, and has a refractive index of 1.40 to 1.51, a dielectric constant of 3.0 or less, and a molecular weight of 180 or less. Using the higher-order silane composition, a high-quality film which is safe and has a desired film thickness can be formed by a liquid-phase process.
  • 出願人(英語)
  • ※2012年7月以前掲載分については米国以外のすべての指定国
  • Japanese Organization JAPAN SCIENCE AND TECHNOLOGY AGENCY
  • 発明者(英語)
  • SHIMODA, Tatsuya
  • MATSUKI, Yasuo
  • MASUDA, Takashi
国際特許分類(IPC)
参考情報 (研究プロジェクト等) ERATO SHIMODA Nano-Liquid Process AREA
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