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CARBON NANORING AND METHOD FOR PRODUCING A RING-SHAPED COMPOUND SUITABLE AS A STARTING MATERIAL FOR PRODUCTION OF THE SAME commons achieved

Foreign code F110005009
File No. NU-0423
Posted date Aug 9, 2011
Country WIPO
International application number 2011JP055423
International publication number WO 2011/111719
Date of international filing Mar 8, 2011
Date of international publication Sep 15, 2011
Priority data
  • P2010-196175 (Sep 1, 2010) JP
  • P2010-051045 (Mar 8, 2010) JP
Title CARBON NANORING AND METHOD FOR PRODUCING A RING-SHAPED COMPOUND SUITABLE AS A STARTING MATERIAL FOR PRODUCTION OF THE SAME commons achieved
Abstract Disclosed is a method capable of forming a ring-shaped compound (1) using a compound that contains at least one cyclohexane ring part and has on each end a benzene ring part that has a halogen atom in the presence of a nickel compound (bis(1,5-cyclooctadiene)nickel or the like) and wherein organic ring groups that contain a cyclohexane ring, benzene ring and the like are bonded continuously. If, thereafter, the cyclohexane ring part of the ring-shaped compound (1) is converted to a benzene ring part, a desired carbon nanoring may be obtained. By this means, a carbon nanoring formed from a ring-shaped compound in which a desired number of organic ring groups are bonded continuously may be produced efficiently with a small number of steps.
Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】下記一般式(1):
【化学式1】[式中、n個のR1は同じか又は異なり、それぞれ2価の芳香族炭化水素基、2価の脂環式炭化水素基若しくは2価の複素環式基又はこれらの誘導体基;R1のうち少なくとも1つは下記一般式(2):
【化学式2】(式中、R2は同じか又は異なり、それぞれ水素原子又は水酸基の保護基である。)
で表される2価の基;nは1以上の整数;mは2以上の整数である。]
で表される輪状の化合物の製造方法であって、
(I)ニッケル化合物の存在下で、下記一般式(3):
【化学式3】[式中、R1及びnは前記に同じ;Xは同じか又は異なり、それぞれハロゲン原子である。]
で表される化合物を用いて、一般式(1)で表される輪状の化合物を形成する工程
を備える、製造方法。

【請求項2】上記一般式(3)で表される化合物が、下記一般式(3a):
【化学式4】[式中、X及びR2は前記に同じ;sは1以上の整数;tは1以上の整数;s+t=n+1(nは前記に同じ)である。]
で表される化合物である、請求項1に記載の輪状の化合物の製造方法。

【請求項3】上記一般式(3)で表される化合物が、下記一般式(3b):
【化学式5】[式中、X及びR2は前記に同じ;u個のR3は同じか又は異なり、それぞれ2価の芳香族炭化水素基、2価の脂環式炭化水素基若しくは2価の複素環式基又はこれらの誘導体基;uは1以上の整数;u=n-4である。]
で表される化合物である、請求項1に記載の輪状の化合物の製造方法。

【請求項4】上記一般式(3)で表される化合物が、下記一般式(3a-1):
【化学式6】[式中、X及びR2は前記に同じである。]
で表される化合物であり、且つ、上記一般式(1)においてmが4である、請求項1又は2に記載の輪状の化合物の製造方法。

【請求項5】上記一般式(3)で表される化合物が、下記一般式(3a-1):
【化学式7】[式中、X及びR2は前記に同じである。]
で表される化合物であり、且つ、上記一般式(1)においてmが3である、請求項1又は2に記載の輪状の化合物の製造方法。

【請求項6】上記一般式(1)においてmが2であり、且つ、上記一般式(3b)においてuが1又は2である、請求項3に記載の輪状化合物の製造方法。

【請求項7】下記一般式(4):
【化学式8】[式中、n’個のR1’は同じか又は異なり、それぞれ2価の芳香族炭化水素基、2価の脂環式炭化水素基若しくは2価の複素環式基又はこれらの誘導体基;R1’のうち少なくとも1つはp-フェニレン基;n’は1以上の整数;mは2以上の整数である。]
で表されるカーボンナノリングの製造方法であって、
(II)請求項1~6のいずれかに記載の製造方法で得られた輪状の化合物が有するシクロヘキサン環部をベンゼン環に変換する工程
を備える、製造方法。

【請求項8】前記工程(II)が、前記輪状の化合物(1)に対して酸化反応を施す工程である、請求項7に記載のカーボンナノリングの製造方法。

【請求項9】上記一般式(4)においてR1’が上記一般式(2)で表され、n’が1であり、mが4である、請求項7又は8に記載のカーボンナノリングの製造方法。

【請求項10】上記一般式(4)においてR1’が上記一般式(2)で表され、n’が1であり、mが3である、請求項7又は8に記載のカーボンナノリングの製造方法。

【請求項11】上記一般式(4)においてR1’が下記一般式(5):
【化学式9】[式中、R2及びR3は前記に同じ;u’は1又は2である。]
で表され、n’が1であり、mが2である、請求項7又は8に記載のカーボンナノリングの製造方法。

【請求項12】下記一般式(1b):
【化学式10】[式中、R2は同じか又は異なり、それぞれ水素原子又は水酸基の保護基である。]
で表される輪状の化合物。

【請求項13】下記式(4b):
【化学式11】で表される、9個のp-フェニレン基からなるカーボンナノリングの製造方法であって、
(IIb)下記一般式(1b):
【化学式12】[式中、R2は同じか又は異なり、それぞれ水素原子又は水酸基の保護基である。]
で表される輪状の化合物が有するシクロヘキサン環部をベンゼン環に変換する工程
を備える、製造方法。
 
  • Applicant
  • ※All designated countries except for US in the data before July 2012
  • NATIONAL UNIVERSITY CORPORATION NAGOYA UNIVERSITY
  • Inventor
  • ITAMI, Kenichiro
  • SEGAWA, Yasutomo
  • MIYAMOTO, Shinpei
  • OMACHI, Haruka
  • MATSUURA, Sanae
  • SENEL, Petr
IPC(International Patent Classification)
Specified countries AE(UTILITY MODEL),AG,AL(UTILITY MODEL),AM(PROVISIONAL PATENT)(UTILITY MODEL),AO(UTILITY MODEL),AT(UTILITY MODEL),AU,AZ(UTILITY MODEL),BA,BB,BG(UTILITY MODEL),BH(UTILITY MODEL),BR(UTILITY MODEL),BW,BY(UTILITY MODEL),BZ(UTILITY MODEL),CA,CH,CL(UTILITY MODEL),CN(UTILITY MODEL),CO(UTILITY MODEL),CR(UTILITY MODEL),CU(INVENTOR'S CERTIFICATE),CZ(UTILITY MODEL),DE(UTILITY MODEL),DK(UTILITY MODEL),DM,DO(UTILITY MODEL),DZ,EC(UTILITY MODEL),EE(UTILITY MODEL),EG(UTILITY MODEL),ES(UTILITY MODEL),FI(UTILITY MODEL),GB,GD,GE(UTILITY MODEL),GH(UTILITY CERTIFICATE),GM,GT(UTILITY MODEL),HN(UTILITY MODEL),HR(CONSENSUAL PATENT),HU(UTILITY MODEL),ID,IL,IN,IS,JP(UTILITY MODEL),KE(UTILITY MODEL),KG(UTILITY MODEL),KM,KN,KP(INVENTOR'S CERTIFICATE)(UTILITY MODEL),KR(UTILITY MODEL),KZ(PROVISIONAL PATENT)(UTILITY MODEL),LA,LC,LK,LR,LS(UTILITY MODEL),LT,LU,LY,MA,MD(UTILITY MODEL),ME,MG,MK,MN,MW,MX(UTILITY MODEL),MY(UTILITY-INNOVATION),MZ(UTILITY MODEL),NA,NG,NI(UTILITY MODEL),NO,NZ,OM(UTILITY MODEL),PE(UTILITY MODEL),PG,PH(UTILITY MODEL),PL(UTILITY MODEL),PT(UTILITY MODEL),RO,RS(PETTY PATENT),RU(UTILITY MODEL),SC,SD,SE,SG,SK(UTILITY MODEL),SL(UTILITY MODEL),SM,ST,SV(UTILITY MODEL),SY,TH(PETTY PATENT),TJ(UTILITY MODEL),TM(PROVISIONAL PATENT),TN,TR(UTILITY MODEL),TT(UTILITY CERTIFICATE),TZ,UA(UTILITY MODEL),UG(UTILITY CERTIFICATE),US,UZ(UTILITY MODEL),VC(UTILITY CERTIFICATE),VN(PATENT FOR UTILITY SOLUTION),ZA,ZM,ZW,EP(AL,AT,BE,BG,CH,CY,CZ,DE,DK,EE,ES,FI,FR,GB,GR,HR,HU,IE,IS,IT,LT,LU,LV,MC,MK,MT,NL,NO,PL,PT,RO,RS,SE,SI,SK,SM,TR),OA(BF(UTILITY MODEL),BJ(UTILITY MODEL),CF(UTILITY MODEL),CG(UTILITY MODEL),CI(UTILITY MODEL),CM(UTILITY MODEL),GA(UTILITY MODEL),GN(UTILITY MODEL),GQ(UTILITY MODEL),GW(UTILITY MODEL),ML(UTILITY MODEL),MR(UTILITY MODEL),NE(UTILITY MODEL),SN(UTILITY MODEL),TD(UTILITY MODEL),TG(UTILITY MODEL)),AP(BW(UTILITY MODEL),GH(UTILITY MODEL),GM(UTILITY MODEL),KE(UTILITY MODEL),LR(UTILITY MODEL),LS(UTILITY MODEL),MW(UTILITY MODEL),MZ(UTILITY MODEL),NA(UTILITY MODEL),SD(UTILITY MODEL),SL(UTILITY MODEL),SZ(UTILITY MODEL),TZ(UTILITY MODEL),UG(UTILITY MODEL),ZM(UTILITY MODEL),ZW(UTILITY MODEL)),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ,MD,RU,TJ,TM)
Please contact us by E-mail or facsimile if you have any interests on this patent.

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