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ELECTROSPRAY IONIZATION METHOD AND DEVICE, AND ANALYSIS METHOD AND DEVICE

Foreign code F110005752
File No. P09-039PCT
Posted date Sep 13, 2011
Country WIPO
International application number 2010JP072511
International publication number WO 2011/071182
Date of international filing Dec 8, 2010
Date of international publication Jun 16, 2011
Priority data
  • P2009-278458 (Dec 8, 2009) JP
Title ELECTROSPRAY IONIZATION METHOD AND DEVICE, AND ANALYSIS METHOD AND DEVICE
Abstract Provided is a method that can analyze a tissue or other sample that has not undergone preprocessing. Said sample is inserted into the tip section of a hollow insulating sample holder (11), said tip section having a small hole (11a) opened therein. A thin metal wire (12) is inserted into the sample holder (11) from the back, and while in contact with the sample inside the sample holder (11), the thin metal wire is made to protrude outside the sample holder (11) through the hole (11a). A high voltage is applied to the thin metal wire (12) during at least part of the time when the tip of said thin metal wire (12) is protruding outside from the hole (11a). The sample adhered to the tip of the thin metal wire (12) is ionized via electrospray, introduced into an analysis device, and analyzed.
Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】先端部に小さな孔があけられた中空の絶縁性試料保持器の少なくとも上記先端部内に試料を入れ,
 上記試料保持器内に挿入された導電性線状体を,その先端が上記孔から外方に突出または内方に退入可能に支持し,
 上記線状体の先端を上記試料保持器内の上記試料に接触させながら上記孔を通して試料保持器の外に突出させ,
 上記線状体の先端が上記孔から外方に突出している時間帯の少なくとも一部において上記線状体に高電圧を印加して,上記線状体の先端に付着している試料をエレクトロスプレーによりイオン化する,
 エレクトロスプレーによるイオン化方法。

【請求項2】一つの試料について,上記導電性線状体の先端の突出と退入および試料のエレクトロスプレーを複数回繰返す,請求の範囲第1項に記載のイオン化方法。

【請求項3】上記導電性線状体に常時,高電圧を印加する,請求の範囲第1項または第2項に記載のイオン化方法。

【請求項4】上記導電性線状体の先端が上記試料保持器の上記孔から外方に突出した後に,パルス状高電圧を上記導電性線状体に印加する,請求の範囲第1項または第2項に記載のイオン化方法。

【請求項5】エレクトロスプレーによって導電性線状体の先端の試料が消費されたときに上記パルス状高電圧の印加を停止する,請求の範囲第4項に記載のイオン化方法。

【請求項6】上記試料保持器の先端に試料を直接に採取する,請求の範囲第1項ないし第5項のいずれか一項に記載のイオン化方法。

【請求項7】液体試料を上記試料保持器に液体クロマトグラフから供給する,請求の範囲第1項ないし第5項のいずれか一項に記載のイオン化方法。

【請求項8】大気圧下で行う,請求の範囲第1項ないし第7項のいずれか一項に記載のイオン化方法。

【請求項9】少なくとも先端に疎水化表面処理または親水化表面処理を行った導電性線状体を用いる,請求の範囲第1項ないし第8項のいずれか一項に記載のイオン化方法。

【請求項10】請求の範囲第1項ないし第9項のいずれか一項に記載のイオン化方法によりイオン化された分子を分析するイオン化分析方法。

【請求項11】先端部に小さな孔があけられた中空な絶縁性試料保持器を支持する支持機構,
 上記試料保持器内に挿入された導電性線状体を,その先端を上記孔から外方に突出させまたは内方に退入させる駆動装置,および
 上記線状体の先端が上記孔から外方に突出している時間帯の少なくとも一部において上記線状体にエレクトロスプレーのための高電圧を印加する高電圧発生装置,
 を備えたエレクトロスプレーによるイオン化装置。

【請求項12】請求の範囲第11項に記載のイオン化装置と,イオン化された分子を分析する分析装置とを備えたイオン化分析装置。
  • Applicant
  • ※All designated countries except for US in the data before July 2012
  • UNIVERSITY OF YAMANASHI
  • Inventor
  • HIRAOKA Kenzo
IPC(International Patent Classification)
Specified countries AE(UTILITY MODEL),AG,AL(UTILITY MODEL),AM(PROVISIONAL PATENT)(UTILITY MODEL),AO(UTILITY MODEL),AT(UTILITY MODEL),AU,AZ(UTILITY MODEL),BA,BB,BG(UTILITY MODEL),BH(UTILITY MODEL),BR(UTILITY MODEL),BW,BY(UTILITY MODEL),BZ(UTILITY MODEL),CA,CH,CL(UTILITY MODEL),CN(UTILITY MODEL),CO(UTILITY MODEL),CR(UTILITY MODEL),CU(INVENTOR'S CERTIFICATE),CZ(UTILITY MODEL),DE(UTILITY MODEL),DK(UTILITY MODEL),DM,DO(UTILITY MODEL),DZ,EC(UTILITY MODEL),EE(UTILITY MODEL),EG(UTILITY MODEL),ES(UTILITY MODEL),FI(UTILITY MODEL),GB,GD,GE(UTILITY MODEL),GH(UTILITY CERTIFICATE),GM,GT(UTILITY MODEL),HN(UTILITY MODEL),HR(CONSENSUAL PATENT),HU(UTILITY MODEL),ID,IL,IN,IS,JP(UTILITY MODEL),KE(UTILITY MODEL),KG(UTILITY MODEL),KM,KN,KP(INVENTOR'S CERTIFICATE)(UTILITY MODEL),KR(UTILITY MODEL),KZ(PROVISIONAL PATENT)(UTILITY MODEL),LA,LC,LK,LR,LS(UTILITY MODEL),LT,LU,LY,MA,MD(UTILITY MODEL),ME,MG,MK,MN,MW,MX(UTILITY MODEL),MY(UTILITY-INNOVATION),MZ(UTILITY MODEL),NA,NG,NI(UTILITY MODEL),NO,NZ,OM(UTILITY MODEL),PE(UTILITY MODEL),PG,PH(UTILITY MODEL),PL(UTILITY MODEL),PT(UTILITY MODEL),RO,RS(PETTY PATENT),RU(UTILITY MODEL),SC,SD,SE,SG,SK(UTILITY MODEL),SL(UTILITY MODEL),SM,ST,SV(UTILITY MODEL),SY,TH(PETTY PATENT),TJ(UTILITY MODEL),TM(PROVISIONAL PATENT),TN,TR(UTILITY MODEL),TT(UTILITY CERTIFICATE),TZ,UA(UTILITY MODEL),UG(UTILITY CERTIFICATE),US,UZ(UTILITY MODEL),VC(UTILITY CERTIFICATE),VN(PATENT FOR UTILITY SOLUTION),ZA,ZM,ZW,EP(AL,AT,BE,BG,CH,CY,CZ,DE,DK,EE,ES,FI,FR,GB,GR,HR,HU,IE,IS,IT,LT,LU,LV,MC,MK,MT,NL,NO,PL,PT,RO,RS,SE,SI,SK,SM,TR),OA(BF(UTILITY MODEL),BJ(UTILITY MODEL),CF(UTILITY MODEL),CG(UTILITY MODEL),CI(UTILITY MODEL),CM(UTILITY MODEL),GA(UTILITY MODEL),GN(UTILITY MODEL),GQ(UTILITY MODEL),GW(UTILITY MODEL),ML(UTILITY MODEL),MR(UTILITY MODEL),NE(UTILITY MODEL),SN(UTILITY MODEL),TD(UTILITY MODEL),TG(UTILITY MODEL)),AP(BW(UTILITY MODEL),GH(UTILITY MODEL),GM(UTILITY MODEL),KE(UTILITY MODEL),LR(UTILITY MODEL),LS(UTILITY MODEL),MW(UTILITY MODEL),MZ(UTILITY MODEL),NA(UTILITY MODEL),SD(UTILITY MODEL),SL(UTILITY MODEL),SZ(UTILITY MODEL),TZ(UTILITY MODEL),UG(UTILITY MODEL),ZM(UTILITY MODEL),ZW(UTILITY MODEL)),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ,MD,RU,TJ,TM)
Please feel free to contact us by email or facsimile if you have any interests in this patent.

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