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METHOD OF FIXING ANTIBACTERIAL AGENT AND ARTICLE OBTAINED BY THE METHOD

Foreign code F110006015
File No. S2008-0562
Posted date Dec 27, 2011
Country WIPO
International application number 2009JP058229
International publication number WO 2009/136561
Date of international filing Apr 21, 2009
Date of international publication Nov 12, 2009
Priority data
  • P2008-123450 (May 9, 2008) JP
Title METHOD OF FIXING ANTIBACTERIAL AGENT AND ARTICLE OBTAINED BY THE METHOD
Abstract Provided is a method of fixing an antibacterial agent whereby excellent antibacterial properties and sustention of the same can be imparted to articles comprising materials over a wide scope. A method of fixing an antibacterial agent characterized by comprising: subjecting the surface of an article to a surface-treatment whereby an oxygen-containing functional group is imparted thereto; and (a) treating the article by using an antibacterial composition which comprises a silicon-containing compound represented by general formula (1), wherein R1 represents a hydrocarbon group having 6 or more carbon atoms, R2 and R3 may be either the same or different and each represents a lower hydrocarbon group, R4 represents a divalent lower hydrocarbon group, R5, R6 and R7 may be either the same or different and each represents a lower alkyl group or a lower alkoxy group, and X represents a halogen ion or an organic carboxyloxy ion, or treating the same with the above-described antibacterial composition followed by microwave irradiation at 1 to 10 GHz while allowing the antibacterial composition as described above to remain on the surface of the article.
Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】物品の表面に含酸素官能基を付与する表面処理を施した後、さらに該物品に(a)一般式(1)【化1】(式中、R1は炭素原子数6以上の炭化水素基を示し、R2およびR3は同一または異なっていてもよい低級炭化水素基を示し、R4は二価の低級炭化水素基を示し、R5、R6およびR7は同一または異なっていてもよい低級アルキル基または低級アルコシ基を示し、Xはハロゲンイオンまたは有機カルボキニルオキシイオンを示す)で表されるケイ素含有化合物を含む抗菌剤組成物を用いた処理を施すことを特徴とする抗菌剤固定化方法。

【請求項2】前記表面処理が、オゾン水処理または1~10GHzのマイクロ波照射処理であることを特徴とする請求項1に記載の抗菌剤固定化方法。

【請求項3】物品を、(a)一般式(1)【化2】(式中、R1は炭素原子数6以上の炭化水素基を示し、R2およびR3は同一または異なっていてもよい低級炭化水素基を示し、R4は二価の低級炭化水素基を示し、R5、R6およびR7は同一または異なっていてもよい低級アルキル基または低級アルコシ基を示し、Xはハロゲンイオンまたは有機カルボキニルオキシイオンを示す)で表されるケイ素含有化合物を含む抗菌剤組成物を表面に付着させ、次いで該抗菌剤組成物を該物品の表面に残存させたまま、1~10GHzのマイクロ波照射処理を施すことを特徴とする抗菌剤固定化方法。

【請求項4】前記抗菌剤組成物が、さらに、(b)陽イオン界面活性剤(ただし、前記ケイ素化合物を除く)(b1)、非イオン界面活性剤(b2)および両イオン界面活性剤(b3)からなる群から選ばれた少なくとも1種の界面活性剤を含むことを特徴とする請求項1~3のいずれか1項に記載の抗菌剤固定化方法。

【請求項5】前記一般式(1)で表されるケイ素含有化合物(a)のR1は炭素原子数10~25のアルキル基を示し、R2およびR3は同一または異なっていてもよい炭素原子数1ないし6の低級アルキル基を示し、R4は炭素原子数1ないし6の低級アルキレン基を示し、R5、R6およびR7は同一または異なっていてもよい炭素原子数1ないし6の低級アルキル基またはアルコシ基を示し、Xはハロゲンイオンまたは有機カルボキニルオキシイオンであることを特徴とする請求項1~4項のいずれか1項に記載の抗菌剤固定化方法。

【請求項6】前記一般式(1)で表されるケイ素含有化合物(a)が、オクタデシルジメチル(3-トリメトキシシリルプロピル)アンモニムクロライド、オクタデシルジメチル(3-トリエトキシシリルプロピル)アンモニウムクロライド、オクタデシルジエチル(3-トリメトキシシリルプロピル)アンモニウムクロライド、オクタデシルジメチル(2-トリメチルシリルエチル)アンモニウムクロライド、オクタデシルジプロピル(4-トリメトキシシリルブチル)アンモニムアセテート、オクタデシルジメチル(3-トリイソプロポキシシリルプロピル)アンモニウムクロライド、オクタデシルジメチル(3-トリエチルシシリルプロピル)アンモニウムクロライド、オクタデシルジメチル(3-トリイソプロピルシシリルプロピル)アンモニウムクロライド、ヘプタデシルジメチル(3-トリメトキシシリルプロピル)アンモニウムクロライド、ヘプタデシルジイソプロピル(2-トリエトキシシリルエチル)アンモニウムクロライド、ヘキサデシルジメチル(3-トリメトキシシリルプロピル)アンモニムクロライド、ヘキサデシルジメチル(3-トリメトキシシリルプロピル)アンモニムアセテートおよびペンタサデシルジメチル(3-トリエトキシシリルプロピル)アンモニムクロライドからなる群から選ばれた少なくとも1種のケイ素含有化合物であることを特徴とする請求項1~5項のいずれか1項に記載の抗菌剤固定化方法。

【請求項7】前記陽イオン界面活性剤(b1)が、下記一般式(2)【化3】(式中、R11は炭素原子数6以上の炭化水素基を示し、R12、R13およびR14は同一でも異なってもよい低級炭化水素基を示し、Yはハロゲンイオンまたは有機カルボニルオキシイオンを示す)で表される陽イオン界面活性剤(b11)であることを特徴とする請求項4~6のいずれか1項に記載の抗菌剤固定化方法。

【請求項8】前記一般式(2)で表される前記陽イオン界面活性剤(b11)のR11は炭素原子数10~25のアルキル基を示し、R12、R13およびR14は同一または異なっていてもよい炭素原子数1ないし6の低級アルキル基を示し、Yがハロゲンイオンまたは有機カルボニルオキシイオンであることを特徴とする請求項7に記載の抗菌剤固定化方法。

【請求項9】前記陽イオン界面活性剤(b11)が、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムクロライド、デシルトリメチルアンモニウムクロライド、デシルトリエチルアンモニウムアセテート、ドデシルトリメチルアンモニウムアセテート、ドデシルトリイソプロピルアンモニウムブロマイド、トリデシルトリエチルアンモニウムプロマイド、テトラデシルトリメチルアンモニウムクロライド、テトラデシルトリエチルアンモニウムクロライド、テトラデシルトリ-n-プロピルアンモニウムクロライド、ペンタデシルトリメチルアンモニウムクロライド、ペンタデシルトリエチルアンモニウムクロライド、ペンタデシルトリ-n-プロピルアンモニウムクロライド、ヘキサデシルトリエチルアンモニウムクロライド、ヘキサデシルトリ-n-プロピルアンモニウムクロライド、オクタデシルトリメチルアンモニウムクロライドおよびオクタデシルトリエチルアンモニウムクロライドおよびオクタデシルトリ-n-プロピルアンモニウムクロライドからなる群から選ばれた少なくとも1種であることを特徴とする請求項7または8に記載の抗菌剤固定化方法。

【請求項10】前記陽イオン界面活性剤(b1)が、N-ココイル-アルギニンエチルエステルピリドンカルボン酸塩(b12)またはセチルピリジニウム塩(b13)であることを特徴とする請求項4~6のいずれか1項に記載の抗菌剤固定化方法。

【請求項11】前記非イオン界面活性剤(b2)が、ポリオキシエチレン単位および/またはポリオキシプロピレン単位を含有するポリオキシアルキレングリコールのアルキルエーテルまたは脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、脂肪酸モノグリセライド、脂肪酸エステル、脂肪酸アルカノールアミド、脂肪酸アミド、アルキルエーテル、アルキルアミンオキシド、ポリオキシエチレンアルキルエーテル及びポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルからなる群から選ばれた少なくとも1種の非イオン系界面活性剤であることを特徴とする請求項4~6のいずれか1項に記載の抗菌剤固定化方法。

【請求項12】前記非イオン界面活性剤(b2)は、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレートであることを特徴とする請求項11に記載の抗菌剤固定化方法。

【請求項13】前記両イオン界面活性剤(b3)は、ベタイン系およびアミンオキサイド系からなる群から選ばれた少なくとも1種であることを特徴とする請求項3~7のいずれか1項に記載の抗菌剤固定化方法。

【請求項14】前記両イオン界面活性剤(b3)は、ラウラミドプロピルジメチルアミンオキサイドまたはラウリルジメチルアミンオキサイドであることを特徴とする請求項13に記載の抗菌剤固定化方法。

【請求項15】請求項1~14のいずれか1項に記載された抗菌剤固定化方法によって、表面に抗菌剤が固定化されてなる物品。
  • Applicant
  • ※All designated countries except for US in the data before July 2012
  • HIROSHIMA UNIVERSITY
  • Inventor
  • NIKAWA, Hiroki
IPC(International Patent Classification)
Specified countries AE(UTILITY MODEL),AG,AL(UTILITY MODEL),AM(PROVISIONAL PATENT)(UTILITY MODEL),AO(UTILITY MODEL),AT(UTILITY MODEL),AU,AZ(UTILITY MODEL),BA,BB,BG(UTILITY MODEL),BH(UTILITY MODEL),BR(UTILITY MODEL),BW(UTILITY MODEL),BY(UTILITY MODEL),BZ(UTILITY MODEL),CA,CH,CN(UTILITY MODEL),CO(UTILITY MODEL),CR(UTILITY MODEL),CU(INVENTOR'S CERTIFICATE),CZ(UTILITY MODEL),DE(UTILITY MODEL),DK(UTILITY MODEL),DM(UTILITY MODEL),DO(UTILITY MODEL),DZ,EC(UTILITY MODEL),EE(UTILITY MODEL),EG(UTILITY MODEL),ES(UTILITY MODEL),FI(UTILITY MODEL),GB,GD,GE(UTILITY MODEL),GH(UTILITY CERTIFICATE),GM,GT(UTILITY MODEL),HN,HR(CONSENSUAL PATENT),HU(UTILITY MODEL),ID,IL,IN,IS,JP(UTILITY MODEL),KE(UTILITY MODEL),KG(UTILITY MODEL),KM,KN,KP(INVENTOR'S CERTIFICATE)(UTILITY MODEL),KR(UTILITY MODEL),KZ(PROVISIONAL PATENT)(UTILITY MODEL),LA,LC,LK,LR,LS(UTILITY MODEL),LT,LU,LY,MA,MD(UTILITY MODEL),ME,MG,MK,MN,MW,MX(UTILITY MODEL),MY(UTILITY-INNOVATION),MZ(UTILITY MODEL),NA,NG,NI(UTILITY MODEL),NO,NZ,OM(UTILITY MODEL),PG,PH(UTILITY MODEL),PL(UTILITY MODEL),PT(UTILITY MODEL),RO,RS(PETTY PATENT),RU(UTILITY MODEL),SC,SD,SE,SG,SK(UTILITY MODEL),SL(UTILITY MODEL),SM,ST,SV(UTILITY MODEL),SY,TJ(UTILITY MODEL),TM(PROVISIONAL PATENT),TN,TR(UTILITY MODEL),TT(UTILITY CERTIFICATE),TZ,UA(UTILITY MODEL),UG(UTILITY CERTIFICATE),US,UZ(UTILITY MODEL),VC(UTILITY CERTIFICATE),VN(PATENT FOR UTILITY SOLUTION),ZA,ZM,ZW,EP(AT,BE,BG,CH,CY,CZ,DE,DK,EE,ES,FI,FR,GB,GR,HR,HU,IE,IS,IT,LT,LU,LV,MC,MK,MT,NL,NO,PL,PT,RO,SE,SI,SK,TR),OA(BF(UTILITY MODEL),BJ(UTILITY MODEL),CF(UTILITY MODEL),CG(UTILITY MODEL),CI(UTILITY MODEL),CM(UTILITY MODEL),GA(UTILITY MODEL),GN(UTILITY MODEL),GQ(UTILITY MODEL),GW(UTILITY MODEL),ML(UTILITY MODEL),MR(UTILITY MODEL),NE(UTILITY MODEL),SN(UTILITY MODEL),TD(UTILITY MODEL),TG(UTILITY MODEL)),AP(BW(UTILITY MODEL),GH(UTILITY MODEL),GM(UTILITY MODEL),KE(UTILITY MODEL),LS(UTILITY MODEL),MW(UTILITY MODEL),MZ(UTILITY MODEL),NA(UTILITY MODEL),SD(UTILITY MODEL),SL(UTILITY MODEL),SZ(UTILITY MODEL),TZ(UTILITY MODEL),UG(UTILITY MODEL),ZM(UTILITY MODEL),ZW(UTILITY MODEL)),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ,MD,RU,TJ,TM)

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