TOP > 外国特許検索 > POLYMER EXPANDED PARTICLE, EXPANDED TONER AND METHOD FOR PRODUCING POLYMER EXPANDED PARTICLE AND EXPANDED TONER

POLYMER EXPANDED PARTICLE, EXPANDED TONER AND METHOD FOR PRODUCING POLYMER EXPANDED PARTICLE AND EXPANDED TONER

外国特許コード F120006629
整理番号 S2010-0641
掲載日 2012年5月17日
出願国 世界知的所有権機関（ＷＩＰＯ）
国際出願番号 2011JP056372
国際公開番号 WO 2011/115203
国際出願日 平成23年3月17日(2011.3.17)
国際公開日 平成23年9月22日(2011.9.22)
優先権データ
  • 特願2010-060092 (2010.3.17) JP
発明の名称 （英語） POLYMER EXPANDED PARTICLE, EXPANDED TONER AND METHOD FOR PRODUCING POLYMER EXPANDED PARTICLE AND EXPANDED TONER
発明の概要（英語） Disclosed are a polymer expanded particle provided with a micropore, expanded toner and a method for producing the polymer expanded particle and expanded toner. Specifically disclosed is a polymer expanded particle characterized by being provided with a micropore with an average pore diameter of less than 50 micron m. Also disclosed is an expanded toner characterized by being provided with micropores with an average pore diameter of 1 micron m to less than 3 micron m and having a volume-average particle diameter of 5 micron m to less than 15 micron m. Also disclosed is a method for producing polymer expanded particles having a first step of mixing prescribed polymer particles and a high-pressure gas or supercritical fluid to create a mixture, a second step of impregnating the polymer particles with the high-pressure gas or supercritical fluid and a third step of reducing the pressure and temperature of the mixture and obtaining polymer expanded particles. The method for producing the polymer expanded particles is characterized by the pressure and temperature being reduced from a state of 20 MPa or greater and 60 deg.C or greater to a state of less than 1 MPa and less than 30 deg.C within five minutes in the third step.
  • 出願人（英語）
  • ※2012年7月以前掲載分については米国以外のすべての指定国
  • TOMOEGAWA CO., LTD.
  • National University Corporation Shizuoka University
  • 発明者（英語）
  • SANO, Takayuki
  • KONG, Chang Yi
  • ZHANG, Tao
  • OKAJIMA, Izumi
  • SAKO, Takeshi
国際特許分類(IPC)
指定国 AE(UTILITY MODEL),AG,AL(UTILITY MODEL),AM(PROVISIONAL PATENT)(UTILITY MODEL),AO(UTILITY MODEL),AT(UTILITY MODEL),AU,AZ(UTILITY MODEL),BA,BB,BG(UTILITY MODEL),BH(UTILITY MODEL),BR(UTILITY MODEL),BW,BY(UTILITY MODEL),BZ(UTILITY MODEL),CA,CH,CL(UTILITY MODEL),CN(UTILITY MODEL),CO(UTILITY MODEL),CR(UTILITY MODEL),CU(INVENTOR'S CERTIFICATE),CZ(UTILITY MODEL),DE(UTILITY MODEL),DK(UTILITY MODEL),DM,DO(UTILITY MODEL),DZ,EC(UTILITY MODEL),EE(UTILITY MODEL),EG(UTILITY MODEL),ES(UTILITY MODEL),FI(UTILITY MODEL),GB,GD,GE(UTILITY MODEL),GH(UTILITY CERTIFICATE),GM,GT(UTILITY MODEL),HN(UTILITY MODEL),HR(CONSENSUAL PATENT),HU(UTILITY MODEL),ID,IL,IN,IS,JP(UTILITY MODEL),KE(UTILITY MODEL),KG(UTILITY MODEL),KM,KN,KP(INVENTOR'S CERTIFICATE)(UTILITY MODEL),KR(UTILITY MODEL),KZ(PROVISIONAL PATENT)(UTILITY MODEL),LA,LC,LK,LR,LS(UTILITY MODEL),LT,LU,LY,MA,MD(UTILITY MODEL),ME,MG,MK,MN,MW,MX(UTILITY MODEL),MY(UTILITY-INNOVATION),MZ(UTILITY MODEL),NA,NG,NI(UTILITY MODEL),NO,NZ,OM(UTILITY MODEL),PE(UTILITY MODEL),PG,PH(UTILITY MODEL),PL(UTILITY MODEL),PT(UTILITY MODEL),RO,RS(PETTY PATENT),RU(UTILITY MODEL),SC,SD,SE,SG,SK(UTILITY MODEL),SL(UTILITY MODEL),SM,ST,SV(UTILITY MODEL),SY,TH(PETTY PATENT),TJ(UTILITY MODEL),TM(PROVISIONAL PATENT),TN,TR(UTILITY MODEL),TT(UTILITY CERTIFICATE),TZ,UA(UTILITY MODEL),UG(UTILITY CERTIFICATE),US,UZ(UTILITY MODEL),VC(UTILITY CERTIFICATE),VN(PATENT FOR UTILITY SOLUTION),ZA,ZM,ZW,EP(AL,AT,BE,BG,CH,CY,CZ,DE,DK,EE,ES,FI,FR,GB,GR,HR,HU,IE,IS,IT,LT,LU,LV,MC,MK,MT,NL,NO,PL,PT,RO,RS,SE,SI,SK,SM,TR),OA(BF(UTILITY MODEL),BJ(UTILITY MODEL),CF(UTILITY MODEL),CG(UTILITY MODEL),CI(UTILITY MODEL),CM(UTILITY MODEL),GA(UTILITY MODEL),GN(UTILITY MODEL),GQ(UTILITY MODEL),GW(UTILITY MODEL),ML(UTILITY MODEL),MR(UTILITY MODEL),NE(UTILITY MODEL),SN(UTILITY MODEL),TD(UTILITY MODEL),TG(UTILITY MODEL)),AP(BW(UTILITY MODEL),GH(UTILITY MODEL),GM(UTILITY MODEL),KE(UTILITY MODEL),LR(UTILITY MODEL),LS(UTILITY MODEL),MW(UTILITY MODEL),MZ(UTILITY MODEL),NA(UTILITY MODEL),SD(UTILITY MODEL),SL(UTILITY MODEL),SZ(UTILITY MODEL),TZ(UTILITY MODEL),UG(UTILITY MODEL),ZM(UTILITY MODEL),ZW(UTILITY MODEL)),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ,MD,RU,TJ,TM)

日本語項目の表示

発明の名称 ポリマー発泡粒子、発泡トナー、およびそれらの製造方法
発明の概要 【課題】　小さな空孔を設けたポリマー発泡粒子、発泡トナー、およびそれらの製造方法を提供する。 【解決手段】　平均空孔径が５０μｍ未満の微細空孔を備えたことを特徴とするポリマー発泡粒子。平均空孔径が１μｍ以上３μｍ未満の微細空孔を備え、かつ、体積平均粒子径が５μｍ以上１５μｍ未満であることを特徴とする発泡トナー。所定のポリマー粒子と、高圧気体または超臨界流体とを、混合して混合物とする第１工程、該ポリマー粒子の中まで該高圧気体または超臨界流体を含浸させる第２工程、該混合物を減圧減温してポリマー発泡粒子を得る第３工程、を有するポリマー発泡粒子の製造方法であって、前記第３工程は、２０ＭＰａ以上６０℃以上の状態から、１ＭＰａ未満３０℃未満の状態まで、５分以内に減圧減温することを特徴とするポリマー発泡粒子の製造方法。
※ ライセンスをご希望の方、特許の内容に興味を持たれた方は、下記までご連絡ください。

『 POLYMER EXPANDED PARTICLE, EXPANDED TONER AND METHOD FOR PRODUCING POLYMER EXPANDED PARTICLE AND EXPANDED TONER 』に関するお問合せ


  • 国立大学法人静岡大学 イノベーション社会連携推進機構
  • URL: http://www.oisc.shizuoka.ac.jp/
  • E-mail: e-mail address
  • Address: 〒432-8561 静岡県浜松市中区城北３－５－１
  • TEL: 053-478-1702
  • FAX: 053-478-1711

お問合せ


※ 同じキーワードでJ-STORE内を検索することが出来ます。→ J-STORE内を検索

PAGE TOP

『 POLYMER EXPANDED PARTICLE, EXPANDED TONER AND METHOD FOR PRODUCING POLYMER EXPANDED PARTICLE AND EXPANDED TONER 』に関するお問合せ


  • 国立大学法人静岡大学 イノベーション社会連携推進機構
  • URL: http://www.oisc.shizuoka.ac.jp/
  • E-mail: e-mail address
  • Address: 〒432-8561 静岡県浜松市中区城北３－５－１
  • TEL: 053-478-1702
  • FAX: 053-478-1711

お問合せ

印刷用ページ

関連情報

公報 WO 2011/115203(PDF,358KB) PDF
close
close
close
close
close
close