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CELL CULTURE INSTRUMENT AND CELL CULTURE METHOD USING THE SAME

Foreign code F120006689
File No. S2009-0526
Posted date May 24, 2012
Country WIPO
International application number 2008JP066084
International publication number WO 2009/034927
Date of international filing Sep 5, 2008
Date of international publication Mar 19, 2009
Priority data
  • P2007-237159 (Sep 12, 2007) JP
Title CELL CULTURE INSTRUMENT AND CELL CULTURE METHOD USING THE SAME
Abstract It is intended to provide a cell culture instrument which has a plural number of wells capable of holding cells therein and yet is excellent in handling properties. A cell culture instrument (1) comprising a base section (10), in which wells (22) including a plural number of first wells (21) capable of holding cells therein, and a frame section (3) which is provided around the above-described wells (20) in the above-described base section (10) and constitutes a second well (50) capable of holding a solution therein.
Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】細胞を保持可能な複数の第一のウェルを含むウェル群が形成された基部と、前記基部の前記ウェル群の周囲に立設されて、溶液を保持可能な第二のウェルを形成する枠部と、を備えたことを特徴とする細胞培養器具。

【請求項2】前記第一のウェルの開口部の面積は、100~1×106μm2の範囲であることを特徴とする請求の範囲第1項に記載の細胞培養器具。

【請求項3】前記基部及び前記枠部は、互いに別体に形成された基部材及び枠部材からそれぞれ構成され、前記枠部材は、前記ウェル群に対応する貫通穴が形成されるとともに、前記基部材に着脱可能に構成され、前記枠部材が前記基部材に取り付けられた状態において、前記貫通穴の内壁が前記ウェル群の周囲に立設されて前記第二のウェルが形成されることを特徴とする請求の範囲第1項又は第2項に記載の細胞培養器具。

【請求項4】前記基部材には、複数の前記ウェル群が互いに離間して形成され、前記枠部材には、その各々が前記複数のウェル群のうち一つに対応する前記貫通穴が少なくとも一つ形成されていることを特徴とする請求の範囲第3項に記載の細胞培養器具。

【請求項5】前記枠部材には、その各々が前記複数のウェル群のうち一つに対応する前記貫通穴が複数形成され、前記枠部材が前記基部材に取り付けられた状態において、前記複数の貫通穴の各々の内壁が対応する一つの前記ウェル群の周囲に立設されて複数の前記第二のウェルが形成されることを特徴とする請求の範囲第4項に記載の細胞培養器具。

【請求項6】前記基部材と前記枠部材とには、対応する位置に互いに結合可能な第一結合部と第二結合部とがそれぞれ形成されていることを特徴とする請求の範囲第3項乃至第5項のいずれかに記載の細胞培養器具。

【請求項7】前記基部材には、複数の前記ウェル群が互いに離間して形成され、前記第一結合部は、前記複数のウェル群の各々の周囲に形成されていることを特徴とする請求の範囲第6項に記載の細胞培養器具。

【請求項8】前記第一結合部及び前記第二結合部は、一方が凸形状に形成され、他方が凹形状に形成されて、互いに嵌合可能となっていることを特徴とする請求の範囲第6項又は第7項に記載の細胞培養器具。

【請求項9】前記基部材と、前記基部材に取り付けられた前記枠部材と、を一体的に保持し、前記基部材及び前記枠部材のそれぞれの外周の少なくとも一部に当接して前記基部材及び前記枠部材の相対的な位置を固定する当接部を有する保持部材をさらに備えたことを特徴とする請求の範囲第3項乃至第8項のいずれかに記載の細胞培養器具。

【請求項10】細胞を保持可能な複数の第一のウェルを含むウェル群が形成された基部材に着脱可能に構成され、前記ウェル群に対応する貫通穴が形成され、前記基部材に取り付けられることによって、前記貫通穴の内壁が前記ウェル群の周囲に立設されて、溶液を保持可能な第二のウェルを形成することを特徴とする細胞培養器具用枠部材。

【請求項11】請求の範囲第1項乃至第9項のいずれかに記載の細胞培養器具を用いることを特徴とする細胞培養方法。

【請求項12】請求の範囲第3項乃至第9項のいずれかに記載の細胞培養器具を用い、前記枠部材を前記基部材に取り付けた状態で、前記細胞培養器具のうち前記第二のウェルに細胞を含む溶液を注入することによって、前記第二のウェルに対応する一つの前記ウェル群に前記細胞を播種する工程と、前記基部材から前記枠部材を取り外して、前記ウェル群で前記細胞を培養する工程と、を含むことを特徴とする請求の範囲第11項に記載の細胞培養方法。

【請求項13】請求の範囲第3項乃至第9項のいずれかに記載の細胞培養器具を用い、前記ウェル群で細胞を培養する工程と、前記基部材に前記枠部材を取り付けた状態で、前記細胞培養器具のうち前記第二のウェルに所定の溶液を注入することによって、前記第二のウェルに対応する一つの前記ウェル群の細胞に前記所定の溶液を接触させる工程と、を含むことを特徴とする請求の範囲第11項又は第12項に記載の細胞培養方法。

【請求項14】請求の範囲第5項に記載の細胞培養器具を用い、前記複数のウェル群で細胞を培養する工程と、前記基部材に前記枠部材を取り付けた状態で、前記細胞培養器具のうち前記複数の第二のウェルに互いに異なる溶液を注入することによって、前記複数の第二のウェルに対応する前記複数のウェル群の細胞に、互いに異なる前記溶液を接触させる工程と、を含むことを特徴とする請求の範囲第11項乃至第13項のいずれか細胞培養方法。
  • Applicant
  • ※All designated countries except for US in the data before July 2012
  • KITAKYUSHU FOUNDATION FOR THE ADVANCEMENT OF INDUSTRY, SCIENCE AND TECHNOLOGY
  • Inventor
  • NAKAZAWA, Kohji
  • SAKAI, Yusuke
IPC(International Patent Classification)
Specified countries AE(UTILITY MODEL),AG,AL(UTILITY MODEL),AM(PROVISIONAL PATENT)(UTILITY MODEL),AO(UTILITY MODEL),AT(UTILITY MODEL),AU,AZ(UTILITY MODEL),BA,BB,BG(UTILITY MODEL),BH(UTILITY MODEL),BR(UTILITY MODEL),BW(UTILITY MODEL),BY(UTILITY MODEL),BZ(UTILITY MODEL),CA,CH,CN(UTILITY MODEL),CO(UTILITY MODEL),CR(UTILITY MODEL),CU(INVENTOR'S CERTIFICATE),CZ(UTILITY MODEL),DE(UTILITY MODEL),DK(UTILITY MODEL),DM(UTILITY MODEL),DO(UTILITY MODEL),DZ,EC(UTILITY MODEL),EE(UTILITY MODEL),EG(UTILITY MODEL),ES(UTILITY MODEL),FI(UTILITY MODEL),GB,GD,GE(UTILITY MODEL),GH(UTILITY CERTIFICATE),GM,GT(UTILITY MODEL),HN,HR(CONSENSUAL PATENT),HU(UTILITY MODEL),ID,IL,IN,IS,JP(UTILITY MODEL),KE(UTILITY MODEL),KG(UTILITY MODEL),KM,KN,KP(INVENTOR'S CERTIFICATE)(UTILITY MODEL),KR(UTILITY MODEL),KZ(PROVISIONAL PATENT)(UTILITY MODEL),LA,LC,LK,LR,LS(UTILITY MODEL),LT,LU,LY,MA,MD(UTILITY MODEL),ME(PETTY PATENT),MG,MK,MN,MW,MX(UTILITY MODEL),MY(UTILITY-INNOVATION),MZ(UTILITY MODEL),NA,NG,NI(UTILITY MODEL),NO,NZ,OM(UTILITY MODEL),PG,PH(UTILITY MODEL),PL(UTILITY MODEL),PT(UTILITY MODEL),RO,RS(PETTY PATENT),RU(UTILITY MODEL),SC,SD,SE,SG,SK(UTILITY MODEL),SL(UTILITY MODEL),SM,ST,SV(UTILITY MODEL),SY,TJ(UTILITY MODEL),TM(PROVISIONAL PATENT),TN,TR(UTILITY MODEL),TT(UTILITY CERTIFICATE),TZ,UA(UTILITY MODEL),UG(UTILITY CERTIFICATE),US,UZ(UTILITY MODEL),VC(UTILITY CERTIFICATE),VN(PATENT FOR UTILITY SOLUTION),ZA,ZM,ZW,EP(AT,BE,BG,CH,CY,CZ,DE,DK,EE,ES,FI,FR,GB,GR,HR,HU,IE,IS,IT,LT,LU,LV,MC,MT,NL,NO,PL,PT,RO,SE,SI,SK,TR),OA(BF(UTILITY MODEL),BJ(UTILITY MODEL),CF(UTILITY MODEL),CG(UTILITY MODEL),CI(UTILITY MODEL),CM(UTILITY MODEL),GA(UTILITY MODEL),GN(UTILITY MODEL),GQ(UTILITY MODEL),GW(UTILITY MODEL),ML(UTILITY MODEL),MR(UTILITY MODEL),NE(UTILITY MODEL),SN(UTILITY MODEL),TD(UTILITY MODEL),TG(UTILITY MODEL)),AP(BW(UTILITY MODEL),GH(UTILITY MODEL),GM(UTILITY MODEL),KE(UTILITY MODEL),LS(UTILITY MODEL),MW(UTILITY MODEL),MZ(UTILITY MODEL),NA(UTILITY MODEL),SD(UTILITY MODEL),SL(UTILITY MODEL),SZ(UTILITY MODEL),TZ(UTILITY MODEL),UG(UTILITY MODEL),ZM(UTILITY MODEL),ZW(UTILITY MODEL)),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ,MD,RU,TJ,TM)
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