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METALLIC POLISHING PAD AND PRODUCTION METHOD THEREFOR

Foreign code F150008405
File No. S2013-1207-C0
Posted date Jul 14, 2015
Country WIPO
International application number 2014JP066169
International publication number WO 2015008572
Date of international filing Jun 18, 2014
Date of international publication Jan 22, 2015
Priority data
  • P2013-150678 (Jul 19, 2013) JP
Title METALLIC POLISHING PAD AND PRODUCTION METHOD THEREFOR
Abstract Provided is a metallic polishing pad allowing the area coming in contact or in extreme close proximity with a catalyst to be increased on a surface to be processed. A metallic polishing pad (2) for smoothing a surface (6a) to be processed of a workpiece (6) by a catalyst-assisted chemical processing method is constituted from a compression-molded body of metal fibers comprising a transition metal catalyst. Being constituted from metal fibers, the compression-molded body has cavities therein, enabling elastic deformation of metal fibers present on a polishing pad surface (2a). Therefore, when the polishing pad surface (2a) and the surface (6a) to be processed of the workpiece (6) are pressed against each other, the metal fibers deform, adapting to the microscopic asperities present on the surface (6a), thereby reducing the space generated between the polishing pad surface (2a) and the surface (6a) to be processed. In this manner, the area coming in contact or in extreme close proximity with a catalyst can be increased on the surface (6a) to be processed.
Scope of claims (In Japanese)[請求項1]
被加工物(6)の被加工面(6a)を触媒支援型の化学加工方法で平滑化加工するための金属製研磨パッド(2)であって、遷移金属触媒からなる金属繊維(21、22、23)の圧縮成型体で構成され、所定の空隙率を有することを特徴とする金属製研磨パッド。
[請求項2]
前記金属繊維(21、22、23)は、直径が1μm以上500μm以下であることを特徴とする請求項1に記載の金属製研磨パッド。
[請求項3]
前記空隙率は、10%以上90%以下であることを特徴とする請求項1または2に記載の金属製研磨パッド。
[請求項4]
前記圧縮成型体は、圧縮回復率が90%以上100%以下であることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1つに記載の金属製研磨パッド。
[請求項5]
前記金属繊維(21、22、23)は、チタン、ニッケル、銅、鉄、クロム、コバルト、白金の中から選択された1種の金属または2種類以上の組み合わせからなる合金で構成されることを特徴とする請求項1ないし4のいずれか1つに記載の金属製研磨パッド。
[請求項6]
前記圧縮成型体は、第1金属繊維(22)と、前記第1金属繊維とは異なる材質の第2金属繊維(23)とを備えることを特徴とする請求項1ないし5のいずれか1つに記載の金属製研磨パッド。
[請求項7]
前記圧縮成型体は、研磨面となる一面(2a)と、それとは反対側の他面(2b)とを有し、
前記他面にゴム弾性を有するクッションシート(13)が設けられていることを特徴とする請求項1ないし6のいずれか1つに記載の金属製研磨パッド。
[請求項8]
請求項1ないし7のいずれか1つに記載の前記金属製研磨パッドの製造方法であって、
遷移金属触媒からなる金属繊維をホットプレスして一次成型体を成型する一次成型工程(S2)と、
前記一次成型体を常温で静水圧プレスして二次成型体を成型する二次成型工程(S3)とを有し、
前記一次成型工程によって、前記金属繊維同士を焼結により固定させ、
前記二次成型工程では、静水圧で変形しない型材(11)により前記一次成型体の一面(10a)を覆うとともに、静水圧で変形可能な被覆材(12)により前記一次成型体の残りの面(10b)を覆った状態で前記静水圧プレスすることを特徴とする金属製研磨パッドの製造方法。
[請求項9]
難加工材料からなる被加工物(6)の被加工面(6a)を平滑化加工する触媒支援型の化学加工方法において、
請求項1ないし7のいずれか1つに記載の前記金属製研磨パッド(2)の研磨面(2a)と前記被加工面(6a)とを押し合わせ、前記被加工面(6a)と前記研磨面(2a)との間に酸化剤を供給しながら、前記被加工物(6)と前記金属製研磨パッド(2)とを相対移動させることを特徴する触媒支援型の化学加工方法。
[請求項10]
前記酸化剤とともに、補助研磨粒子を供給することを特徴とする請求項9に記載の触媒支援型の化学加工方法。
[請求項11]
前記補助研磨粒子として、前記被加工物よりも軟らかいものを用いることを特徴とする請求項10に記載の触媒支援型の化学加工方法。
[請求項12]
前記補助研磨粒子は、前記被加工物の表面改質層よりも硬いことを特徴とする請求項11に記載の触媒支援型の化学加工方法。
[請求項13]
前記難加工材料は、SiC、GaN、ダイヤモンド、サファイヤ、ルビーのいずれか1つであることを特徴とする請求項9ないし12のいずれか1つに記載の触媒支援型の化学加工方法。
[請求項14]
前記酸化剤として、純水、過酸化水素水、シュウ酸、フッ化水素酸の中から選択された1種の溶液または2種類以上の組み合わせから成る混合溶液を用いることを特徴とする請求項9ないし13のいずれか1つに記載の触媒支援型の化学加工方法。
  • Applicant
  • ※All designated countries except for US in the data before July 2012
  • NAGOYA INSTITUTE OF TECHNOLOGY
  • SINTOKOGIO, LTD.
  • Inventor
  • ERYU OSAMU
  • YAMAGUCHI EIJI
IPC(International Patent Classification)
Specified countries National States: AE AG AL AM AO AT AU AZ BA BB BG BH BN BR BW BY BZ CA CH CL CN CO CR CU CZ DE DK DM DO DZ EC EE EG ES FI GB GD GE GH GM GT HN HR HU ID IL IN IR IS JP KE KG KN KP KR KZ LA LC LK LR LS LT LU LY MA MD ME MG MK MN MW MX MY MZ NA NG NI NO NZ OM PA PE PG PH PL PT QA RO RS RU RW SA SC SD SE SG SK SL SM ST SV SY TH TJ TM TN TR TT TZ UA UG US UZ VC VN ZA ZM ZW
ARIPO: BW GH GM KE LR LS MW MZ NA RW SD SL SZ TZ UG ZM ZW
EAPO: AM AZ BY KG KZ RU TJ TM
EPO: AL AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HR HU IE IS IT LT LU LV MC MK MT NL NO PL PT RO RS SE SI SK SM TR
OAPI: BF BJ CF CG CI CM GA GN GQ GW KM ML MR NE SN TD TG
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