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PRODUCTION METHOD FOR ELECTROLYTIC COPPER

Foreign code F150008448
File No. 3990
Posted date Oct 21, 2015
Country WIPO
International application number 2013JP074437
International publication number WO 2014136296
Date of international filing Sep 10, 2013
Date of international publication Sep 12, 2014
Priority data
  • P2013-045806 (Mar 7, 2013) JP
Title PRODUCTION METHOD FOR ELECTROLYTIC COPPER
Abstract Provided is a method for producing electrolytic copper having a low Ag content by successfully suppressing the Ag concentration in an electrolytic solution. The electrolytic copper production method involves a step in which blister copper comprising Ag is used as an anode, and electrolysis is carried out under sulfuric acid acidity while maintaining the anode electric potential at a relatively low electric potential in comparison to the electric potential of the Ag elution.
Scope of claims (In Japanese)[請求項1]
Agを含む粗銅をアノードとして用い、アノード電位をAg溶出電位に対して相対的に低い電位に保持しながら、硫酸酸性下で電解を行う工程を含む電気銅の製造方法。
[請求項2]
電解液中に、CuまたはCuより卑な金属を存在させることで、Agの浸漬電位を低下させた状態で前記電解を行う請求項1に記載の電気銅の製造方法。
[請求項3]
前記金属が、Pb及びCuからなる群から選択される1種又は2種である請求項2に記載の電気銅の製造方法。
[請求項4]
前記金属を電解液中に固体で存在させる請求項2又は3に記載の電気銅の製造方法。
[請求項5]
前記電解液中にAgを含む殿物が存在しており、前記殿物中のAgの粒子表面の電位を卑な方向にシフトさせる、Agよりも卑な金属を、前記殿物中のAgと電気的に導通した状態で前記電解を行う請求項1~4のいずれかに記載の電気銅の製造方法。
[請求項6]
前記殿物中のAgの粒子表面の電位を卑な方向にシフトさせる、Agよりも卑な金属が、Pb及びCuからなる群から選択される1種又は2種である請求項5に記載の電気銅の製造方法。
[請求項7]
前記電解は電解槽内で行われており、前記電解槽の電解液と接する領域の少なくとも一部が前記金属を用いた材料で形成されている請求項1~6のいずれかに記載の電気銅の製造方法。
[請求項8]
前記金属の品位を増加させた前記粗銅をアノードとして用いて電解を行う請求項1~7のいずれかに記載の電気銅の製造方法。
[請求項9]
前記アノードとして用いる粗銅におけるPb品位(ppm)とAg品位(ppm)との比Pb/Agが0.5以上である請求項8に記載の電気銅の製造方法。
[請求項10]
前記アノードとして用いる粗銅におけるPb品位(ppm)とAg品位(ppm)との比Pb/Agが2.0以上である請求項9に記載の電気銅の製造方法。
[請求項11]
前記アノードとして用いる粗銅におけるPb品位(ppm)とAg品位(ppm)との比Pb/Agが3.0以上である請求項10に記載の電気銅の製造方法。
[請求項12]
前記アノードとして用いる粗銅におけるPb品位(ppm)とAg品位(ppm)との比Pb/Agが5.0以上である請求項11に記載の電気銅の製造方法。
[請求項13]
前記電解を、Agイオンと結合してAg化合物を形成するイオンを供出する添加剤を含んだ電解液を用いて行う請求項1~12のいずれかに記載の電気銅の製造方法。
[請求項14]
前記添加剤が、チオ尿素及び塩化物イオンからなる群から選択される1種又は2種である請求項13に記載の電気銅の製造方法。
[請求項15]
Agを含む粗銅をアノードとして用い、電解液中の溶存酸素濃度を3mg/L以下に保持しながら、硫酸酸性下で電解を行う工程を含む電気銅の製造方法。
[請求項16]
前記電解液中の溶存酸素濃度の制御として、不活性ガスを用いた電解液のバブリングによる脱酸素処理を行う請求項15に記載の電気銅の製造方法。
[請求項17]
前記不活性ガスとして、酸素プラントから廃棄された窒素ガスを利用する請求項16に記載の電気銅の製造方法。
[請求項18]
前記電解は電解槽内で行われており、電解液に酸素を含む気体が気泡として混合することを防ぐ構造を備えた電解液の循環径路を用いて電解を行うことで、前記電解液中の溶存酸素濃度の制御を行う請求項15~17のいずれかに記載の電気銅の製造方法。
[請求項19]
前記電解を、Agイオンと結合してAg化合物を形成するイオンを供出する添加剤を含んだ電解液を用いて行う請求項15~18のいずれかに記載の電気銅の製造方法。
[請求項20]
前記添加剤が、チオ尿素及び塩化物イオンからなる群から選択される1種又は2種である請求項19に記載の電気銅の製造方法。
  • Applicant
  • ※All designated countries except for US in the data before July 2012
  • PAN PACIFIC COPPER CO.,LTD.
  • KYOTO UNIVERSITY
  • Inventor
  • SHIMOKAWA KIMIHIRO
  • MURASE KUNIAKI
  • KITADA ATSUSHI
  • KASUNO TAKAHITO
IPC(International Patent Classification)
Specified countries National States: AE AG AL AM AO AT AU AZ BA BB BG BH BN BR BW BY BZ CA CH CL CN CO CR CU CZ DE DK DM DO DZ EC EE EG ES FI GB GD GE GH GM GT HN HR HU ID IL IN IS KE KG KN KP KR KZ LA LC LK LR LS LT LU LY MA MD ME MG MK MN MW MX MY MZ NA NG NI NO NZ OM PA PE PG PH PL PT QA RO RS RU RW SA SC SD SE SG SK SL SM ST SV SY TH TJ TM TN TR TT TZ UA UG US UZ VC VN ZA ZM ZW
ARIPO: BW GH GM KE LR LS MW MZ NA RW SD SL SZ TZ UG ZM ZW
EAPO: AM AZ BY KG KZ RU TJ TM
EPO: AL AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HR HU IE IS IT LT LU LV MC MK MT NL NO PL PT RO RS SE SI SK SM TR
OAPI: BF BJ CF CG CI CM GA GN GQ GW KM ML MR NE SN TD TG
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