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CLEANING DEVICE AND CLEANING METHOD

Foreign code F150008476
Posted date Oct 26, 2015
Country WIPO
International application number 2014JP072383
International publication number WO 2015030035
Date of international filing Aug 27, 2014
Date of international publication Mar 5, 2015
Priority data
  • P2013-177309 (Aug 28, 2013) JP
Title CLEANING DEVICE AND CLEANING METHOD
Abstract A cleaning device is provided with: a venturi tube, which has an introduction part into which is introduced a gas-liquid mixture wherein water and an ozone-containing gas, which is a reactive gas, are mixed, a throat part, which has a smaller internal cross-sectional surface area than the internal cross-sectional surface area of the introduction part and wherein the gas-liquid mixture is compressed and increased in flow rate, and an expanded part having a shape in which the internal cross-sectional surface area expands moving from the throat part toward the direction of travel of the gas-liquid mixture and generating microbubbles by the collapse of bubbles of the reactive gas included in the gas-liquid mixture; and a cleaning jig having a spray part on which a spray outlet for spraying the gas-liquid mixture is provided. The gas-liquid mixture that includes the microbubbles and which is sprayed from the venturi tube is sprayed on an object to be cleaned from the spray outlet and cleans the object to be cleaned. Thus, a cleaning device and cleaning method wherein the cleaning power is high in relation to the amount of ozone used are provided.
Scope of claims (In Japanese)[請求項1]
水と反応性ガスであるオゾン含有ガスとが混合された気液混合体が導入される導入部と、
前記導入部の内部断面積よりも小さい内部断面積を有し、前記気液混合体が圧縮されて流速が高められる喉部と、
前記喉部から前記気液混合体の進行方向に向かって内部断面積が拡大する形状を有し、前記気液混合体に含まれる前記反応性ガスの気泡が崩壊してマイクロバブルが発生する拡大部と、
を有するベンチュリ管と、
前記気液混合体を噴出するための噴出口が設けられた噴射部を有する洗浄用治具と、
を備え、
前記ベンチュリ管から噴出された前記マイクロバブルを含む気液混合体を前記噴出口から洗浄対象に噴射して前記洗浄対象を洗浄することを特徴とする洗浄装置。
[請求項2]
前記気液混合体に含まれるオゾンガスの濃度が10ppm以上、50ppm以下であることを特徴とする請求項1に記載の洗浄装置。
[請求項3]
前記洗浄対象は平面状基板または前記洗浄用治具にて洗浄可能に構成されていることを特徴とする請求項1または2に記載の洗浄装置。
[請求項4]
前記平面状基板の表面に残留する油脂または形成されたフォトレジストもしくは形成された保護膜を前記洗浄により除去することを特徴とする請求項3に記載の洗浄装置。
[請求項5]
前記ベンチュリ管を複数備えることを特徴とする請求項1~4のいずれか一つに記載の洗浄装置。
[請求項6]
前記噴射部は盤状に形成された盤状部であり、前記盤状部を前記洗浄対象の表面に近接させて前記洗浄対象を洗浄することを特徴とする請求項1~5のいずれか一つに記載の洗浄装置。
[請求項7]
前記盤状部は、外周部と、前記外周部の内周側に位置し、該外周部に対して前記洗浄対象に対向する表面が窪むように形成された内周部とを備えることを特徴とする請求項6に記載の洗浄装置。
[請求項8]
前記内周部の外縁は、前記洗浄対象に対向する表面が前記外周部と前記内周部とで平坦である場合に前記盤状部と前記洗浄対象の表面との間に満たされた前記気液混合液に渦流が発生する領域よりも内側に位置することを特徴とする請求項7に記載の洗浄装置。
[請求項9]
水と反応性ガスであるオゾン含有ガスとが混合された気液混合体をベンチュリ管に導入し、
前記ベンチュリ管の喉部にて前記気液混合体を圧縮して流速を高め、
前記ベンチュリ管の喉部から前記気液混合体の進行方向に向かって内部断面積が拡大する形状を有する拡大部にて、前記気液混合体に含まれる前記反応性ガスの気泡を崩壊させてマイクロバブルを発生し、
前記ベンチュリ管から前記マイクロバブルを含む気液混合体を洗浄対象に噴射して前記洗浄対象を洗浄することを特徴とする洗浄方法。
  • Applicant
  • ※All designated countries except for US in the data before July 2012
  • UNIVERSITY OF TSUKUBA
  • APPTEX LLC
  • Inventor
  • ABE YUTAKA
  • IKE MASATOSHI
IPC(International Patent Classification)
Specified countries National States: AE AG AL AM AO AT AU AZ BA BB BG BH BN BR BW BY BZ CA CH CL CN CO CR CU CZ DE DK DM DO DZ EC EE EG ES FI GB GD GE GH GM GT HN HR HU ID IL IN IR IS JP KE KG KN KP KR KZ LA LC LK LR LS LT LU LY MA MD ME MG MK MN MW MX MY MZ NA NG NI NO NZ OM PA PE PG PH PL PT QA RO RS RU RW SA SC SD SE SG SK SL SM ST SV SY TH TJ TM TN TR TT TZ UA UG US UZ VC VN ZA ZM ZW
ARIPO: BW GH GM KE LR LS MW MZ NA RW SD SL SZ TZ UG ZM ZW
EAPO: AM AZ BY KG KZ RU TJ TM
EPO: AL AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HR HU IE IS IT LT LU LV MC MK MT NL NO PL PT RO RS SE SI SK SM TR
OAPI: BF BJ CF CG CI CM GA GN GQ GW KM ML MR NE SN TD TG
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