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ELECTRODE PAIR, METHOD FOR PRODUCING SAME, SUBSTRATE FOR DEVICE, AND DEVICE

Foreign code F150008495
File No. AF12-17WO
Posted date Oct 28, 2015
Country WIPO
International application number 2014JP056081
International publication number WO 2015033600
Date of international filing Mar 9, 2014
Date of international publication Mar 12, 2015
Priority data
  • P2013-185650 (Sep 6, 2013) JP
Title ELECTRODE PAIR, METHOD FOR PRODUCING SAME, SUBSTRATE FOR DEVICE, AND DEVICE
Abstract Provided are an electrode pair which enables the performance of a device to be accurately offered, a method for manufacturing the same, a substrate for a device, and a device. An electrode pair (10), wherein one electrode (10A) and the other electrode (12B) are provided on the same plane so as to face each other with a gap (17) therebetween, and portions facing each other of the one electrode (12A) and the other electrode (12B) are each curved so as to become more distant from the plane as approaching each other. This electrode pair (10) is produced by preparing, as a sample, a substrate on which a pair of seed electrodes are formed with a space therebetween so as to have an initial gap, and, when the sample is immersed in an electroless plating solution, replacing the electroless plating solution after a lapse of a certain period of time, and adjusting the number of times of replacement. As a result, the surfaces facing each other can be vertically adjusted while the gap between the one electrode (12A) and the other electrode (12B) is kept constant.
Scope of claims (In Japanese)[請求項1]
一方の電極と他方の電極とがギャップを有して向かい合うように同一面上に設けられ、
前記一方の電極と前記他方の電極との向かい合う部分が、互いに近づくにつれて前記面から遠ざかるように湾曲している、電極対。
[請求項2]
前記一方の電極及び前記他方の電極が、一方向に延びた本体部と、該本体部から互いの先端が向かい合うように延びて近接する近接部と、をそれぞれ備え、
前記本体部が前記面に接触しており、前記近接部が前記面に接触しておらず前記近接部が前記先端に近づくに従い前記面から遠ざかるように湾曲している、請求項1に記載の電極対。
[請求項3]
前記近接部は、前記本体部から前記先端に向かう軸に対して垂直な断面積が前記先端に近づくに従い小さくなる凸の外形曲面を有している、請求項2に記載の電極対。
[請求項4]
前記一方の電極と前記他方の電極が、それぞれ、金属層と、該金属層と前記面との間に設けられ該金属層を前記面に密着させる密着層とで構成され、
前記近接部が前記金属層で構成されている、請求項2に記載の電極対。
[請求項5]
基板と、一方の電極と他方の電極とがギャップを有するように前記基板上に設けられた電極の対と、前記電極の対を覆うように設けられた絶縁層と、を備え、
前記一方の電極と、前記他方の電極と、さらに前記基板及び前記絶縁層との間に空間が形成されている、デバイス用基板。
[請求項6]
請求項1乃至4の何れかに記載の電極対がナノギャップを有するように備えられ、
前記一方の電極及び前記他方の電極をソース、ドレインの各電極とし、
前記ナノギャップに、ナノ粒子又は機能性分子が配置されている、デバイス。
[請求項7]
請求項1乃至4の何れかに記載の電極対を光伝導アンテナとする、デバイス。
[請求項8]
初期ギャップを有するように間隔をあけて種電極の対が形成された基板をサンプルとして準備し、
前記サンプルを無電解メッキ液に浸漬する際、一定時間経過すると前記無電解メッキ液を交換する、電極対の作製方法。
[請求項9]
前記無電解メッキ液を交換する回数を調整することにより、一方の電極と他方の電極との隙間を一定に保ちながら、対向する面を縦方向に延ばす、請求項8に記載の電極対の作製方法。
  • Applicant
  • ※All designated countries except for US in the data before July 2012
  • JAPAN SCIENCE AND TECHNOLOGY AGENCY
  • Inventor
  • MAJIMA YUTAKA
  • TERANISHI TOSHIHARU
  • TAKESHITA SHUHEI
IPC(International Patent Classification)
Reference ( R and D project ) CREST Establishment of Innovative Manufacturing Technology Based on Nanoscience AREA
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