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METAL COLLECTION METHOD AND METAL COLLECTION SYSTEM, AND SOLUTION REGENERATION METHOD AND SOLUTION REUSE SYSTEM meetings

Foreign code F150008606
File No. (S2014-0878-N0)
Posted date Dec 16, 2015
Country WIPO
International application number 2015JP060773
International publication number WO 2015163132
Date of international filing Apr 6, 2015
Date of international publication Oct 29, 2015
Priority data
  • P2014-091836 (Apr 25, 2014) JP
Title METAL COLLECTION METHOD AND METAL COLLECTION SYSTEM, AND SOLUTION REGENERATION METHOD AND SOLUTION REUSE SYSTEM meetings
Abstract [Problem] To provide: a metal collection method and a metal collection system, whereby it becomes possible to collect a metal from a liquid metal waste with high efficiency and at low cost; and a solution regeneration method and a solution reuse system. [Solution] One embodiment of the metal collection method according to the present invention comprises: a deposition step of bringing a solution, which contains no fluoride ion or contains the fluoride ion in an amount of 0 to 8 mg/L exclusive and contains ions of at least one element selected from the group consisting of gold, silver, copper, palladium, rhodium, platinum, ruthenium and osmium, into contact with particulate silicon of which the entire or a part of the surface is covered with an insulating layer, thereby depositing a metal comprising the element onto the silicon; and a collection step of collecting the metal that comprises the element and is deposited on the silicon.
Scope of claims (In Japanese)[請求項1]
フッ化物イオンを含まない、又は前記フッ化物イオンを0mg/L超8mg/L未満含む溶液であって、金、銀、銅、パラジウム、ロジウム、白金、ルテニウム、及びオスミウムの群から選択される少なくとも1種の元素のイオンを含む前記溶液と、絶縁層によって表面の全部又は一部が覆われていない粒子状のシリコンとを接触させ、前記シリコン上に、前記元素からなる金属を析出させる析出工程と、
前記シリコン上に析出した元素からなる金属を回収する回収工程を含む、
金属の回収方法。
[請求項2]
フッ化物イオンを含まない、又は前記フッ化物イオンを0mg/L超8mg/L未満含む溶液であって、金、銀、銅、パラジウム、ロジウム、白金、ルテニウム、及びオスミウムの群から選択される少なくとも1種の元素のイオンを含む前記溶液と、絶縁層によって表面の全部又は一部が覆われていない粒子状のシリコンとを接触させ、前記シリコン上に、前記元素からなる金属を析出させる析出工程と、
前記溶液から前記元素からなる金属が析出したシリコンを除去する除去工程を含む、
溶液の再生方法。
[請求項3]
フッ化物イオンを含まない、又は前記フッ化物イオンを0mg/L超8mg/L未満含む溶液であって、金、銀、銅、パラジウム、ロジウム、白金、ルテニウム、及びオスミウムの群から選択される少なくとも1種の元素のイオンを含む前記溶液と、絶縁層によって表面の全部又は一部が覆われていない粒子状のシリコンとを接触させる反応槽と、
接触させた前記反応槽内の前記溶液と前記シリコンの混合液を前記反応槽から排出する排出部と、
排出された前記混合液を固液分離する固液分離手段と、
分離された前記シリコン上に析出した前記元素からなる金属を回収する回収部とを備える、
金属回収システム。
[請求項4]
前記溶液が、アルカリ性である、
請求項1に記載の金属の回収方法。
[請求項5]
前記溶液が、アルカリ性である、
請求項2に記載の溶液の再生方法。
[請求項6]
前記溶液が、アルカリ性である、
請求項3に記載の金属回収システム。
[請求項7]
前記溶液中の前記元素の価数と、前記元素のイオン濃度に応じて供給する前記シリコンの量を制御する供給シリコン量制御手段をさらに備え、
前記供給シリコン量制御手段が、それぞれの前記元素の価数、前記元素のイオン濃度、及び前記シリコンの粒径に基づいて算出される表面積基準の前記シリコンの量を制御する、
請求項3に記載の金属回収システム。
[請求項8]
フッ化物イオンを含まない、又は前記フッ化物イオンを0mg/L超8mg/L未満含む溶液であって、金、銀、銅、パラジウム、ロジウム、白金、ルテニウム、及びオスミウムの群から選択される少なくとも1種の元素のイオンを含む第1の溶液と、絶縁層によって表面の全部又は一部が覆われていない粒子状のシリコンとを接触させる収容槽と、
接触させた前記反応槽内の第2の溶液と前記シリコンの混合液を前記収容槽から排出する排出部と、
排出された前記混合液を固液分離する固液分離手段と、
分離された前記シリコン上に析出した前記元素からなる金属を回収する回収部とを備え、
前記固液分離手段によって得られた第3の溶液を再度利用する、
溶液の再利用システム。
[請求項9]
前記第1の溶液が、アルカリ性である、
請求項8に記載の溶液の再利用システム。
[請求項10]
前記第1の溶液中の前記元素の価数と、前記元素のイオン濃度に応じて供給する前記シリコンの量を制御する供給シリコン量制御手段をさらに備え、
前記供給シリコン量制御手段が、それぞれの前記元素の価数、前記元素のイオン濃度、及び前記シリコンの粒径に基づいて算出される表面積基準の前記シリコンの量を制御する、
請求項8又は請求項9に記載の溶液の再利用システム。
  • Applicant
  • ※All designated countries except for US in the data before July 2012
  • UNIVERSITY OF HYOGO
  • Inventor
  • YAE SHINJI
IPC(International Patent Classification)
Specified countries National States: AE AG AL AM AO AT AU AZ BA BB BG BH BN BR BW BY BZ CA CH CL CN CO CR CU CZ DE DK DM DO DZ EC EE EG ES FI GB GD GE GH GM GT HN HR HU ID IL IN IR IS JP KE KG KN KP KR KZ LA LC LK LR LS LU LY MA MD ME MG MK MN MW MX MY MZ NA NG NI NO NZ OM PA PE PG PH PL PT QA RO RS RU RW SA SC SD SE SG SK SL SM ST SV SY TH TJ TM TN TR TT TZ UA UG US UZ VC VN ZA ZM ZW
ARIPO: BW GH GM KE LR LS MW MZ NA RW SD SL SZ TZ UG ZM ZW
EAPO: AM AZ BY KG KZ RU TJ TM
EPO: AL AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HR HU IE IS IT LT LU LV MC MK MT NL NO PL PT RO RS SE SI SK SM TR
OAPI: BF BJ CF CG CI CM GA GN GQ GW KM ML MR NE SN TD TG

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