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POLYMER COMPLEX AND PRODUCTION PROCESS THEREFOR

Foreign code F160008880
File No. (S2015-0707-N0)
Posted date Oct 25, 2016
Country WIPO
International application number 2016JP055906
International publication number WO 2016143561
Date of international filing Feb 26, 2016
Date of international publication Sep 15, 2016
Priority data
  • P2015-045416 (Mar 9, 2015) JP
Title POLYMER COMPLEX AND PRODUCTION PROCESS THEREFOR
Abstract The present invention provides a new organic ligand capable of providing a complex that has a three-dimensional network structure due to rare-earth element ions. Also provided is a new polymer complex which includes this organic ligand, has a new function, and contains rare-earth element ions. Furthermore provided are a process for producing the polymer complex and a use of the polymer complex. The present invention relates to a polymer complex having repeating units represented by general formula (10). Ar11 , Ar12 , and Ar13 each represent an aryl group, a heteroaryl group, or an aralkyl group. M1 is a rare-earth element ion. LG is a multidentate ligand which has coordinated to the rare-earth element ion represented by M1 . Ar11 and/or Ar13 can have at least one carboxyl group, the moieties having structures respectively represented by general formulae (11) and (12). -Ar11 -COO- ··· M1 (LG)n1 ·· (11) and -Ar13 -COO- ··· M1 (LG)n3 ·· (12)
Outline of related art and contending technology BACKGROUND ART
Rare earth complex is based on 4f - 4f electron transition from the light emission of a sharp, attention in recent years as new light-emitting material, an organic complex and a ligand which is compatible with the polymer when the polymer can be seen from the light emitting element and the material used such as fluorescent ink has been proposed. Is of a rare earth complex these, so as to exhibit a high heat resistance also known (Patent Document 1, 2, non-patent document 1).
Further, a large number of complex having a coordination site and polymers by a new optical polymer complex has been paid attention as a substance. Of Formula (III) ions Eu in combination forming a coordination polymer, the improvement of heat resistance, and high light emission quantum yield can be achieved have been reported (non-patent document 2).
Patent Document 1:WO2012/15072 Patent Document 2: Japanese Patent 3668966 is of all the articles in the Japanese Patent 1-2, the entirety of the specifically disclosed herein.
Non-patent document 1: K.Miyama, non-patent document 2: K.Miyata al,hem.Eur.J.,2011,17,521-528 Y. Hasegawa et, T.Ohba et al, of all the articles in the non-patent document ChemPlusChem.,2012, 77, 277 is 1-2, the entirety of the specifically disclosed herein.
Scope of claims (In Japanese)[請求項1]
下記一般式(10)で示される繰り返し単位を有する高分子錯体。
[化1]
一般式(10)中、
Ar11、Ar12及びAr13は、独立に、置換若しくは無置換アリール基、置換若しくは無置換ヘテロアリール基、又は置換若しくは無置換アラルキル基を示し、
M1は、希土類元素イオンであり、
LGは、前記M1で示される希土類元素イオンに配位する多座配位子であり、m及びn2は、任意の整数であり、
M1(LG)m ・・の・・で示される末端側は、他の繰り返し単位中のホスフィンオキシド基と結合をし、
Ar11及びAr13の一方又は両方は、無置換であるか、又はそれぞれ少なくとも1個のカルボキシル基を有し、下記一般式(11)及び(12)で示される構造を有し、n1及びn3は、任意の整数であり、
一般式(10)中のM1(LG)m・・・O=Pの・・・は、M1とO=Pの間の結合を示し、-COO-・・・M1(LG)n2の・・・は、-COO-とM1の間の結合を示し、
一般式(10)~(12)中のM1(LG)n13の・・で示される末端側は、他の繰り返し単位中のカルボキシル基との結合を示す。
[化2]
[請求項2]
Ar11及びAr13の両方が、無置換である請求項1に記載の錯体。
[請求項3]
Ar11及びAr13の両方が、それぞれ1個のカルボキシル基を有する、請求項1に記載の錯体。
[請求項4]
多座配位子LGがジケト化合物である請求項1~3のいずれか1項に記載の錯体。
[請求項5]
ジケト化合物が一般式(3)で示される化合物である、請求項4に記載の錯体。
[化3]
式中、Aは独立に、水素原子、炭素数1~6のアルキル基又はハロゲン原子、Zは水素原子又は重水素原子を示す。
[請求項6]
ジケト化合物が、アセチルアセトン(acac)、2,2,6,6-テトラメチルヘプタン-3,5-ジオン(TMHD)、1,1,1-トリフルオロアセチルアセトン(TFA)、1,1,1,5,5,5-ヘキサフルオロアセチルアセトン(HFA)、及び1-(2-ナフチル)-4,4,4-トリフルオロ-1,3-ブタンジオンから成る群から選ばれる少なくとも1種の化合物である、請求項4又は5に記載の高分子錯体。
[請求項7]
M1は、少なくとも2種類の希土類元素イオンである、請求項1~6のいずれか1項に記載の高分子錯体。
[請求項8]
下記一般式(1)で示されるホスフィンオキシド化合物からなる、高分子希土類錯体用配位子。
[化4]
一般式(1)中、
Ar11、Ar12及びAr13は、独立に、置換若しくは無置換アリール基、置換若しくは無置換ヘテロアリール基、又は置換若しくは無置換アラルキル基を示し、Ar11、Ar12及びAr13の少なくとも1個は、それぞれ少なくとも1個のカルボキシル基を有する。
[請求項9]
Ar11、Ar12及びAr13は、独立に、置換若しくは無置換アリール基を示し、Ar11、Ar12及びAr13の少なくとも1個は、それぞれ1個のカルボキシル基を有する請求項8に記載の配位子。
[請求項10]
Ar11、Ar12及びAr13は、独立に、フェニル基を示し、Ar11、Ar12及びAr13の少なくとも1個は、それぞれ1個のカルボキシル基を有する請求項8に記載の配位子。
[請求項11]
請求項8~10のいずれか1項に記載の一般式(1)で示される化合物、希土類化合物(但し、希土類化合物に含まれる希土類のイオンはM1である)、及び多座配位子LGを反応させて、請求項1~6のいずれか1項に記載の一般式(10)で示される繰り返し単位を有する高分子錯体を調製する工程を含む高分子錯体の製造方法。
  • Applicant
  • ※All designated countries except for US in the data before July 2012
  • NATIONAL UNIVERSITY CORPORATION HOKKAIDO UNIVERSITY
  • Inventor
  • HASEGAWA Yasuchika
  • NAKAJIMA Ayako
  • NAKANISHI Takayuki
  • KITAGAWA Yuichi
  • FUSHIMI Koji
IPC(International Patent Classification)
Specified countries National States: AE AG AL AM AO AT AU AZ BA BB BG BH BN BR BW BY BZ CA CH CL CN CO CR CU CZ DE DK DM DO DZ EC EE EG ES FI GB GD GE GH GM GT HN HR HU ID IL IN IR IS JP KE KG KN KP KR KZ LA LC LK LR LS LU LY MA MD ME MG MK MN MW MX MY MZ NA NG NI NO NZ OM PA PE PG PH PL PT QA RO RS RU RW SA SC SD SE SG SK SL SM ST SV SY TH TJ TM TN TR TT TZ UA UG US UZ VC VN ZA ZM ZW
ARIPO: BW GH GM KE LR LS MW MZ NA RW SD SL SZ TZ UG ZM ZW
EAPO: AM AZ BY KG KZ RU TJ TM
EPO: AL AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HR HU IE IS IT LT LU LV MC MK MT NL NO PL PT RO RS SE SI SK SM TR
OAPI: BF BJ CF CG CI CM GA GN GQ GW KM ML MR NE SN ST TD TG
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