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SENSOR AND METHOD FOR MANUFACTURING SENSOR meetings

Foreign code F190009751
File No. (170035JP01,S2017-0740-N0)
Posted date May 7, 2019
Country WIPO
International application number 2018JP023039
International publication number WO 2018230736
Date of international filing Jun 15, 2018
Date of international publication Dec 20, 2018
Priority data
  • P2017-118167 (Jun 15, 2017) JP
Title SENSOR AND METHOD FOR MANUFACTURING SENSOR meetings
Abstract In order to provide a sensor using a surface plasmon polariton excitation structure, the present invention provides a sensor which is provided with: a substrate; a ferromagnetic layer provided on the substrate; a low refractive index layer that is provided on the ferromagnetic layer and that includes a space through which a substance to be measured flows; and a high refractive index layer that is provided on the low refractive index layer and that has a higher refractive index than the low refractive index layer. In addition, the present invention provides a method for manufacturing the sensor, the method including: preparing a substrate; providing a ferromagnetic layer on the substrate; providing, on the ferromagnetic layer, a low refractive index layer that includes a space through which a substance to be measured flows; and providing, on the low refractive index layer, a high refractive index layer that has a higher refractive index than the low refractive index layer.
Outline of related art and contending technology BACKGROUND ART
Conventionally, a sensor utilizing the structure of the excited surface plasmon polariton has been known (for example, see Patent Document 1). No. 2011/142118 Patent Document 1 International Publication
Problem to be solved
And utilizing the structure of the surface plasmon polariton excitation, the higher-sensitivity sensor is required.
General disclosure
1 In the first embodiment of the present invention, the substrate, is provided over the substrate and the ferromagnetic layer, a ferromagnetic layer that is provided above, including the space for passing the target substance and the low refractive index layer, low refractive index layer provided on the top of, having a larger refractive index than the low refractive index layer and high refractive index layer to provide a sensor comprising.
2 In the first embodiment of the present invention, a semiconductor substrate is prepared, a ferromagnetic layer is provided over the substrate, the upper ferromagnetic layer, the target substance to pass through the low refractive index layer is provided including the space, the upper portion of the low refractive index layer, the low refractive index layer having a larger refractive index than the high refractive index layer to provide a manufacturing method of the sensor.
In addition, the above summary of the invention, all of the features of the present invention are not listed. In addition, sub-combinations of groups of these features, can be the invention.
Scope of claims (In Japanese)請求の範囲 [請求項1]
 基板と、
 前記基板の上方に設けられた強磁性体層と、
 前記強磁性体層の上方に設けられ、測定対象物質を流すための空間を含む低屈折率層と、
 前記低屈折率層の上方に設けられ、前記低屈折率層よりも屈折率の大きい高屈折率層と
 を備えるセンサ。

[請求項2]
 第1の磁場と、前記第1の磁場と異なる第2の磁場のいずれかを前記強磁性体層に印加する磁場印加部を更に備える
 請求項1に記載のセンサ。

[請求項3]
 前記磁場印加部は、前記第1の磁場として飽和磁場を前記強磁性体層に印加し、前記第2の磁場として前記飽和磁場の反転磁場を前記強磁性体層に印加する
 請求項2に記載のセンサ。

[請求項4]
 前記低屈折率層は、
 前記測定対象物質を前記低屈折率層に流入する流入部と、
 前記測定対象物質を前記低屈折率層から外部に流出する流出部と
 を備える
 請求項1から3のいずれか一項に記載のセンサ。

[請求項5]
 前記低屈折率層の層厚は15000nm以下である
 請求項1から4のいずれか一項に記載のセンサ。

[請求項6]
 前記低屈折率層は、予め定められた第1の層厚と、前記第1の層厚と異なる第2の層厚を有する
 請求項1から5のいずれか一項に記載のセンサ。

[請求項7]
 前記低屈折率層は、前記第1の層厚から前記第2の層厚へと徐々に層厚が変化するくさび型の構造を有する
 請求項6に記載のセンサ。

[請求項8]
 前記強磁性体層と前記低屈折率層との間に設けられ、1より大きい屈折率の伝搬定数調整層を更に備える
 請求項1から7のいずれか一項に記載のセンサ。

[請求項9]
 前記伝搬定数調整層の膜厚は、前記低屈折率層の層厚より薄い
 請求項8に記載のセンサ。

[請求項10]
 前記低屈折率層と前記強磁性体層との間に、前記強磁性体層よりも導電率が高い第1金属層を更に備える
 請求項1から9のいずれか一項に記載のセンサ。

[請求項11]
 前記基板と前記強磁性体層との間に、前記強磁性体層よりも測定波長における導電率が高い第2金属層を更に備える
 請求項10に記載のセンサ。

[請求項12]
 前記第1金属層の膜厚は、前記第2金属層の膜厚よりも薄い
 請求項11に記載のセンサ。

[請求項13]
 ある入射角度θで測定された磁化反転時の反射率の変化をΔR pとし、ある入射角度θで反射率を測定したとき、外部磁場(+M)、および、外部磁場(-M)のもとで得られた反射率の和をR pとした場合に、
 性能指数ΔR p/R pが-1.0以上、-0.9以下、または、+0.9以上、+1.0以下を満たす
 請求項1から12のいずれか一項に記載のセンサ。

[請求項14]
 ある入射角度θで測定された、前記低屈折率層の層厚tが異なる2点(t1、t2)の反射率の変化をΔR p'とし、ある入射角度θで反射率を測定したとき、前記層厚tがt1、t2のもとで得られた反射率の和をR pとした場合に、
 性能指数(ΔR p/R p)'が-1.0以上、-0.9以下、または、+0.9以上、+1.0以下を満たす
 請求項1から12のいずれか一項に記載のセンサ。

[請求項15]
 前記反射率の和R p、前記性能指数の入射角度依存性を測定する際、入射角度の分解能を超える超分解能を有する
 請求項13または14に記載のセンサ。

[請求項16]
 基板を用意し、
 前記基板の上方に強磁性体層を設け、
 前記強磁性体層の上方に、測定対象物質を流すための空間を含む低屈折率層を設け、
 前記低屈折率層の上方に、前記低屈折率層よりも屈折率の大きい高屈折率層を設ける
 センサの製造方法。

[請求項17]
 前記強磁性体層と、前記低屈折率層と、前記高屈折率層との積層構造は、
 前記強磁性体層の上面に支持層を設け、
 前記支持層を介して、前記強磁性体層の上方に前記高屈折率層を積層することにより形成される
 請求項16に記載のセンサの製造方法。

[請求項18]
 前記強磁性体層と、前記低屈折率層と、前記高屈折率層との積層構造は、
 前記高屈折率層を含む基板を更に用意し、
 前記高屈折率層を含む基板に溝を形成し、
 前記高屈折率層を含む基板の前記溝が形成された面を、前記強磁性体層に貼り合わせることにより形成される
 請求項16に記載のセンサの製造方法。

[請求項19]
 ある入射角度θで測定された磁化反転時の反射率の変化をΔR pとし、ある入射角度θで反射率を測定したとき、外部磁場(+M)、および、外部磁場(-M)のもとで得られた反射率をR pとした場合に、
 性能指数ΔR p/R pが-1.0以上、-0.9以下、または、+0.9以上、+1.0以下を満たす
 請求項16から18のいずれか一項に記載のセンサの製造方法。

[請求項20]
 ある入射角度θで測定された、前記低屈折率層の層厚tが異なる2点(t1、t2)の反射率の変化をΔR p'とし、ある入射角度θで反射率を測定したとき、前記層厚tがt1、t2のもとで得られた反射率の和をR pとした場合に、
 性能指数(ΔR p/R p)'が-1.0以上、-0.9以下、または、+0.9以上、+1.0以下を満たす
 請求項16から18のいずれか一項に記載のセンサの製造方法。

  • Applicant
  • ※All designated countries except for US in the data before July 2012
  • TOKYO UNIVERSITY OF AGRICULTURE AND TECHNOLOGY
  • Inventor
  • SHIMIZU Hiromasa
IPC(International Patent Classification)
Specified countries National States: AE AG AL AM AO AT AU AZ BA BB BG BH BN BR BW BY BZ CA CH CL CN CO CR CU CZ DE DJ DK DM DO DZ EC EE EG ES FI GB GD GE GH GM GT HN HR HU ID IL IN IR IS JO JP KE KG KH KN KP KR KW KZ LA LC LK LR LS LU LY MA MD ME MG MK MN MW MX MY MZ NA NG NI NO NZ OM PA PE PG PH PL PT QA RO RS RU RW SA SC SD SE SG SK SL SM ST SV SY TH TJ TM TN TR TT TZ UA UG US UZ VC VN ZA ZM ZW
ARIPO: BW GH GM KE LR LS MW MZ NA RW SD SL SZ TZ UG ZM ZW
EAPO: AM AZ BY KG KZ RU TJ TM
EPO: AL AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HR HU IE IS IT LT LU LV MC MK MT NL NO PL PT RO RS SE SI SK SM TR
OAPI: BF BJ CF CG CI CM GA GN GQ GW KM ML MR NE SN ST TD TG
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