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METHOD FOR PRODUCING TRANSPARENT ELECTRODE USING DNA

Patent code P06P004390
File No. P2004-225
Posted date Aug 18, 2006
Application number P2005-024545
Publication number P2006-207010A
Patent number P4617460
Date of filing Jan 31, 2005
Date of publication of application Aug 10, 2006
Date of registration Nov 5, 2010
Inventor
  • (In Japanese)居城 邦治
  • (In Japanese)佐藤 壮人
  • (In Japanese)松尾 保孝
Applicant
  • (In Japanese)国立大学法人北海道大学
Title METHOD FOR PRODUCING TRANSPARENT ELECTRODE USING DNA
Abstract PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for easily and efficiently producing an electrode having both optical transparency and electroconductivity, and to provide a transparent electrode produced by the method.
SOLUTION: This production method comprises the steps of: forming a network structure of DNA on a substrate; transcribing the network structure of DNA onto a polymer; and electroless-plating the transcribed DNA. The production method can inexpensively produce the transparent electrode having the network structure of DNA on the surface of the polymer substrate having flexibility and high transparency.
Outline of related art and contending technology (In Japanese)


透明電極は、エレクトロニクス製品、特に液晶パネルなど光透過性が求められる部分において必要不可欠な部品となっている。現在、電子デバイス用透明電極として用いられる素材としては、ITO(インジウムチタンオキサイド)が大部分を占める。ところが、ITOに用いられるインジウムは、近年、資源の枯渇に伴い高騰しており、今後の使用は益々困難になると考えられている。そのため、透明電極の研究・開発の対象は酸化亜鉛系といったインジウムフリーの材料へと移りつつある。



また、透明電極の作製方法についても材料と密接な関係があり、様々な方法が提案、実用化されている。主な方法としては、スパッタ法、パルスレーザー蒸着法などが挙げられる。具体的には、例えば、特許文献1には、スパッタ法を用いた透明電極の作製方法が開示されている。また、特許文献2には、メッキを用いて透明電極を作製する方法が開示されている。しかしながら、近年求められている有機基板への製膜技術が困難であるという問題や、製膜のコスト面からは、化学的な手法を用いた場合よりも圧倒的に高くなるという問題が生じている。



通常、電極の材料としては、金、銀、銅などの貴金属が、導電性、加工性の面から最も一般的に用いられている。しかしながら、これらの貴金属をスパッタ法やメッキなどを用いて基板上に積層させた場合は、光透過性を大きく損ない、透明という大原則が崩れることになる。
【特許文献1】
特開2004-332030号公報(公開日:平成16年11月25日)
【特許文献2】
特開2003-109435号公報(公開日:平成15年4月11日)

Field of industrial application (In Japanese)


本発明は、DNAを用いた透明電極の作製方法および当該方法を用いて作製される透明電極に関するものである。

Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】
 
透明電極の作製方法であって、
基板上にDNAの網目状構造体を作製する工程、
DNAの網目状構造体をポリマーに転写する工程、および
転写されたDNAを無電解メッキする工程を包含することを特徴とする方法。

【請求項2】
 
上記ポリマーが、ポリジメチルシロキサンであることを特徴とする請求項1に記載の方法。

【請求項3】
 
上記基板上にDNAの網目状構造体を作製する工程では、無電解メッキ触媒核を構成する化合物を含むDNA水溶液を基板上に滴下した後、当該無電解メッキ触媒核を構成する化合物を還元することを特徴とする請求項1または2に記載の方法。

【請求項4】
 
上記DNA水溶液に、マグネシウムイオンまたはカルシウムイオンが添加されることを特徴とする請求項3に記載の方法。

【請求項5】
 
上記無電解メッキ触媒核を構成する化合物が白金化合物であることを特徴とする請求項3または4に記載の方法。

【請求項6】
 
上記白金化合物が、シス-ジアミンジクロロ白金(II)、テトラクロロ白金酸(II)カリウムおよびエチレンジアミンジクロロ白金(II)からなる群から選択されることを特徴とする請求項5に記載の方法。

【請求項7】
 
上記DNAを無電解メッキする工程で用いられる無電解メッキ液が、銀-アンモニア錯体とヒドラジン、銀-アンモニア錯体とグルコース、銀-アンモニア錯体とホルマリンおよび塩化銅とホルマリンからなる群から選択される組成を有することを特徴とする請求項1ないし6のいずれか1項に記載の方法。

【請求項8】
 
請求項1ないし7のいずれか1項に記載の方法により作製されることを特徴とする透明電極。
IPC(International Patent Classification)
F-term
Drawing

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14557_01SUM.gif
State of application right Registered
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