Top > Search of Japanese Patents > FUSED POLYTHIOPHENE-S,S-DIOXIDE AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME

FUSED POLYTHIOPHENE-S,S-DIOXIDE AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME commons

Patent code P06P003755
File No. NU-0042
Posted date Sep 29, 2006
Application number P2005-067756
Publication number P2006-248983A
Patent number P4139903
Date of filing Mar 10, 2005
Date of publication of application Sep 21, 2006
Date of registration Jun 20, 2008
Inventor
  • (In Japanese)山口 茂弘
  • (In Japanese)岡本 敏宏
Applicant
  • (In Japanese)国立大学法人名古屋大学
Title FUSED POLYTHIOPHENE-S,S-DIOXIDE AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME commons
Abstract PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a fused polythiophene-S,S-dioxide having not only high electron-accepting ability but also an π-conjugated skeleton in high flatness.
SOLUTION: The fused polythiophene-S,S-dioxide is obtained by oxidizing at least one sulfur included in a fused polythiophene represented by formula (1a) or (1b) (wherein, R is one kind selected from hydrogen, a trialkylsilyl group, a 1-18C alkyl group, a fluoroalkyl group that is a 1-18C alkyl group in which the whole or a part of hydrogens are substituted with fluorines, and the like; and n is an integer) into dioxide.
Outline of related art and contending technology (In Japanese)


有機薄膜トランジスタ(FET)や有機電界発光素子(EL素子)などの有機エレクトロニクスの分野において、多くのp型電荷輸送特性を示す材料が知られている。一方、優れたn型電荷輸送性材料は依然限られているのが現状であり、現在、全世界をあげて新物質の探索が行われている。このような材料の分子設計では、有効な分子間相互作用を考慮した高平面性π共役骨格を持ち、且つ高い電子受容能を持つ材料をいかに作るかが重要となる。電子受容能を向上させる構造修飾としては、π共役骨格にフッ素などの電子吸引基を導入するのが一般的であったが、近年、隣り合うチオフェンに含まれる炭素同士を結合した鎖状のオリゴチオフェンでは、いくつかのチオフェン骨格を部分的にチオフェンジオキシドに変換すると電子受容能が向上することが報告されている(非特許文献1参照)。
【非特許文献1】
Advanced Materials, Vol10, No.7, pp551-554(1998)

Field of industrial application (In Japanese)


本発明は、縮環ポリチオフェン-S,S-ジオキシド及びその製造方法に関する。

Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】
 
下記式で表される縮環ポリチオフェン-S,S-ジオキシド。
【化1】
 


上記式において、Rは水素、トリアルキルシリル基、炭素数1~18のアルキル基、炭素数1~18のアルキル基であって全部又は一部の水素がフッ素に置換されたフルオロアルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルコキシ基、アリールアルキルチオ基、アルケニル基、アルキニル基、アリル基、アミノ基、N-アルキルアミド基、アルカンカルボキサミド基、アゾ基、カルボキシル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、ホルミル基、ニトロ基、シアノ基、ボリル基、ホスフィノ基、シリルオキシ基、アリールスルホニルオキシ基、アルキルスルホニルオキシ基、ハロゲン原子、アリール基、オリゴアリール基、1価の複素環基、または1価のオリゴ複素環基である)

【請求項2】
 
下記式で表される縮環ポリチオフェンを過酸化物と反応させることにより請求項1に記載の縮環ポリチオフェン-S,S-ジオキシドに酸化する、縮環ポリチオフェン-S,S-ジオキシドの製造方法。
【化2】
 


上記式において、Rは水素、トリアルキルシリル基、炭素数1~18のアルキル基、又は炭素数1~18のアルキル基であって全部又は一部の水素がフッ素に置換されたフルオロアルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルコキシ基、アリールアルキルチオ基、アルケニル基、アルキニル基、アリル基、アミノ基、N-アルキルアミド基、アルカンカルボキサミド基、アゾ基、カルボキシル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、ホルミル基、ニトロ基、シアノ基、ボリル基、ホスフィノ基、シリルオキシ基、アリールスルホニルオキシ基、アルキルスルホニルオキシ基、またはハロゲン原子、アリール基、オリゴアリール基、1価の複素環基、または1価のオリゴ複素環基である)
IPC(International Patent Classification)
F-term
State of application right Registered
(In Japanese)名古屋大学の公開特許情報を掲載しています。ご関心のある案件がございましたら、下記まで電子メールでご連絡ください。


PAGE TOP

close
close
close
close
close
close
close