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METHOD FOR FORMING MOLECULAR MACROCLUSTER AND METHOD FOR PRODUCING POLYMER THIN FILM

Patent code P06P003731
File No. N051P20
Posted date Nov 24, 2006
Application number P2005-136533
Publication number P2006-312148A
Patent number P4863645
Date of filing May 9, 2005
Date of publication of application Nov 16, 2006
Date of registration Nov 18, 2011
Inventor
  • (In Japanese)栗原 和枝
  • (In Japanese)遠藤 聡
Applicant
  • (In Japanese)国立研究開発法人科学技術振興機構
Title METHOD FOR FORMING MOLECULAR MACROCLUSTER AND METHOD FOR PRODUCING POLYMER THIN FILM
Abstract PROBLEM TO BE SOLVED: To provide and develop a method which enables a simple and easy growth of a molecular macrocluster on various substrates not limited to solid substrates having a silanol group or a hydroxyl group, making use of characteristics of growing method of a molecular macrocluster.
SOLUTION: The method for growing the molecular macrocluster on a solid substrate comprises at least the following steps: <A> a step for having a compound comprising a function group of hydrogen-bonding nature adsorbed by a solid substrate not comprising a functional group of hydrogen-bonding nature on its surface and forming a molecular film of which the surface is covered by the functional group of hydrogen-bonding nature; and <B> a step for bringing a solution dissolving a compound of hydrogen-bonding nature in a solvent of not hydrogen-bonding nature into contact with the above molecular film and growing the molecular macrocluster where the compound of hydrogen-bonding nature is organized by a hydrogen bond.
Outline of related art and contending technology (In Japanese)


従来、薄膜を調製する技術としてスピンキャスト法やLangmuir-Blodgett法などが代表的な方法として知られているが、前者の方法では数十nmのごく薄い薄膜を作るのは難しく、後者では複雑な道具を必要とし、また数十nmの厚みの膜を調製するためには、長時間を必要としている。



一方、本願の発明者らは水素結合で組織化した分子マクロクラスター形成を利用する方法を開発し、これによって従来の問題点を解決し、非極性溶媒から水素結合性の分子を固体基板上に吸着させ数十nmの厚みの薄膜を固体基板上に簡便に調製可能としている。たとえば、発明者らは、シクロヘキサン中でのガラス表面における水素結合性アルコールクラスターの形成(非特許文献1)や、アクリル酸の界面クラスターの形成とその場重合における薄膜の調製(特許文献1)をすでに報告している。



しかしながら、これまでの発明者らの開発とその検討においては、固体基板としては従来は基板としてシラノール基を有するシリカ表面に限られていた。
【非特許文献1】
コロイドおよび界面化学討論会講演要旨集、Vol.55, p.355 (2002年)
【特許文献1】
特開2000-143705号公報

Field of industrial application (In Japanese)


本願発明は、シラノール基や水酸基を有する固体基板に限られることなく、各種固体基板上に水素結合による組織化がなされた分子マクロクラスターを形成する方法とこれを利用した高分子薄膜の製造方法に関するものである。

Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】
 
固体基板上への分子マクロクラスターの形成方法であって、少なくとも次の手順を含むことを特徴とする分子マクロクラスターの形成方法。
<A>金もしくは金薄膜表面を有する固体基板に次式
HS-R-X
(式中のRは炭化水素鎖を示し、Xは、-OH、-COOH、-CONH2、-CONHR0、-NH2、もしくは-NHR0を示し、R0は炭化水素基を示す。)
で表わされる水素結合性の官能基を持つ化合物を吸着させて表面が水素結合性の官能基で覆われた分子膜を形成し、
<B>非水素結合性の溶媒とアルコール、カルボン酸、カルボン酸アミド、およびアミンから選ばれるいずれかの水素結合性の化合物との溶液を前記分子膜と接触させ、水素結合性の化合物が水素結合で組織化された分子マクロクラスターを形成させる。

【請求項2】
 
手順<B>での水素結合性の化合物は重合性のモノマーであることを特徴とする請求項1に記載の分子マクロクラスターの形成方法。

【請求項3】
 
請求項2の方法により形成した分子マクロクラスターにおける重合性モノマーを重合反応させて高分子薄膜を生成させることを特徴とする高分子薄膜の製造方法。

【請求項4】
 
重合性のモノマーは光重合性のモノマーであり、分子マクロクラスターに光照射して光重合性モノマーを重合反応させて高分子薄膜を生成させることを特徴とする請求項3に記載の高分子薄膜の製造方法。
IPC(International Patent Classification)
F-term
Drawing

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15108_01SUM.gif
State of application right Registered
Reference ( R and D project ) CREST Creation of Novel Nano-material/System Synthesized by Self-organization for Medical Use AREA
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