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DRY SURFACE TREATMENT METHOD FOR MAKING SURFACE OF POROUS MATERIAL HYDROPHILIC

Patent code P07A010195
File No. 5
Posted date Aug 8, 2007
Application number P2001-252559
Publication number P2003-064207A
Patent number P3551319
Date of filing Aug 23, 2001
Date of publication of application Mar 5, 2003
Date of registration May 14, 2004
Inventor
  • (In Japanese)上原 徹
Applicant
  • (In Japanese)島根大学長
Title DRY SURFACE TREATMENT METHOD FOR MAKING SURFACE OF POROUS MATERIAL HYDROPHILIC
Abstract PROBLEM TO BE SOLVED: To make the surface of a porous material hydrophilic through a dry surface treatment method that uses plasma under the atmospheric pressure and thereby to achieve a cost reduction resulting from eliminating a drying step and a waste liquid treatment step.
SOLUTION: This method consists in forming a polymer from a hydrophilic vinyl monomer, such as ethylene oxide and methacrylic acid, on the surface of the porous material such as a hydrophobic polyethylene film by means of plasma polymerization under the atmospheric pressure. The coating layer of the polymer is formed on the surface of the porous material, making the surface of the porous material hydrophilic.
Outline of related art and contending technology (In Japanese)


従来,疎水性材料の例としてのポリエチレンでは,その表面の親水性化は,混酸を塗布することによって行われたり,又は材料表面を火炎処理によって行われている。また,シート状材料は,コロナ放電処理によって材料表面が親水性化されている。



従来,プラズマCVD膜の形成方法は,例えば,特開平5-287007号公報に開示されている。該公報に開示されたものは,大気圧近傍の圧力下でグロー放電を発生させる第1領域とモノマーガスを導入し,基体上にプラズマCVD膜を形成させる第2領域とを別個に画成し,第1領域で不活性ガス雰囲気下でグロー放電を発生させ,グロー放電により活性化したガスをモノマーガス雰囲気下の第2領域に導入して該第2領域においてプラズマCVD膜を形成させるものであり,大気圧グロー放電を用いて放電電極の電極間距離に制約されることなく,所望の大きさの立体的な基体上にプラズマCVD膜を形成させるものである。



また,特開平6-41214号公報に開示されたプラズマ開始重合法は,モノマーを含む蒸気にイオン化ガスプラズマを発生させることにより,該モノマーの重合を開始させ,プラズマの非存在下で重合の大部分を完結させるものであり,イオン化ガスプラズマの発生を0.2~3気圧の圧力で行うものである。

Field of industrial application (In Japanese)


この発明は,シート状材料等の多孔質材料表面をプラズマを用いて親水性化する多孔質材料表面の乾式表面処理方法に関する。

Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】
 酸化エチレン,メタクリル酸等の親水性ビニルモノマーを大気圧プラズマ重合法によって多孔質材料表面上でそのポリマーを生成させ,前記多孔質材料表面上に前記ポリマーの被覆層を生成して前記多孔質材料表面を親水性化にすることから成る多孔質材料表面を親水性化する乾式表面処理方法であって, 前記大気圧プラズマ重合に商用交流電源周波数を使用することから成る多孔質材料表面を親水性化する乾式表面処理方法。
【請求項2】
 二酸化炭素,窒素ガス等の不活性ガスを用いることにより,ペニング効果を利用することから成る請求項1に記載の多孔質材料表面を親水性化する乾式表面処理方法。
【請求項3】
 前記多孔質材料は,疎水性のポリエチレンフィルムであることから成る請求項1又は請求項2に記載の多孔質材料表面を親水性化する乾式表面処理方法。
IPC(International Patent Classification)
F-term
Drawing

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JP2001252559thum.jpg
State of application right Registered
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