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METHOD OF FORMING THIN MAGNETIC FILM

Patent code P07A010604
File No. NI0500042
Posted date Oct 4, 2007
Application number P2005-289874
Publication number P2007-103568A
Patent number P4734635
Date of filing Oct 3, 2005
Date of publication of application Apr 19, 2007
Date of registration May 13, 2011
Inventor
  • (In Japanese)森迫 昭光
  • (In Japanese)劉 小晰
Applicant
  • (In Japanese)国立大学法人信州大学
Title METHOD OF FORMING THIN MAGNETIC FILM
Abstract PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of forming a thin magnetic film capable of simply manufacturing a thin magnetic film capable of recording information with high density.
SOLUTION: The method of forming the thin magnetic film including magnetic microparticles made of FexPt1-x formed in a dot array in a nonmagnetic matrix includes a step of sputtering through the use of a target made of Fe and a nonmagnetic material, to form a thin film 20 having Fe formed in a dot array 22 in the matrix 24 made of the nonmagnetic material on a substrate 10; and a step of sputtering Pt 30 on the thin film 20 to selectively diffuse Pt to Fe formed in the dot array 24 for forming the thin magnetic film having a dot array 24a made of FexPt1-x formed in the matrix 24 made of the nonmagnetic material.
Outline of related art and contending technology (In Japanese)


情報を高速かつ高い信頼性で記録し活用するものとして、磁気記録再生技術を使用した磁気ディスク装置が広く利用されている。磁気ディスク装置に使用されているハードディスクの記録密度は、現在は約133G(ビット/平方インチ)であり、2010年には500(ビット/平方インチ)になると予想されている。
このような背景のもとで現在注目されている磁気記録媒体が、パターンドメディアと呼ばれる自己配列型の磁性体ドットアレイであるIBM社は、FeとPtとを含む2種類のポリマーを反応させ、FexPt1-x からなる合金粒子の周りをポリマーが覆ったコロイドを生成し、これを基板に塗布して熱処理することによりFexPt1-x の磁性粒子が一定間隔で並んだドットアレイを形成した(非特許文献1参照)。
【非特許文献1】
Science,2000.3.17.Vol.287,pp1989

Field of industrial application (In Japanese)


本発明は磁性薄膜の形成方法に関し、より詳細には、FePtM(MはCuまたはAg)規則合金薄膜として磁性薄膜を形成する磁性薄膜の形成方法に関する。

Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】
 
FexPt1-xからなる磁性微小粒子が非磁性マトリックス中にドットアレイ状に形成された磁性薄膜の形成方法であって、
Feと非磁性材からなるターゲットを用いたスパッタリングを施して、下地上に、前記非磁性材からなるマトリックス中にFeのドットアレイが形成された薄膜を成膜する工程と、
前記薄膜を加熱した状態で前記薄膜にPtをスパッタリングし、前記ドットアレイに形成された各々のFeドットにPtを拡散させ、前記非磁性材からなるマトリックス中に、FexPt1-xからなるドットアレイが形成された磁性薄膜を形成する工程と
を有することを特徴とする磁性薄膜の形成方法。

【請求項2】
 
前記ターゲットとして、FeとCuからなるターゲットを使用し、Cuのマトリックス中にFeのドットアレイが形成された薄膜を形成し、
次いで、前記薄膜を加熱した状態で前記薄膜にPtをスパッタリングして、Cuのマトリックス中に、FexPt1-xからなるドットアレイが形成された磁性薄膜を形成することを特徴とする請求項1記載の磁性薄膜の形成方法。

【請求項3】
 
前記ターゲットとして、FeとAgからなるターゲットを使用し、Agのマトリックス中にFeのドットアレイが形成された薄膜を形成し、
次いで、前記薄膜を加熱した状態で前記薄膜にPtをスパッタリングして、Agのマトリックス中に、FexPt1-xからなるドットアレイが形成された磁性薄膜を形成することを特徴とする請求項1記載の磁性薄膜の形成方法。
IPC(International Patent Classification)
F-term
Drawing

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JP2005289874thum.jpg
State of application right Registered
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