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VACUUM SUCTION DEVICE

Patent code P07A011743
File No. 2046
Posted date Nov 16, 2007
Application number P2003-115859
Publication number P2004-322218A
Patent number P3769618
Date of filing Apr 21, 2003
Date of publication of application Nov 18, 2004
Date of registration Feb 17, 2006
Inventor
  • (In Japanese)宇根 篤暢
Applicant
  • (In Japanese)防衛装備庁長官
Title VACUUM SUCTION DEVICE
Abstract PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a vacuum suction unit having a vacuum suction part composed of a large number of microscopic extremely low projections, hardly causing breaking of the projections for correcting a sample into high flatness without being influenced by dust by surely sucking the sample even with support only by the projections.
SOLUTION: This vacuum suction device has the vacuum suction unit 14 internally provided with an evacuation hole 3 connected to a vacuum pump for supporting the sample 10 only by a large number of projections 2 having an upper surface existing on the same plane. A vacuum suction part 1 communicating with the evacuation hole 3 is made of a porous material. A large number of projections 2 composed of the porous material having a small pore diameter denser than the vacuum suction part 1, are fixedly arranged on an upper surface. Microscopic clearance 12 is formed between the vacuum suction part 1 and the sample 10 by setting the height of these projections 2 to the extremely low height of about several micrometers.
Outline of related art and contending technology (In Japanese)


従来、加工に用いられている一般的な真空吸着装置は、図3(a),(b)に示すようなポーラス型真空吸着器14を備えている。装置は、数10~40%の気孔率を有する多孔質セラミックスからなる真空吸着部1と、その外側に配設された平面状のランド部11をもつ緻密なセラミックスからなる基部5と、真空排気を行う真空排気孔3と、真空吸着部1の下面に設けられ、中心から放射状に延びた真空排気溝4、および外周側に環状に配置された真空排気溝4’から構成される。前記真空排気溝4、4’は真空排気孔3に接続され、さらにその先は真空ポンプ(図示せず)に連結される。真空吸着部1とランド部11は、同一平面上に高精度に仕上げ加工されている。



この真空吸着装置の上面に、シリコンウエハなどの試料10を載置した後、真空ポンプを作動させると、真空排気溝4、4’を通って、真空排気孔3から矢印で示すように空気が排出され、真空吸着部1と試料10の間は真空となり、大気圧によって試料10は真空吸着部1上に押さえつけられる。したがって、試料10は真空吸着部1の高精度な平面に倣い、試料の反りや曲がりが矯正される。



一方、LSI製造において用いられる、下記特許文献1又は2に記載の真空吸着装置は、図4(a),(b)又は図5(a),(b)に示すような真空吸着器14を備えている。



この従来の真空吸着器14の上面には、多数の微小な突起2を一体に有する前述した多孔質セラミックスからなる真空吸着部1と、環状の突部によって形成され真空吸着部1を取り囲むランド部11が設けられている。また、上記真空吸着部1の下面には中心から放射状に延びる真空排気溝4と、外周側に環状に配置された真空排気溝4’が設けられ、中心部で真空排気孔3に接続される。



このような真空吸着器14において、真空吸着器14の上面にシリコンウエハ等の試料10を載置した後、真空ポンプ(図示せず)を作動させて試料10の下部の空気を真空排気孔3から排気すると、真空吸着部1が負圧となり、突起2の間の微小隙間12は真空となるので、試料10は突起2およびランド部11上に吸着される。ランド部11の上面は突起2の上面と同一平面を形成し、試料10の裏面外周縁部が密接されることで、真空吸着部1を真空封止する。試料10は、真空吸着されることで突起2およびランド部11の上面に倣い、反りや曲がりが矯正される。



【特許文献1】
特開平10-128633号公報



【特許文献2】
特公昭62-45696号公報

Field of industrial application (In Japanese)


本発明は、LSI製造装置における、パターン転写装置、描画装置、各種プロセス製造装置、検査測長装置、および研削、研磨、切断などの加工装置の試料保持装置と試料搬送装置に用いられる真空吸着装置に関し、特にその真空吸着器に関するものである。

Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】
 上面が同一平面上にある多数の突起のみによって試料を支承し、内部に真空ポンプに接続される真空排気孔を設けた真空吸着器を備えた真空吸着装置において、
真空排気孔に連通する真空吸着部を、突起径の1/2以下の最大気孔径を有する多孔質セラミックス材料で作り、その上面に多数の突起を設けるとともに、この突起の高さを数μm程度の極めて低い高さに設定することにより前記真空吸着部と前記試料との間に微小隙間を形成したことを特徴とする真空吸着装置。
【請求項2】
 上面が同一平面上にある多数の突起のみによって試料を支承し、内部に真空ポンプに接続される真空排気孔を設けた真空吸着器を備えた真空吸着装置において、
真空排気孔に連通する真空吸着部を多孔質材料で作り、その上面に、真空吸着部より緻密な気孔径の小さい材料からなる多数の突起を固着して設けるとともに、この突起の高さを数μm程度の極めて低い高さに設定することにより前記真空吸着部と前記試料との間に微小隙間を形成したことを特徴とする真空吸着装置。
【請求項3】
 前記真空吸着部は、多孔質セラミックス材料からなり、前記突起は、ガラス、金属、無機又は有機材料などの緻密な材料、及び突起径の1/2以下の最大気孔径を有する多孔質セラミックス材料から選ばれた材料からなることを特徴とする請求項2に記載の真空吸着装置。
【請求項4】
 上面が同一平面上にある多数の突起のみによって試料を支承し、内部に真空ポンプに接続される真空排気孔を設けた真空吸着器を備えた真空吸着装置において、
真空排気孔に連通する真空吸着部を多孔質材料で作り、その上面に、真空吸着部より気孔径の小さい多孔質材料からなり、薄板状の基体の上面に多数の突起が一体に形成された突起板を層状に設け、この突起の高さを数μm程度の極めて低い高さに設定することにより前記真空吸着部と前記試料との間に微小隙間を形成したことを特徴とする真空吸着装置。
【請求項5】
 前記真空吸着部は、多孔質セラミックス材料からなり、前記突起板は、突起径の1/2以下の最大気孔径を有する多孔質セラミックス材料からなることを特徴とする請求項4に記載の真空吸着装置。
【請求項6】
 前期真空吸着部の中心付近に、真空吸着部に吸着する試料を持ち上げる機構を通す穴、もしくは周辺部に切り欠きを設けたことを特徴とする請求項1~5のいずれか1項に記載の真空吸着装置。
IPC(International Patent Classification)
F-term
Drawing

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JP2003115859thum.jpg
State of application right Registered
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