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X-RAY SHIELD DEVICE AND X-RAY SHIELDING METHOD meetings

Patent code P07A011908
File No. 150
Posted date Nov 30, 2007
Application number P2002-334061
Publication number P2004-170144A
Patent number P3697518
Date of filing Nov 18, 2002
Date of publication of application Jun 17, 2004
Date of registration Jul 15, 2005
Inventor
  • (In Japanese)平野 馨一
Applicant
  • (In Japanese)大学共同利用機関法人 高エネルギー加速器研究機構
Title X-RAY SHIELD DEVICE AND X-RAY SHIELDING METHOD meetings
Abstract PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an X-ray shield device driven to open or close at a high speed and an X-ray shielding method.
SOLUTION: A second crystal member 2 having lattice intervals equal to the lattice intervals of a first crystal member 1 and having a lattice plane substantially parallel to the thickness direction with respect to the crystal member 1 having a lattice plane substantially parallel to the thickness direction is oppositely disposed so that the lattice plane of the crystal member 1 is substantially parallel to the lattice plane of the crystal member 2. Then, X-rays 10 are imported into the crystal member 1, and transmitted X-rays and diffracted X-rays launched after being transmitted or diffracted by the crystal member 1 are superimposed on each other to form a standing wave 30. Then, the standing wave 30 is imported into the crystal member 2 while the first and second crystal members 2 and 3 are caused to make relative motion with at least a magnitude not less than the lattice intervals of the crystal members 1 and 2.
Outline of related art and contending technology (In Japanese)


近年、プラズマX線源などを用いることにより、数フェムト秒程度のパルス幅を有するX線パルスが得られるようになり、さらにX線自由レーザ計画などの進展により、高速で開閉駆動するX線シャッターなどのX線遮蔽装置の必要性が急速に高まっている。



従来のX線シャッターは、X線の光路上に遮蔽物を挿出入させることよってシャッター機能を実現するものがほとんどであった。このため、前記X線シャッターの開閉駆動速度は前記遮蔽物の挿出入速度で決定されてしまい、高速駆動を実現させることはできなかった。

Field of industrial application (In Japanese)


本発明は、X線遮蔽装置及びX線遮蔽方法に関する。

Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】
 厚さ方向と略平行な格子面を有する第1の結晶部材及び第2の結晶部材を具え、
前記第1の結晶部材及び前記第2の結晶部材の格子間隔が相等しいとともに、
前記第1の結晶部材及び前記第2の結晶部材は、それぞれ格子面が互いに略平行となるように対向して配置されていることを特徴とする、X線遮蔽装置。
【請求項2】
 前記第1の結晶部材及び前記第2の結晶部材は、シリコン、ダイヤモンド、ゲルマニウム及びベリリウムの少なくとも一つからなることを特徴とする、請求項1に記載のX線遮蔽装置。
【請求項3】
 前記第1の結晶部材を透過又は回折して出射されたX線の、重畳しない成分を遮蔽するための遮蔽板を具えることを特徴とする、請求項1又は2に記載のX線遮蔽装置。
【請求項4】
 厚さ方向と略平行な格子面を有する第1の結晶部材を準備する工程と、
厚さ方向と略平行な格子面を有し、前記第1の結晶部材の格子間隔と相等しい格子間隔を有する第2の結晶部材を、前記第1の結晶部材の前記格子面と前記第2の結晶部材の前記格子面とが略平行となるように対向して配置する工程と、
前記第1の結晶部材にX線を導入し、前記第1の結晶部材を透過又は回折して出射された透過X線及び回折X線を重畳させて定在波を形成する工程と、
前記第2の結晶部材に前記定在波を導入するとともに、前記第1の結晶部材と前記第2の結晶部材とを、少なくとも前記第1の結晶部材及び前記第2の結晶部材の前記格子間隔以上の大きさで相対運動させる工程と、
を具えることを特徴とする、X線遮蔽方法。
【請求項5】
 前記第1の結晶部材及び前記第2の結晶部材は、シリコン、ダイヤモンド、ゲルマニウム及びベリリウムの少なくとも一つからなることを特徴とする、請求項4に記載のX線遮蔽方法。
【請求項6】
 前記透過X線及び前記回折X線の、重畳しない成分を遮蔽する工程を具えることを特徴とする、請求項4又は5に記載のX線遮蔽方法。
【請求項7】
 前記第1の結晶部材及び前記第2の結晶部材を、ミリ秒以下のオーダで相対運動させることを特徴とする、請求項4~6のいずれか一に記載のX線遮蔽方法。
IPC(International Patent Classification)
F-term
Drawing

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JP2002334061thum.jpg
State of application right Registered
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