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EXTREMELY THIN ILLUMINATION LIGHT PRODUCING DEVICE FOR MICROSCOPE AND OBSERVATION METHOD USING THE SAME commons

Patent code P07A013107
File No. 431
Posted date Feb 22, 2008
Application number P2003-186769
Publication number P2005-024597A
Patent number P4465460
Date of filing Jun 30, 2003
Date of publication of application Jan 27, 2005
Date of registration Mar 5, 2010
Inventor
  • (In Japanese)寺川 進
Applicant
  • (In Japanese)国立大学法人浜松医科大学
Title EXTREMELY THIN ILLUMINATION LIGHT PRODUCING DEVICE FOR MICROSCOPE AND OBSERVATION METHOD USING THE SAME commons
Abstract PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an extremely thin illumination light producing device for microscope and an observation method with which stereoscopic information of cells and the like can be acquired by using the device.
SOLUTION: The extremely thin illumination light producing device for microscope is equipped with a light source, a slit light forming means 9 which converts light from a light source into slit light, a transparent board 5 on which a sample 11 is placed, and incidence means which make the slit light be incident on the boundary face of the board and the sample-side medium at an angle which is a little smaller than the total reflection angle and which make the slit light be incident on an objective lens so that a refracted light which is thinner than the slit light is generated while maintaining a small angle with the boundary face and the refracted light becomes an extremely thin illumination light 8. The optical path of slit light changing means changes the optical path of the slit light so that the extremely thin illumination light 8 becomes different height with respect to the boundary face. Stereoscopic information of cells and the like can be acquire by using the observation method in which this device is utilized.
Outline of related art and contending technology (In Japanese)


細胞や組織の切断・断層像を得る従来の方法は微分干渉法や共焦点走査顕微鏡法である。これらは約1マイクロメートルの厚みの断層像を形成する。
これらの光学的切断法は、ピンホールまたはプリズムによる焦点面画像の選択的取得に基づいており、焦点面前後の面から到来する光がこれらの光学素子によって排除されることで、断層像ができる。
ピンホールの大きさで切断の厚みが決まるが、ピンホールを小さくしすぎると暗い像となる。プリズムの場合は、もっぱら対物レンズの開口数の作用によって切断能が決まる。光自体は薄いものとはなっておらず、標本上での照明領域は大きい。

Field of industrial application (In Japanese)


本発明は、試料を光学的に断面する顕微鏡用極薄照明光発生装置および前記装置を用いた観察方法に関する。

Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】
 
一点に集光する光を発生する光源と、
光源からの光をスリット光に変換するスリット光形成手段と、
試料が載せられる透明板と、
前記光源の集光する点は顕微鏡の対物レンズの瞳面内の一点に形成し、前記スリット光形成手段からのスリット光を前記透明板と試料側の媒質の界面に全反射角より小さい角度で入射させ、その屈折光を、その厚みが前記スリット光の厚みより薄く、かつ前記界面に対し極薄照明光が発生する角度で試料側の媒質に射出させる顕微鏡の対物レンズと、
前記極薄照明光が前記界面に対して一定の角度を保ちながらレンズ中心光軸上にて異なる高さになるように前記スリット光形成手段のスリットを移動させ前記スリット光の光路を変更するスリット光光路変更手段と、
から構成した顕微鏡用極薄照明光発生装置。

【請求項2】
 
前記光源はレーザ光源であり、前記透明板はカバーガラスであり、前記対物レンズの、前記スリット光形成手段からのスリット光を入射させる位置は、対物レンズの周縁部であることを特徴とする請求項1記載の顕微鏡用極薄照明光発生装置。

【請求項3】
 
前記スリット光形成手段は、光源からの光を最小のスリット光に変換する第1スリット板と、前記スリット板で形成された側帯回折光を除去する第2スリット板から構成されている請求項1記載の顕微鏡用極薄照明光発生装置。

【請求項4】
 
請求項1記載の顕微鏡用極薄照明光発生装置を用いる顕微鏡観察方法であって、
顕微鏡の前記透明板に標本を配置するステップと、
前記スリット光の光路を前記スリット光光路変更手段により移動させることにより前記極薄照明光を界面に対し一定の角度を保ちながらレンズ中心光軸上にて標本内の異なる高さ位置に形成し、この極薄照明光の通過した1以上の切断面から前記極薄照明光に励起されて発生した信号光の情報を取得するステップと、
前記切断面の情報に基づいて切断面の情報または複数の切断面の情報よりなる立体情報を再生するステップから構成した顕微鏡観察方法。
IPC(International Patent Classification)
F-term
Drawing

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JP2003186769thum.jpg
State of application right Registered
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