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METHOD FOR PRODUCING LIGNOPHENOL commons

Patent code P08P006132
File No. B74P07
Posted date Sep 19, 2008
Application number P2007-052107
Publication number P2008-214231A
Patent number P5071772
Date of filing Mar 1, 2007
Date of publication of application Sep 18, 2008
Date of registration Aug 31, 2012
Inventor
  • (In Japanese)舩岡 正光
  • (In Japanese)青▲柳▼ 充
Applicant
  • (In Japanese)国立研究開発法人科学技術振興機構
Title METHOD FOR PRODUCING LIGNOPHENOL commons
Abstract PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing a lignophenol, which can be used for fractionating the lignophenol and its derivative by their molecular weights corresponding to their uses.
SOLUTION: The method for producing the lignophenol comprises a step of dissolving the lignophenol 1 as a starting material in a good solvent, to prepare a good solvent solution of the lignophenol, and a step of producing a precipitated lignophenol material 2 by mixing the good solvent solution of the lignophenol with a poor solvent, and controlling the molecular weight of the precipitated lignophenol material 2 by changing the poor solvent. Further, it is possible to recover residual lignophenol by adding a complex-like composite material consisting of the lignophenol and a metal compound to the poor solvent after recovering the lignophenol precipitated material.
Outline of related art and contending technology (In Japanese)


近年、植物を利用する際に、従来廃棄されていたリグニンから誘導されたリグノフェノールの有効利用に関する研究開発が行われている。植物としては、木材や草,廃木材,建築廃材等が挙げられる。特許文献1には、植物由来のリグノセルロースを相分離して、リグノフェノールを抽出する方法が開示されている。リグノフェノールは有機溶媒に溶け、各種材料に塗布した後、乾燥して成形体とすることができる。成形体が不要となった場合には、有機溶媒に溶かして回収することで再利用が可能となる。



近年、リグノフェノールに関して用途研究が行われ、成形体以外の応用として、塗料、電子や電気用材料、医薬などへの幅広い用途が期待されている。リグノフェノールは、300~100000の範囲を有する高分子であり、一般に幅広い分子量分布を有する。幅広い分子量分布を有する状態が望ましい用途に関してはそのまま用いればよいが,分子量分布が狭いものやより高分子量のもの、より低分子量のリグノフェノールが望ましいと考えられる用途がある。



分子量の異なるリグノフェノールを得る、つまり、分画する実験室的な手法としては、ゲルパーミッションクロマトグラフィー(GPC)、サイズ排除クロマトグラフィー(SEC)、吸着媒を充填したカラムを用いる方法などがある。



【特許文献1】
特開平02-233701号公報

Field of industrial application (In Japanese)


本発明は、天然物由来のフェノール性リグニン系高分子(以下、リグノフェノールと呼ぶ)の分子量を制御することができるリグノフェノールの製造方法に関する。さらに詳しくは、原料となるリグノフェノールを用途に合わせた分子量に分割することができるリグノフェノールの製造方法に関する。

Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】
 
リグノフェノールを親溶媒に溶解し、リグノフェノールの親溶媒溶液とする工程と、
上記親溶媒溶液をR1-O-R2型の非対称エーテル類(ここで、R1、R2は、アルキル、イソアルキル、tert-アルキル、フェニル、アリルの何れかの基であって、お互いに異なっており、かつ、R1及びR2で示される置換基の炭素数の合計は4以上である。)で表される貧溶媒に加え生じた沈殿を回収する工程と、を備えることを特徴とする、リグノフェノールの製造方法。

【請求項2】
 
前記貧溶媒が、tert-ブチルメチルエーテル又はシクロペンチルメチルエーテルから選ばれる溶媒である、請求項1に記載のリグノフェノールの製造方法。

【請求項3】
 
前記貧溶媒が、tert-ブチルメチルエーテル又はシクロペンチルメチルエーテルから選ばれる溶媒を含む混合溶媒である、請求項1に記載のリグノフェノールの製造方法。

【請求項4】
 
リグノフェノールを親溶媒に溶解し、リグノフェノールの親溶媒溶液とする工程と、
リグノフェノールの親溶媒溶液に酸化チタンナノ粒子を添加して、リグノフェノールと酸化チタンナノ粒子とからなる錯体様複合体を生成する工程と、
上記錯体様複合体をR1-O-R2型の非対称エーテル類(ここで、R1及びR2は、アルキル、イソアルキル、tert-アルキル、フェニル、アリルの何れかの基であって、お互いに異なっており、かつ、R1及びR2で示される置換基の炭素数の合計は4以上である。)で表される貧溶媒に加え、生じた沈殿を回収する工程と、を備えることを特徴とする、リグノフェノールの製造方法。

【請求項5】
 
前記貧溶媒が、tert-ブチルメチルエーテル又はシクロペンチルメチルエーテルから選ばれる溶媒である、請求項4に記載のリグノフェノールの製造方法。

【請求項6】
 
前記貧溶媒が、tert-ブチルメチルエーテル又はシクロペンチルメチルエーテルから選ばれる溶媒を含む混合溶媒である、請求項4に記載のリグノフェノールの製造方法。
IPC(International Patent Classification)
F-term
Drawing

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JP2007052107thum.jpg
State of application right Registered
Reference ( R and D project ) SORST Selected in Fiscal 2004
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