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PHOTOACID GENERATING MATERIAL, AND PHOTOLITHOGRAPHIC MATERIAL, PHOTO-PATTERNING METHOD OR PHOTOLITHOGRAPHY USING THE SAME commons meetings

Patent code P08A014012
File No. P06-032
Posted date Oct 31, 2008
Application number P2006-093877
Publication number P2007-269853A
Patent number P4631059
Date of filing Mar 30, 2006
Date of publication of application Oct 18, 2007
Date of registration Nov 26, 2010
Inventor
  • (In Japanese)高原 茂
  • (In Japanese)鈴木 昭太
Applicant
  • (In Japanese)国立大学法人 千葉大学
Title PHOTOACID GENERATING MATERIAL, AND PHOTOLITHOGRAPHIC MATERIAL, PHOTO-PATTERNING METHOD OR PHOTOLITHOGRAPHY USING THE SAME commons meetings
Abstract PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a highly sensitive photoacid generation system usable in a laser direct imaging technology, etc., and free from oxygen inhibition effect and having high freedom as a photoinitiating system.
SOLUTION: The invention provides a highly sensitive sensitized photoacid generation material causing photoelectron transfer by a sensitizing agent and an oxime-based photoacid generator and starting the reaction from radical anion of the oxime-based photoacid generator, a highly sensitive sensitized photoacid generation material containing a pyrromethene as a sensitizing agent and an oxime-based photoacid generator, an oxime-based photoacid generator generating radical anion from the oxime-based photoacid generator molecule by photoelectron transfer reaction, etc., to localize the radical spin density near an N-O bond and generate a bond cleavage in high efficiency, a photolithographic material containing the highly sensitive photoacid generation material, and photopatterning method and photolithographic method using the same.
Outline of related art and contending technology (In Japanese)


例えば、画像形成技術である光リソグラフィー材料とその加工プロセスは、半導体加工、配線用レジスト、印刷製版などにおいて広く実用化に供されている。これらのフォトリソグラフィーのプロセスでは、感光性樹脂材料を用いて目的に応じた膜をシリコン基板や陽極酸化したアルミニウム板などの上に形成する。これにマスクなどを用いることや、レーザー光の走査によりパターンを光照射し、感光性樹脂膜の光照射された領域で光重合または光架橋反応、脱保護反応などを起こすことによって膜材料の溶解度の差を生じさせ、現像によってパターン形成を行っているのが一般的である。これらのプロセスでは、光ラジカル発生剤や光酸発生剤、光塩基発生剤を膜中に用い、光照射した部位においてラジカルや酸、塩基など化学的活性種を生成させる。さらに引き続き、モノマーの重合反応または架橋剤の分子間の架橋、保護基の脱離など共有結合の形成や開裂により、感光性樹脂材料の現像液に対する溶解度差を得るものである。



一方、半導体加工、配線用レジスト、印刷製版のパターンの微細化や高速化、多様なパターニングの必要性に伴い、露光は、可視光源、紫外光ランプ以外にも、例えば、アルゴンイオンレーザーや半導体レーザーを走査させ、エキシマーレーザーにより感光させるようになっている。



そこで、特に印刷製版などの感光性を高めるために、増感色素、例えば、クマリン系増感色素とオキシエーテル系光ラジカル発生剤を用いた高感度2分子光ラジカル発生材料とそれを用いた光重合性組成物が用いられている。(特許文献1)



【特許文献1】
特許第3672126号公報

Field of industrial application (In Japanese)


本発明は、一般的な光硬化材料や光記録材料、印刷版及びプリント基板製造の応用分野、例えば、レーザーダイレクトイメージングによるパターン形成、または光リソグラフィーの応用分野、例えば、半導体加工、配線用レジスト、印刷用感光材料に最適なフォトリソグラフィー材料および光パターン形成への応用などに広く用いられる光を吸収することによって酸を発生する材料に関するものである。

Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】
 
ピロメテン系色素からなる増感剤とオキシム系光酸発生剤を含み、
光励起された前記ピロメテン系色素からなる増感剤から前記オキシム系光酸発生剤への電子移動によって前記オキシム系光酸発生剤のラジカルアニオンを発生させ、反応が開始されるフォトリソグラフィー材料。

【請求項2】
 
前記オキシム系光酸発生剤は、下記式で示される請求項1記載のフォトリソグラフィー材料。



【請求項3】
 
前記増感剤は、下記式で示される請求項1又は2記載のフォトリソグラフィー材料。



【請求項4】
 
請求項1に記載のフォトリソグラフィー材料を用いる光パターニング方法

【請求項5】
 
請求項1に記載のフォトリソグラフィー材料を用いる光リソグラフィー。
IPC(International Patent Classification)
F-term
Drawing

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22140_01SUM.gif
State of application right Registered
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