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PHOTOCATALYST FILM AND ITS MANUFACTURING METHOD

Patent code P08A014221
Posted date Feb 13, 2009
Application number P2006-157564
Publication number P2007-325995A
Patent number P4905659
Date of filing Jun 6, 2006
Date of publication of application Dec 20, 2007
Date of registration Jan 20, 2012
Inventor
  • (In Japanese)藤野 隆由
Applicant
  • (In Japanese)学校法人近畿大学
Title PHOTOCATALYST FILM AND ITS MANUFACTURING METHOD
Abstract PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photocatalyst film which enables a realization of a high photocatalyst activity since the reaction surface area of titanium dioxide per unit area of a substrate is large.
SOLUTION: The photocatalyst film 3 comprises titanium dioxide having the photocatalyst activity, which is formed on the surface of a porous anodized film 2 and the inner surface of an aperture 21.
Outline of related art and contending technology (In Japanese)


近年、光触媒は、環境分野やエネルギー分野で有効に利用できるため、非常に注目されている。具体的には、光触媒は、例えばNOx等の有害物を分解できるので、環境浄化の手段として利用できる。また、光触媒は、例えばチタニアナノアレイや色素増感太陽電池等に利用できる。



ところで、光触媒の一つとして注目されている二酸化チタンは、粒子として合成される。しかし、粒子の二酸化チタンは、取扱いが不便であり、また、使用後の回収が困難である。そこで、二酸化チタンを基板に固定して光触媒皮膜として使用することが、一般に行われている。その固定法としては、スパッタリング法やスラリー法やゾルゲル法(特許文献1参照)が知られている。



一方、二酸化チタンを光触媒皮膜として使用する場合には、取扱いは便利となるが、二酸化チタンの、光に反応する表面積(以下、「反応表面積」と称する)が、二酸化チタンを粒子のままで使用する場合に比して、減少してしまい、それ故、光触媒能が低くなる。
【特許文献1】
特開2004-154779号公報

Field of industrial application (In Japanese)


本発明は、光触媒能を有する二酸化チタンからなる光触媒皮膜の製造方法に関するものである。

Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】
 
多孔性の陽極酸化皮膜を、チタニル酸塩と、チタニルと陽イオン錯体を形成する錯化剤と、を含む混合浴中で、電解処理して、陽極酸化皮膜の表面及び孔内面に、二酸化チタンを析出させて二酸化チタン皮膜を形成する、チタニル電解処理工程と、
二酸化チタン皮膜を、焼成して、光触媒能を有する二酸化チタンからなる光触媒皮膜に変化させる、焼成処理工程と、を有し、
更に、上記チタニル電解処理工程の前に、
多孔性の陽極酸化皮膜を、金属塩の浴中で、電解処理して、陽極酸化皮膜の孔中に、金属単体を析出させる、金属電解処理工程、を有しており、
上記焼成処理工程が、更に、熱拡散によって、金属単体を二酸化チタンに担持させるものである、ことを特徴とする光触媒皮膜の製造方法。

【請求項2】
 
陽極酸化皮膜として、アルミニウム、マグネシウム、チタン、又は各々の合金を、陽極酸化処理することによって、形成されたものを、用いる、請求項1記載の光触媒皮膜の製造方法。

【請求項3】
 
チタニル酸塩として、硫酸チタニルを用いる、請求項1又は2に記載の光触媒皮膜の製造方法。

【請求項4】
 
錯化剤として、シュウ酸を用いる、請求項1~3のいずれか一つに記載の光触媒皮膜の製造方法。

【請求項5】
 
金属塩として、白金、金、パラジウム、ルテニウム、銀、スズ、マンガン、銅、コバルト、又はニッケルの、塩を用いる、請求項1~4のいずれか一つに記載の光触媒皮膜の製造方法。
IPC(International Patent Classification)
F-term
Drawing

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JP2006157564thum.jpg
State of application right Registered
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