Top > Search of Japanese Patents > METHOD FOR CONTROLLING LOCAL GENE EXPRESSION

METHOD FOR CONTROLLING LOCAL GENE EXPRESSION achieved

Patent code P08A014266
File No. K008P03
Posted date Feb 27, 2009
Application number P1999-322481
Publication number P2001-136962A
Patent number P4380857
Date of filing Nov 12, 1999
Date of publication of application May 22, 2001
Date of registration Oct 2, 2009
Inventor
  • (In Japanese)弓場 俊輔
  • (In Japanese)船津 高志
Applicant
  • (In Japanese)国立研究開発法人科学技術振興機構
Title METHOD FOR CONTROLLING LOCAL GENE EXPRESSION achieved
Abstract PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for realizing gene expression in arbitrary local region.
SOLUTION: This method comprises irradiating infrared laser selectively to local region such as a single cell or an organ of bion increasing the temperature of the local region of the bion and causing site directed gene recombination by heat shock.
Outline of related art and contending technology (In Japanese)


固体の発生において、最も簡便に標的細胞の変化を引き起こす方法としては、従来よりレーザー光を用いたレーザーアブレーション法が知られている。この方法は、色素レーザーを照射することにより、ラジカルを発生させ、標的細胞を死滅させる方法で、特定の細胞を死滅させることによって個体の発生、分化に変化を起こす。しかし、この方法では、細胞を生かしたままの状態で遺伝子発現を調節することができないという点が大きな問題となっている。



同様の手法として、紫外光のパルスレーザーを細胞に照射して遺伝子発現に変調を加える方法も知られている。しかし、この方法では、強力な紫外光を照射するため、やはり細胞の損傷が避けられないことが問題となっている。



従来より、医学、農学を始めとする分野において、生物個体に部位特異的遺伝子組換えを引き起こさせることが行われており、そのための様々な遺伝子工学的手法が開発されている。



部位特異的遺伝子組換えを行う方法としては、部位特異的遺伝子組換え酵素Creと組換え標的配列を含むベクターを用いる遺伝子工学的手法が知られている。これらの方法では、目的とする遺伝子と構成的プロモーターを、組換え標的配列で挟まれた転写抑制カセットによって隔離しておき、部位特異的遺伝子組換え酵素遺伝子の作用によって、二つの組換え標的配列によって挟まれた転写抑制カセットが組換えられ、除かれる。そして、これによりプロモーターが目的遺伝子の転写を始める。部位特異的組換え酵素遺伝子は、何らかの発現誘導があった場合のみ活性化されるので、二つの組換え標的配列に挟まれた部位が除去されるためには、任意組織で部位特異的組換え酵素遺伝子のような特定遺伝子の発現を限定するプロモーターが必要である。しかし、あらゆる細胞や組織についてこのような特定部位で作用するプロモーターを得ることはほとんど不可能であり、任意の局所領域における特異的遺伝子組換えは、事実上不可能であった。



そこで、この出願の発明は、以上の通りの事情に鑑みてなされたものであり、従来技術の問題点を解消し、任意の局所領域において遺伝子発現を起こさせる方法を提供することをその課題としている。



この出願の発明は、上記の課題を解決するものとして、以下の局所的遺伝子発現調節法等を提供する。
<1>構成的プロモーターの下流に組換え標的配列、転写抑制カセット、熱ショックプロモーター、部位特異的組換え酵素遺伝子、組換え標的配列が順に存在しており、最下流に目的遺伝子が存在する構造を有する熱誘導ベクターが導入された形質転換細胞を保有する非ヒト生物個体の局所領域に赤外線レーザーを選択的に照射して、局所領域の温度を上昇させることにより、熱ショックによる部位特異的遺伝子組換えを引き起こし、目的遺伝子を発現させることを特徴とする局所的遺伝子発現調節法。
<2>熱誘導ベクターにおける部位特異的組換え酵素遺伝子がCreであり、組換え標的配列がloxPであることを特徴とする請求項1の局所的遺伝子発現調節法。
<3>赤外線レーザーの局所的照射が、少なくとも赤外線レーザー発信装置、顕微鏡、および対象非ヒト生物個体を装着する試料台からなる赤外線レーザー顕微鏡システムを用いて行われることを特徴とする請求項1または2の局所的遺伝子発現調節法。
<4>非ヒト生物個体に導入される熱誘導ベクターであって、構成的プロモーターの下流に組換え標的配列、転写抑制カセット、熱ショックプロモーター、部位特異的組換え酵素遺伝子、組換え標的配列が順に存在しており、最下流に目的遺伝子が存在する構造を有することを特徴とする熱誘導ベクター。
<5>部位特異的組換え酵素遺伝子がCreであり、組換え標的配列がloxPであることを特徴とする熱誘導ベクター。
<6>請求項4または5に記載の熱誘導ベクターが導入された形質転換細胞を保有する非ヒト生物個体。

Field of industrial application (In Japanese)


この出願の発明は、生物個体に部位特異的に遺伝子組換えを引き起こさせる遺伝子工学的手法に関するものである。さらに詳しくは、この出願の発明は、生物個体の局所領域に赤外線レーザーを照射することにより部位特異的遺伝子組換えを引き起こさせる遺伝子工学的手法に関するものである。

Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】
 
構成的プロモーターの下流に組換え標的配列、転写抑制カセット、熱ショックプロモーター、部位特異的組換え酵素遺伝子、組換え標的配列が順に存在しており、最下流に目的遺伝子が存在する構造を有する熱誘導ベクターが導入された形質転換細胞を保有する非ヒト生物個体の局所領域に赤外線レーザーを選択的に照射して、局所領域の温度を上昇させることにより、熱ショックによる部位特異的遺伝子組換えを引き起こし、目的遺伝子を発現させることを特徴とする局所的遺伝子発現調節法。

【請求項2】
 
熱誘導ベクターにおける部位特異的組換え酵素遺伝子がCreであり、組換え標的配列がloxPであることを特徴とする請求項1の局所的遺伝子発現調節法。

【請求項3】
 
赤外線レーザーの局所的照射が、少なくとも赤外線レーザー発信装置、顕微鏡、および対象非ヒト生物個体を装着する試料台からなる赤外線レーザー顕微鏡システムを用いて行われることを特徴とする請求項1または2の局所的遺伝子発現調節法。

【請求項4】
 
非ヒト生物個体に導入される熱誘導ベクターであって、構成的プロモーターの下流に組換え標的配列、転写抑制カセット、熱ショックプロモーター、部位特異的組換え酵素遺伝子、組換え標的配列が順に存在しており、最下流に目的遺伝子が存在する構造を有することを特徴とする熱誘導ベクター。

【請求項5】
 
部位特異的組換え酵素遺伝子がCreであり、組換え標的配列がloxPであることを特徴とする熱誘導ベクター。

【請求項6】
 
請求項4または5に記載の熱誘導ベクターが導入された形質転換細胞を保有する非ヒト生物個体。
IPC(International Patent Classification)
F-term
Drawing

※Click image to enlarge.

JP1999322481thum.jpg
State of application right Registered
Reference ( R and D project ) PRESTO Form and Function AREA
Please contact us by E-mail or facsimile if you have any interests on this patent.


PAGE TOP

close
close
close
close
close
close
close