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ROTARY SHOOTING DEVICE meetings

Patent code P08A014289
File No. NI0600015
Posted date Mar 13, 2009
Application number P2006-318457
Publication number P2008-131993A
Patent number P5023329
Date of filing Nov 27, 2006
Date of publication of application Jun 12, 2008
Date of registration Jun 29, 2012
Inventor
  • (In Japanese)水野 勉
  • (In Japanese)堀内 学
  • (In Japanese)大橋 義納
  • (In Japanese)西本 誉
Applicant
  • (In Japanese)国立大学法人信州大学
Title ROTARY SHOOTING DEVICE meetings
Abstract PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a mechanism which adds amusement property in shooting a steel ball and in which the ball shot onto a game face gives a visual savor to a player.
SOLUTION: The amusement property is raised by viewing the shooting state of the steel ball in a non-contact manner. Besides, the ball is shot by imparting vertical force to the steel ball magnetically, generating friction with a rail, and adding rotation to the ball. Thus, the balls shot onto the game face are hit against nails and moved at random, thereby the more balls can be left on the game surface.
Outline of related art and contending technology (In Japanese)


EMLは磁性体を瞬間的な電磁力の作用によって非接触で発射させる装置である。EMLの用途の一つとしてパチンコ機の遊戯球発射装置(特許文献1参照)がある。従来鋼球の発射は回転モータ、リニアアクチュエータ、またはモータとばねなどを用いて槌によって機械的に打ち出すものであった(特許文献2参照)。パチンコ台は遊戯面に液晶画面などによる様々な演出や趣向(特許文献3参照)が施されているのに対して、鋼球の発射には全く趣向が凝らされていない。これに対して特開2004-351088では鋼球を回転発射することで遊戯面に球を多く残し、アミューズメント性を追求している。これはレールと接触した状態で鋼球を台座に保持して、始端位置から終端位置までレール上をスライド移動して、鋼球に回転を与えて発射する機械式の回転発射装置であった。



【特許文献1】
特開2003-159387号公報
【特許文献2】
特開2003-033481号公報
【特許文献3】
特開2003-030679号公報

Field of industrial application (In Japanese)


本発明は、電磁ランチア(以下、EMLと略記)の発射機構に関するものである。

Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】
 
左右に相対して配置された第1および第2の磁極からなるギャップを有するコアと、
前記第1および第2の磁極のいずれか一方に挿入されたくまとりコイルと、
前記磁極に沿ってギャップ中に配置されたレールと、
前記ギャップをはさんで前記コアに巻きつけた2つのコイルを有し、
前記2つのコイルは巻き数が異なる発射装置。
IPC(International Patent Classification)
F-term
Drawing

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JP2006318457thum.jpg
State of application right Registered
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