TOP > 国内特許検索 > ブランチライン型偏波分離器

ブランチライン型偏波分離器

国内特許コード P09A014943
整理番号 540-0001
掲載日 2010年1月12日
出願番号 特願2005-179486
公開番号 特開2006-352781
登録番号 特許第3994169号
出願日 平成17年6月20日(2005.6.20)
公開日 平成18年12月28日(2006.12.28)
登録日 平成19年8月10日(2007.8.10)
発明者
  • 安藤 浩哉
出願人
  • 独立行政法人国立高等専門学校機構
発明の名称 ブランチライン型偏波分離器
発明の概要 【課題】 確実に偏波分離を行うことができ、しかも簡易な製造方法によって製造可能なブランチライン型偏波分離器を提供すること。
【解決手段】 ブランチライン型偏波分離器において、分岐導波管を構成する溝部5は、入力ポートに入力される電磁波のうち、Z方向に偏波した直線偏波成分のうちの少なくとも一部を通過させるよう形成され、主導波管を構成する溝部において、各分岐導波管が主導波管から分岐するための接続面のうち、少なくとも1つの分岐導波管に係る接続面よりも出力ポート側に、当該溝部の深さを当該溝部の他の部分よりも浅くして所定の深さとした部分を含む狭化部7aを設けた、ことを特徴とする。
【選択図】図1
従来技術、競合技術の概要


導波管を利用した偏波分離器は種々開発されている。図8に、この偏波分離器の一種であるブランチライン型偏波分離器の例を示す。同図に示すように、ブランチライン型偏波分離器は、入出力ポートP10,P20を有する主導波管10と、入出力ポートP30,P40を有する副導波管20とを、複数の分岐導波管30で接続する構成をとっている。



導波管は、入力された電磁波の電界の振動方向(偏波方向)と直交する方向の管幅Lと、電磁波の周波数の周波数fとが、f<c/2L(cは光の速度)を満たす場合、入力された電磁波を通さないという性質を有している(f=c/2Lを満たす周波数は、遮断周波数と呼ばれる)。上記ブランチライン型偏波分離器はこの性質を利用したものである。入出力ポートP10から入力した電磁波は、分岐導波管30の管幅と上記遮断周波数との関係によって互いに直交する2つの直線偏波波に偏波分離され、それぞれ入出力ポートP20,P40から出力される。



なお、特許文献1には、このようなブランチライン型偏波分離器の構成例が記載されている。



また、特許文献2に示される偏波分離器も種々ある偏波分離器の一つである。特許文献2に記載の偏波分離器では、導波管に入力された電磁波を、ステップ型導波管による反射及び短絡棒による遮断によって、互いに直交する直交偏波波に偏波分離している。
【特許文献1】
特開平6-260802号公報
【特許文献2】
特開平7-58519号公報

産業上の利用分野


本発明はブランチライン型偏波分離器に関し、特に、確実に偏波分離を行うブランチライン型偏波分離器を簡易な製造方法で製造するための技術に関する。

特許請求の範囲 【請求項1】
第1の平板部材の表面に一定幅の溝部を形成して、第2の平板部材の平坦な表面を張り合わせてなる主導波管であって、該溝部の一方端部が電磁波を入力する入力ポートであり、該溝部の他方端部が電磁波を出力する出力ポートである主導波管と、
前記主導波管を構成する溝部から分岐するための接続面を有する溝部を、それぞれ前記第1の平板部材上に形成して、前記第2の平板部材の平坦な表面を張り合わせてなる少なくとも1つの分岐導波管と、
前記第1の平板部材の表面に一定幅の溝部を形成して、前記第2の平板部材の平坦な表面を張り合わせてなる前記主導波管と平行に延伸する副導波管であって、前記分岐導波管を構成する溝部により前記主導波管と接続される副導波管と、
を含むブランチライン型偏波分離器において、
前記分岐導波管を構成する溝部は、前記入力ポートに入力される電磁波のうち、該第1の平板部材に対して水平方向に偏波した直線偏波成分のうちの少なくとも一部を通過させるよう形成され、該通過した電磁波は、前記副導波管における前記出力ポート側の端部から出力され、
前記主導波管を構成する溝部において、前記各分岐導波管が前記主導波管から分岐するための接続面のうち、少なくとも1つの前記分岐導波管に係る接続面よりも出力ポート側に、前記出力ポートに向けて徐々に前記溝部の深さを浅くすることにより、前記所定の深さに近づくように形成される深さ変化部を設け
前記副導波管における前記入力ポート側の端部には電波吸収体が備えられる、
ことを特徴とするブランチライン型偏波分離器。
国際特許分類(IPC)
Fターム
画像

※ 画像をクリックすると拡大します。

JP2005179486thum.jpg
出願権利状態 登録
本技術について、ライセンスや共同研究等をご希望の方は、下記「問合せ先」まで直接お問い合わせください。


PAGE TOP

close
close
close
close
close
close
close