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SAMPLE HOLDER FOR ELECTRON MICROSCOPE

Patent code P10P006591
File No. K028P12
Posted date Apr 16, 2010
Application number P2008-226466
Publication number P2010-061990A
Patent number P5437612
Date of filing Sep 3, 2008
Date of publication of application Mar 18, 2010
Date of registration Dec 20, 2013
Inventor
  • (In Japanese)川▲崎▼ 忠寛
Applicant
  • (In Japanese)国立研究開発法人科学技術振興機構
Title SAMPLE HOLDER FOR ELECTRON MICROSCOPE
Abstract PROBLEM TO BE SOLVED: To enlarge a conductance for gas lead-in and exhaustion to and from a sample chamber.
SOLUTION: A sample holder for an electron microscope has: the sample chamber 20 placing the sample to be irradiated by an electron beam; and gas lead-in and exhaustion pipes where either a lead-in pipe 12 for introducing gas to the sample chamber 20 or an exhaust pipe 14 for exhausting the gas from the sample chamber 20 is arranged to surround the other of the lad-in pipe and the exhaust pipe. The conductance for introduction and exhaustion of the gas can be enlarged since cross-sections of the lead-in pipe and the exhaust pipe are enlarged.
Outline of related art and contending technology (In Japanese)


電子顕微鏡は電子線を用い試料を観察するため、試料は真空中に配置されることが多い。しかしながら、試料の反応過程の電子顕微鏡観察を行う場合など、試料をガスに暴露させながら電子顕微鏡観察を行う場合がある。このような場合、試料を試料室内に配置し、電子顕微鏡の筐体の外から試料室にガスを導入することとなる。



図1は、透過型電子顕微鏡に配置された試料ホルダ10を示す模式図である。図1のように、電子顕微鏡60の筐体64内は真空となっている。電子線62が試料室20内の試料(不図示)を透過することにより、試料を観察することができる。試料室20には、ガス供給部52からガスが供給される。また、試料室20から真空ポンプ54によりガスが排気される。ガス調整部50は、ガスの流量や圧力を調整する。Oリング68は、筐体64内を真空に保持するため筐体64と試料ホルダ10との間に設けられている。



特許文献1には、電子顕微鏡の試料冷却ホルダに液体ヘリウムを導入する電子顕微鏡用試料ホルダが記載されている。
【特許文献1】
特開2000-251819号公報

Field of industrial application (In Japanese)


本発明は、電子顕微鏡用試料ホルダに関し、特に、試料を配置する試料室にガスを導入することが可能な電子顕微鏡用試料ホルダに関する。

Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】
 
電子線を照射する試料を配置する試料室と、
前記試料室にガスを導入するための導入管と前記試料室からガスを排出するための排出管とのいずれか一方が、前記導入管と前記排出管との他方の周囲を囲むように設けられたガス導排管と、
を具備し、
前記ガス導排管の前記導入管と前記排出管との前記他方以外の空間は全て前記導入管と前記排出管との前記一方であり
前記試料は前記試料室内に配置され、前記試料室の前記試料の上下には前記電子線を透過させる窓が設けられ、前記窓は前記試料室内のガス雰囲気と真空とを隔てていることを特徴とする電子顕微鏡用試料ホルダ。

【請求項2】
 
電子線を照射する試料を配置する試料室と、
前記試料室にガスを導入するための導入管と前記試料室からガスを排出するための排出管とのいずれか一方が、前記導入管と前記排出管との他方の周囲を囲むように設けられたガス導排管と、
を具備し、
前記ガス導排管の前記導入管と前記排出管との前記他方以外の空間は全て前記導入管と前記排出管との前記一方であり、
前記導入管と前記排出管との前記一方の径は、前記試料室より前記試料室と反対側において大きく、前記導入管と前記排出管との前記他方の径は、前記試料室より前記反対側において大きいことを特徴とする電子顕微鏡用試料ホルダ

【請求項3】
 
電子線を照射する試料を配置する試料室と、
前記試料室にガスを導入するための導入管と前記試料室からガスを排出するための排出管とのいずれか一方が、前記導入管と前記排出管との他方の周囲を囲むように設けられたガス導排管と、
を具備し、
前記ガス導排管の前記導入管と前記排出管との前記他方以外の空間は全て前記導入管と前記排出管との前記一方であり、
前記導入管にガスが導入される方向と前記排出管からガスが排出される方向とは異なり、
電子顕微鏡用試料ホルダは、前記導入管と前記排出管との前記一方の前記試料室と反対側に前記導入管と前記排出管との前記一方より太く前記ガス導排管の延伸方向とは異なる方向からガスを導入または排出するバッファ室を具備することを特徴とする電子顕微鏡用試料ホルダ

【請求項4】
 
前記ガス導排管が前記試料室に接続される領域において、前記導入管と前記排出管との前記一方は前記導入管と前記排出管との前記他方の周囲を囲んでいることを特徴とする請求項1から3のいずれか一項記載の電子顕微鏡用試料ホルダ。

【請求項5】
 
前記試料室は前記ガス導排管が接続される一面から形成された空洞を有し、
前記導入管と前記排出管との前記他方は前記空洞内に挿入され、前記導入管と前記排出管との前記一方は、前記一面に前記空洞を囲むように接続されていることを特徴とする請求項1から4のいずれか一項記載の電子顕微鏡用試料ホルダ。

【請求項6】
 
前記導入管と前記排出管との前記他方は前記導入管であり、前記導入管と前記排出管との前記一方は前記排出管であることを特徴とする請求項1から5のいずれか一項記載の電子顕微鏡用試料ホルダ。

【請求項7】
 
前記導入管にガスが導入される方向と前記排出管からガスが排出される方向とは異なることを特徴とする請求項1、2、4から6のいずれか一項記載の電子顕微鏡用試料ホルダ。

【請求項8】
 
前記導入管と前記排出管との前記他方には、前記ガス導排管の延伸方向から前記ガスが導入または排出されることを特徴とする請求項3記載の電子顕微鏡用試料ホルダ。
IPC(International Patent Classification)
F-term
Drawing

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JP2008226466thum.jpg
State of application right Registered
Reference ( R and D project ) PRESTO Structures and control of interfaces AREA
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