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ANTIBACTERIAL AND ANTIFUNGAL AGENT commons meetings achieved

Patent code P10A015504
File No. 428-783
Posted date Jun 18, 2010
Application number P2009-075819
Publication number P2009-256346A
Patent number P5522428
Date of filing Mar 26, 2009
Date of publication of application Nov 5, 2009
Date of registration Apr 18, 2014
Priority data
  • P2008-082005 (Mar 26, 2008) JP
Inventor
  • (In Japanese)米村 俊昭
Applicant
  • (In Japanese)国立大学法人高知大学
Title ANTIBACTERIAL AND ANTIFUNGAL AGENT commons meetings achieved
Abstract PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an antibacterial and antifungal agent excellent in both antibacterial and antifungal characteristics, and good in durability and processability in addition.
SOLUTION: The antibacterial and antifungal agent includes a Co-Ag-Co three nuclei complex represented by formula (1) where n is an integer of 1-3, R1-R12are similarly or differently Hs or 1-6C alkyl groups, a group of R1-R3bound to N, a group of R4-R6, a group of R7-R9, or a group of R10-R12may be cross-linked to any other group, and R13is H or a 1-6C alkyl group.
Outline of related art and contending technology (In Japanese)



抗菌剤は、有機系抗菌剤と無機系抗菌剤に大別される。このうち無機系抗菌剤は、光や熱に弱く、ハロゲンなどにも鋭敏なため、耐久性に劣っている。また、長寿命の無機系抗菌剤として注目されている酸化チタンは、抗菌性発現のために光が必要であり、固体状態でしか加工できないなどの問題がある。このような耐久性や加工性などの問題は、無機系抗菌剤を紙、繊維、布帛などの基材に担持した抗菌製品の開発に大きな支障をもたらしている。また、抗菌製品には、好ましくは抗カビ性も更に有していることが要求され、抗菌性と抗カビ性の両特性を兼ね備えた抗菌・抗カビ剤の開発が望まれている。





銀イオンは、人体に対する毒性が低く、広い抗菌スペクトルを有しているため、種々の工業製品の抗菌処理に利用されている。例えば、特許文献1~特許文献3には、銀錯体の抗菌剤が提案されている。本発明者らも、非特許文献1に、下式(5)のCo-Ag-Co三核錯体が大腸菌Y1090(E. coli strain Y1090)に対して優れた抗菌活性を有していることを報告している。この錯体は、モノチオラト-コバルト(III)錯体と銀(I)イオンとの反応によって得られ、AgとCoが硫黄(S)で架橋されたS架橋ヘテロ三核錯体である。





【化1】




Field of industrial application (In Japanese)



本発明は、Co-Ag-Coの三核錯体を含有する抗菌・抗カビ剤に関するものである。本発明の抗菌・抗カビ剤は、例えば、紙、繊維、布帛、フィルターなどの紙・繊維製品類;木材、石膏ボードなどの建材製品のほか、フィルム、プラスチックなどの素材などに広く適用可能である。

Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】
 
下式(1)で表されるCo-Ag-Coの三核錯体を含有することを特徴とする抗菌性および抗カビ性の両方に優れた抗菌・抗カビ剤。
【化1】
 



式中、
nは1~3の整数であり、
R1~R12は同一または異なって、Hまたは炭素数が1~6のアルキル基であり、
Nに結合するR1~R3のいずれかの基、R4~R6のいずれかの基、R7~R9
いずれかの基、R10~R12のいずれかの基は、他のいずれかの基と架橋結合を有
していても良く、
R13は、Hまたは炭素数が1~6のアルキル基である。

【請求項2】
 
下式(2)、下式(3)、および下式(4)で表されるCo-Ag-Coの三核錯体の少なくとも一種を含有する請求項1に記載の抗菌・抗カビ剤。
【化2】
 



【化3】
 



【化4】
 



式中、nおよびR13は前と同じ意味である。

【請求項3】
 
光および無機塩に対する耐久性に優れたものである請求項1または2に記載の抗菌・抗カビ剤。
IPC(International Patent Classification)
F-term
Drawing

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State of application right Registered
Shikoku TLO is introducing the seeds of 4 inside 20 university and a technical college. Please ask to the following about the detailed contents of seeds. I am waiting for an inquiry.


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