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METHOD OF PRODUCING ENDLESS PATTERN, METHOD OF MANUFACTURING RESIN PATTERN MOLDING, ENDLESS MOLDING, RESIN PATTERN MOLDING, AND OPTICAL ELEMENT meetings

Patent code P10A015547
Posted date Jul 2, 2010
Application number P2009-038631
Publication number P2009-223310A
Patent number P5408649
Date of filing Feb 20, 2009
Date of publication of application Oct 1, 2009
Date of registration Nov 15, 2013
Priority data
  • P2008-039435 (Feb 20, 2008) JP
Inventor
  • (In Japanese)谷口 淳
Applicant
  • (In Japanese)学校法人東京理科大学
Title METHOD OF PRODUCING ENDLESS PATTERN, METHOD OF MANUFACTURING RESIN PATTERN MOLDING, ENDLESS MOLDING, RESIN PATTERN MOLDING, AND OPTICAL ELEMENT meetings
Abstract PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of producing an endless pattern applicable to an endless molding etc., by irradiating an electric beam or an ion beam, a method of manufacturing a resin pattern molding using the endless molding, the endless molding, resin pattern molding and an optical element.
SOLUTION: The method of producing endless pattern, when using a sensitive substrate which is cured or solubilize by irradiation of the electron beam or the ion beam includes steps of: rotating a sensitive substrate which is endless in a circumferential direction in the rotating direction; irradiating the substrate at a prescribed angle with the electron beam or ion beam; and removing a part of the substrate by the irradiation or by developing after the irradiation. If the substrate is not the sensitive substrate, a sensitive film is applied on the endless substrate of the circumferential direction. The beam may be irradiated while rotating the substrate or not rotating, however, in the latter case, the substrate is rotated while no beam is irradiated.
Outline of related art and contending technology (In Japanese)


ナノインプリント技術において、より一層の効率化、低コスト化、大面積化をはかる技術展開としてローラ転写方式が注目されている。



ローラ転写方式で用いられるモールドの従来の作製方法としては、めっきや樹脂などの微細パターンを有する膜を円筒状基板に巻き付ける方法や、機械加工による方法、レーザー加工による方法などが存在する。



しかし、前記巻き付けの方法では、つなぎ目が発生するという問題点がある。前記機械加工による方法では、加工工具が摩耗するため長時間加工すると形状が変化し、また溝状のパターンしか形成できない。前記レーザー加工の方法では、ビーム径をナノオーダーまで絞ることができず、ナノオーダーのパターンを有する無端状モールドの作製は困難である。



一方、電子ビームの照射方法としては、ディスクを回転させながら電子ビームを照射する方法(例えば、非特許文献1参照)や、曲面上に電子ビームを照射する方法(例えば、非特許文献2参照)が提案されている。

Field of industrial application (In Japanese)


本発明は、無端状モールドを形成できる無端状パターンの作製方法、無端状モールドを用いる樹脂パターン成形品の製造方法、これら製造方法によって得られる無端状モールド、樹脂パターン成形品、及び光学素子に関する。

Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】
 
円周方向において無端であり、電子ビーム又はイオンビームの照射によって硬化又は可溶化する基板を、回転方向に回転させる工程と、
前記基板の回転軸に向かって照射するときの入射角を0°としたときに、前記基板に所定の角度をつけて電子ビーム又はイオンビームを照射する工程と、
前記照射により又は前記照射後の現像により、前記基板の一部を除去する工程と、
を有する無端状パターンの作製方法。

【請求項2】
 
円周方向において無端であり、電子ビーム又はイオンビームの照射によって硬化又は可溶化する膜が付与された基板を、回転方向に回転させる工程と、
前記基板の回転軸に向かって照射するときの入射角を0°としたときに、前記膜に所定の角度をつけて電子ビーム又はイオンビームを照射する工程と、
前記照射により又は前記照射後の現像により、前記膜の一部を除去する工程と、
を有する無端状パターンの作製方法。

【請求項3】
 
前記基板を回転方向に回転させながら、前記電子ビーム又はイオンビームを照射することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の無端状パターンの作製方法。

【請求項4】
 
前記電子ビーム又はイオンビームの走査方向及び走査速度、前記基板の移動方向及び移動速度、並びに前記基板の回転方向及び回転速度のうち少なくとも1つを調節して、パターンを描画することを特徴とする請求項3に記載の無端状パターンの作製方法。

【請求項5】
 
前記電子ビーム又はイオンビームの照射時に前記基板を回転させないことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の無端状パターンの作製方法。

【請求項6】
 
前記電子ビーム又はイオンビームの前記基板に対する入射角が、30°以上80°以下であることを特徴とする請求項1~請求項5のいずれか1項に記載の無端状パターンの作製方法。

【請求項7】
 
前記電子ビーム又はイオンビームの前記基板に対する入射角が、40°以上80°以下であることを特徴とする請求項6に記載の無端状パターンの作製方法。

【請求項8】
 
前記電子ビーム又はイオンビームの前記基板に対する入射角を、基板の回転方向でプラス、逆回転方向でマイナスとしたとき、前記入射角が、-30°以上0°未満、又は0°より大きく+30°以下であることを特徴とする請求項1~請求項5のいずれか1項に記載の無端状パターンの作製方法。
IPC(International Patent Classification)
F-term
Drawing

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JP2009038631thum.jpg
State of application right Registered
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