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METHOD FOR PRODUCING OPTICALLY ACTIVE SULFOXIDE COMPOUND

Patent code P10A015641
File No. QPN03008
Posted date Aug 31, 2010
Application number P2003-122404
Publication number P2004-323445A
Patent number P3962813
Date of filing Apr 25, 2003
Date of publication of application Nov 18, 2004
Date of registration Jun 1, 2007
Inventor
  • (In Japanese)香月 勗
  • (In Japanese)宮崎 高則
Applicant
  • (In Japanese)国立大学法人九州大学
Title METHOD FOR PRODUCING OPTICALLY ACTIVE SULFOXIDE COMPOUND
Abstract PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing an optically active sulfoxide compound by carrying out asymmetric oxidation of a sulfide compound by using a niobium complex as a catalyst.
SOLUTION: The method for producing the optically active sulfoxide comprises carrying out asymmetric oxidation of a sulfide compound with urea-hydrogen peroxide adduct (UHP) by using, as a catalyst, a Nb complex containing Nb as a center metal and containing a compound represented by either one of formula (I) and formula (II) (wherein R1s are each independently hydrogen, a 6-12C aryl group, a 1-4C alkyl group or a 1-4C alkoxy group) as a ligand.
Outline of related art and contending technology (In Japanese)


現在、不斉触媒反応は、有機合成化学の分野における主要なトピックの一つであり、様々な金属のキラル錯体の触媒作用が広く研究されている。その結果、種々の高エナンチオ選択的な反応プロセスが開発されてきた。しかしながら、金属の中にはその錯体を用いた不斉触媒反応が充分に開発されていなものが存在し、かかる金属の中の一つにニオブがある。



ニオブは、窒素、サレン、ポリフィリンと錯体を形成することが報告されており(非特許文献1及び2参照)、ニオブ錯体の中には、ルイス酸や酸化触媒等としての触媒作用を示すものが存在することが知られている。しかしながら、ニオブ触媒を用いた不斉反応は、ディールス・アルダー反応やエポキシ化反応等に限られており、しかも、これらの反応におけるエナンチオ選択性はあまり高くない。



一方、スルフィド化合物の不斉酸化反応(スルホキシド化反応)により、光学活性なスルホキシド化合物が得られることが知られており、該反応は医農薬品の合成において重要であるが、該反応に上述のニオブ錯体を触媒として使用した例は、これまで知られていない。



【非特許文献1】
ホワース(Howarth)及びギレスピー(Gillespie),モレキュルズ(Molecules)[オンライン・コンピュータ・ファイル],2000年,第5号,p.993~997
【非特許文献2】
松田,坂本,コシマ及び村上,ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサイエティ(J. Am, Chem. Soc.),1985年,107巻,p.6415~6416

Field of industrial application (In Japanese)


本発明は、光学活性なスルホキシド化合物の製造方法に関し、特にNb(サレン)錯体を触媒として使用する光学活性なスルホキシド化合物の製造方法に関するものである。なお、本発明の方法は、特に医農薬品の合成において有用である。

Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】
 
Nbを中心金属とし、下記式(I)及び式(II)の何れかで表される化合物を配位子とするNb(サレン)錯体を触媒として使用し、スルフィド化合物を尿素-過酸化水素付加物(UHP)で不斉酸化する光学活性なスルホキシド化合物の製造方法であって、
前記式(I)で表される化合物が下記式(III)及び式(IV)の何れかで表され、
前記式(II)で表される化合物が下記式(V)及び式(VI)の何れかで表されることを特徴とする光学活性なスルホキシド化合物の製造方法。
【化1】
 


【化2】
 


【化3】
 


【化4】
 


【化5】
 


【化6】
 


(I)、式(II)、式(III)、式(IV)、式(V)及び式(VI)において、R1はそれぞれ独立して水素、炭素数6~12のアリール基、炭素数1~4のアルキル基、又は炭素数1~4のアルコキシ基を示す。]

【請求項2】
 
前記R1がフェニル基及び3,5-ジメチルフェニル基からなる群から選択されることを特徴とする請求項1に記載の光学活性なスルホキシド化合物の製造方法。

【請求項3】
 
前記スルフィド化合物が下記式(VII)で表されることを特徴とする請求項1に記載の光学活性なスルホキシド化合物の製造方法。
【化7】
 


(式中、R2は炭素数6~14のアリール基又は炭素数7~17のアラルキル基で;R3は炭素数1~15のアルキル基を示す。)

【請求項4】
 
前記スルホキシド化合物が下記式(VIII)で表されることを特徴とする請求項1に記載の光学活性なスルホキシド化合物の製造方法。
【化8】
 


(式中、R2及びR3は上記と同義である。)

【請求項5】
 
前記R2が、p-メトキシフェニル基、p-ニトロフェニル基、p-ブロモフェニル基、p-クロロフェニル基、o-ブロモフェニル基、フェニル基及びベンジル基からなる群から選択され、前記R3が、メチル基及びエチル基からなる群から選択されることを特徴とする請求項3又は4に記載の光学活性なスルホキシド化合物の製造方法。

【請求項6】
 
溶媒に、Nb化合物と上記(III)、式(IV)、式(V)及び式(VI)の何れかで表される化合物とを加え混合した後、スルフィド化合物と尿素-過酸化水素付加物(UHP)とを加えることを特徴とする請求項1に記載の光学活性なスルホキシド化合物の製造方法。

【請求項7】
 
前記(III)、式(IV)、式(V)及び式(VI)の何れかで表される化合物の使用量が、前記Nb化合物中のNb元素1molに対し1~2molであることを特徴とする請求項6に記載の光学活性なスルホキシド化合物の製造方法。

【請求項8】
 
-20℃~40℃で不斉酸化することを特徴とする請求項1に記載の光学活性なスルホキシド化合物の製造方法。
IPC(International Patent Classification)
F-term
Drawing

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JP2003122404thum.jpg
State of application right Registered
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