Top > Search of Japanese Patents > METHOD FOR PRODUCING PHOSPHONIC ACID ANALOGUE, AND CATALYST

METHOD FOR PRODUCING PHOSPHONIC ACID ANALOGUE, AND CATALYST commons

Patent code P100000154
File No. E076P118
Posted date Apr 3, 2009
Application number P2009-060120
Publication number P2010-209049A
Patent number P5135264
Date of filing Mar 12, 2009
Date of publication of application Sep 24, 2010
Date of registration Nov 16, 2012
Inventor
  • (In Japanese)小林 修
  • (In Japanese)山下 恭弘
Applicant
  • (In Japanese)国立研究開発法人科学技術振興機構
Title METHOD FOR PRODUCING PHOSPHONIC ACID ANALOGUE, AND CATALYST commons
Abstract PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optically active proline analogue (phosphonic acid analogue).
SOLUTION: This method for producing the optically active proline phosphonic acid analogue, comprising reacting an α-aminophosphonate analogue with an α, β-unsaturated carbonyl compound, is characterized in that the reaction is performed in the presence of a substance consisting of compounds represented by general formula [I] and a compound represented by general formula [II]: MX (wherein, M is Cu or Ag; X is an anion).
Outline of related art and contending technology (In Japanese)


α‐アミノホスホン酸エステルから誘導されるSchiff塩基と、α,β-不飽和カルボニル化合物との不斉[3+2]付加環化反応は、光学活性なプロリン類縁体(ホスホン酸類縁体)を合成する為に、有益である。そして、光学活性なプロリン類縁体(ホスホン酸類縁体)は、様々な生理活性を示す。従って、前記不斉[3+2]付加環化反応は、創薬の観点から、興味深い。

Field of industrial application (In Japanese)


本発明は、例えば光学活性なプロリン類縁体のホスホン酸類縁体に関する。

Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】
 
下記一般式[III]で表される化合物とα,β-不飽和カルボニル化合物とを反応させて光学活性なプロリンのホスホン酸エステルを製造する方法であって、
前記反応は、下記の一般式[I]で表される化合物と下記の一般式[II]で表される化合物とで構成される物質の存在下で行われる
ことを特徴とする光学活性プロリンホスホン酸エステルの製造方法。
一般式[I]


[一般式[I]中、R1,R2、R1とR2とによって、-O-(CH2n-O-(n=1,2)が構成される基である。R3は、アルキル基、アルケニル基、アリール基またはアラルキル基である。]
一般式[II]
MX
[一般式[II]中、Mは、Cu又はAgである。Xは陰イオンである。]
一般式[III]


[一般式[III]中、R4はアリール基、アルケニル基またはアラルキル基である。R5,R6はH、アルキル基、アルケニル基、アラルキル基またはアリール基である。R7はアルコキシ基である。]

【請求項2】
 
下記一般式[III]で表される化合物とα,β-不飽和カルボニル化合物とを反応させて光学活性なプロリンのホスホン酸エステルを製造する方法であって、
前記反応は、下記の一般式[I]で表される化合物と下記の一般式[II]で表される化合物と下記の一般式[Z]で表される化合物とで構成される物質の存在下で行われる
ことを特徴とする光学活性プロリンホスホン酸エステルの製造方法。
一般式[I]


[一般式[I]中、R1,R2は、R1とR2とによって、-O-(CH2n-O-(n=1,2)が構成される基である。R3は、アルキル基、アルケニル基、アリール基またはアラルキル基である。]
一般式[II]
MX
[一般式[II]中、MはCu又はAgである。Xは陰イオンである。]
一般式[Z]
NY
[一般式[Z]中、NはLi,Na,K,Cs,Mg,Ca,Sr又はBaである。YはH,OR,NR2又はN(SiR32(R=炭化水素基)である。]
一般式[III]


[一般式[III]中、R4はアリール基、アルケニル基またはアラルキル基である。R5,R6はH、アルキル基、アルケニル基、アラルキル基またはアリール基である。R7はアルコキシ基である。]

【請求項3】
 
一般式[II]のXがClO4,BF4,PF6,NO3,F,Cl,Br,I,SO4R,OCOR,OR,NR2又はN(SiR32(R=炭化水素基)である
ことを特徴とする請求項1又は請求項2の光学活性プロリンホスホン酸エステルの製造方法。

【請求項4】
 
一般式[III]のR4はフェニル基を有する基、R5,R6はH又は炭素数が1~10のアルキル基、R7は炭素数が1~10のアルコキシ基である
ことを特徴とする請求項1~請求項3いずれかの光学活性プロリンホスホン酸エステルの製造方法。

【請求項5】
 
α,β-不飽和カルボニル化合物が下記の一般式[IV]で表される化合物である
ことを特徴とする請求項1~請求項4いずれかの光学活性プロリンホスホン酸エステルの製造方法。
一般式[IV]



[R8,R9,R10はH、アルキル基、アルケニル基、アリール基またはアラルキル基である。R11アルコキシ基である。]

【請求項6】
 
一般式で表される化合物により構成される錯体の存在下で反応が行われる
ことを特徴とする請求項1~請求項5いずれかの光学活性プロリンホスホン酸エステルの製造方法。

【請求項7】
 
下記一般式[III]で表される化合物とα,β-不飽和カルボニル化合物とを反応させて光学活性なプロリンのホスホン酸エステルを製造するに際して用いられる触媒であって、
下記の一般式[I]で表される化合物と下記の一般式[II]で表される化合物とで構成される
ことを特徴とする触媒。
一般式[I]


[一般式[I]中、R1,R2は、R1とR2とによって、-O-(CH2n-O-(n=1,2)が構成される基である。R3は、アルキル基、アルケニル基、アリール基またはアラルキル基である。]
一般式[II]
MX
[一般式[II]中、Mは、Cu又はAgである。Xは陰イオンである。]
一般式[III]



[一般式[III]中、R4はアリール基、アルケニル基またはアラルキル基である。R5,R6はH、アルキル基、アルケニル基、アラルキル基またはアリール基である。R7はアルコキシ基である。]

【請求項8】
 
下記一般式[III]で表される化合物とα,β-不飽和カルボニル化合物とを反応させて光学活性なプロリンのホスホン酸エステルを製造するに際して用いられる触媒であって、
下記の一般式[I]で表される化合物と下記の一般式[II]で表される化合物と下記の一般式[Z]で表される化合物とで構成される
ことを特徴とする触媒。
一般式[I]


[一般式[I]中、R1,R2は、R1とR2とによって、-O-(CH2n-O-(n=1,2)が構成される基である。R3は、アルキル基、アルケニル基、アリール基またはアラルキル基である。]
一般式[II]
MX
[一般式[II]中、MはCu又はAgである。Xは陰イオンである。]
一般式[Z]
NY
[一般式[Z]中、NはLi,Na,K,Cs,Mg,Ca,Sr又はBaである。YはH,OR,NR2又はN(SiR32(R=炭化水素基)である。]

一般式[III]


[一般式[III]中、R4はアリール基、アルケニル基またはアラルキル基である。R5,R6はH、アルキル基、アルケニル基、アラルキル基またはアリール基である。R7はアルコキシ基である。]

【請求項9】
 
一般式[II]のXがClO4,BF4,PF6,NO3,F,Cl,Br,I,SO4R,OCOR,OR,NR2又はN(SiR32(R=炭化水素基)である
ことを特徴とする請求項7又は請求項8の触媒。

【請求項10】
 
一般式[III]のR4はフェニル基を有する基、R5,R6はH又は炭素数が1~10のアルキル基、R7は炭素数が1~10のアルコキシ基である
ことを特徴とする請求項7~請求項9いずれかの触媒。

【請求項11】
 
錯体であることを特徴とする請求項7~請求項10いずれかの触媒。
IPC(International Patent Classification)
F-term
State of application right Registered
Reference ( R and D project ) ERATO KOBAYASHI Highly Functionalized Reaction Environments AREA
Please contact us by E-mail or facsimile if you have any interests on this patent.


PAGE TOP

close
close
close
close
close
close
close